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1. 发明专利

JPWO2015093611A1 連続反応装置及びこれを用いる連続重合方法审中-公开
公开(公告)号：JPWO2015093611A1
公开(公告)日：2017-03-23
申请号：JP2015553631
申请日：2014-12-19
申请人：株式会社堀場エステック
发明人：平原　和弘 , 和弘平原 , 武田　隆信 , 隆信武田 , 哲夫清水 , 哲夫清水
IPC分类号： C08F2/01 , C08F2/06 , C08F12/06 , C08F20/10 , C08F22/30 , C08F36/04 , C08F297/02
CPC分类号： C08F2/01 , B01F3/0861 , B01F3/088 , B01F5/061 , B01F15/0416 , B01F15/065 , B01J19/0066 , B01J19/24 , B01J2219/00103 , B01J2219/00164 , B01J2219/24 , C08F2/26 , C08F12/18 , C08F20/14 , C08F20/42 , C08F2438/00 , C08F212/08 , C08F2220/1825 , C08F212/14 , C08F236/08 , C08F226/06 , C08F220/14 , C08F212/10 , C08F220/44
摘要：高い生産性で化合物を生成すること。第1原料供給部と、第2原料供給部と、反応部と、第1原料供給部から反応部に供給する第1原料の量と、第2原料供給部から反応部に供給する第2原料の量と、第1原料供給部から反応部に供給する第1原料の温度と、第2原料供給部から反応部に供給する2原料の温度と、を制御する制御部と、を有し、第1原料は、原料モノマーを含む原料モノマー溶液であり、第2原料は、重合開始剤を含む重合開始剤溶液であり、反応物は、原料モノマーがリビングアニオン重合反応してなる高分子化合物である。

2. 发明专利

JPH10306120A POLYMER COMPOUND, CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE RESIST MATERIAL AND METHOD FOR FORMING PATTERN 失效
公开(公告)号：JPH10306120A
公开(公告)日：1998-11-17
申请号：JP5336198
申请日：1998-03-05
申请人： SHINETSU CHEMICAL CO
发明人： NISHI TSUNEHIRO , HATAKEYAMA JUN , NAGURA SHIGEHIRO , ISHIHARA TOSHINOBU
IPC分类号： G03F7/039 , C08F10/02 , C08F12/08 , C08F20/04 , C08F20/10 , C08F20/42 , C08F22/30 , C08F299/00
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a polymer compound useful for a chemically amplified positive resist material excellent in sensitivity, resolution, plasma etching resistance, etc., by substituting a part or the whole of the H atoms of the OH groups and/or COOH groups of a compound having OH groups and/or COOH groups in the molecule by specified group(s) so as to provide a specified molecular weight. SOLUTION: An example of the objective compound is polyhydroxystyrene. A part or the whole of the H atoms of the OH groups and/or COOH groups thereof are substituted by group(s) of the formula to provide the compound with a weight-average molecular weight of 1,000 to 500,000. In the formula, R and R are each H, a 1-6C linear, branched or cyclic alkyl; R is a 1-18C (n+1)-valent hydrocarbon group; R and R , R and R , R and R , or R , R and R respectively may form a ring, wherein R and R are each a divalent or trivalent 1-6C hydrocarbon group, and R is an (n+2)-valent or (n+3)-valent 1-18C hydrocarbon group; R is a 1-18C hydrocarbon group, or alkoxy; and n is 1 to 6.

3. 发明专利

JPS4992158A 失效
公开(公告)号：JPS4992158A
公开(公告)日：1974-09-03
申请号：JP6573773
申请日：1973-06-11
IPC分类号： C08F2/00 , C08F2/38 , C08F22/30 , C08K5/04 , C08L33/14 , C09J4/00 , C09J4/04 , C09J133/14

5. 发明专利

JP2019512567A 光硬化性電子不足オレフィン含有組成物审中-公开
公开(公告)号：JP2019512567A
公开(公告)日：2019-05-16
申请号：JP2018546027
申请日：2017-03-01
申请人：ヘンケルアイピーアンドホールディングゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
发明人：ウッズ、ジョンジー. , パリアーディ、マリー , シャール、ジョエルディー. , ジャコビン、アンソニーエフ.
IPC分类号： C08F22/30 , C08F22/14 , C08F2/50 , C08F22/32
摘要：本発明は、光硬化性電子不足オレフィン含有組成物、例えば、特定の2−シアノアクリレート、2−シアノペンタジエノエート、メチリデンマロネート、及びシアン化ビニリデン、並びに光潜在性塩基を含有するものに関する。電磁スペクトルの放射線にばく露されると、組成物は、遅延硬化特性を示す。

6. 发明专利

JPH0237926B2 失效
公开(公告)号：JPH0237926B2
公开(公告)日：1990-08-28
申请号：JP13683182
申请日：1982-08-07
申请人： KOGYO GIJUTSUIN
发明人： MATSUMURA TERUICHIRO , TAKAHASHI AKIO , TSUKAMOTO JUN
IPC分类号： C08F8/00 , C08F2/34 , C08F6/00 , C08F8/50 , C08F20/00 , C08F20/42 , C08F22/00 , C08F22/30 , C08G61/00 , H01B1/12

7. 发明专利

JPH0119138B2 失效
公开(公告)号：JPH0119138B2
公开(公告)日：1989-04-10
申请号：JP50237080
申请日：1980-10-13
申请人： 3 EMU DOICHERANDO GMBH
发明人： BERETSUTA PAORO , BARARINO ANGERO
IPC分类号： G03C7/26 , C08F20/00 , C08F20/42 , C08F22/30 , C08F26/02 , G03C1/06 , G03C1/815

8. 发明专利

JP2015224331A シアノ基含有単量体、シアノ基含有重合体、およびそれらの製造方法审中-公开
标题翻译：含CYANO基团的单体，含有CYANO基团的聚合物及其生产方法
公开(公告)号：JP2015224331A
公开(公告)日：2015-12-14
申请号：JP2014111835
申请日：2014-05-30
申请人：株式会社日本触媒
发明人：金子知正 , 中村涼
IPC分类号： C08F22/30
摘要：【課題】良好な環化重合性を有するシアノ基含有単量体であって、重合体の原料として用いた場合、加工性を損なうことなく重合体に優れた耐熱性や耐溶剤性を付与することが可能なシアノ基含有単量体を提供することを目的とする。【解決手段】下記一般式(1)で表される単量体。【化1】 (R 1 、R 2 は、同一若しくは異なって、水素原子又はメチル基を表す。) 【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供具有良好的环化性能的含氰基单体，并且当用作聚合物的成分时，可以赋予聚合物优异的耐热性和耐溶剂性，而不牺牲加工性。解决方案：代表一种单体由通式（1）表示。（兰德稀有相同或不同，各自表示氢原子或甲基）。

9. 发明专利

JP2010031186A Organic and inorganic composite material, its manufacturing method and optical component 审中-公开
标题翻译：有机和无机复合材料及其制造方法和光学组件
公开(公告)号：JP2010031186A
公开(公告)日：2010-02-12
申请号：JP2008197054
申请日：2008-07-30
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： MOCHIZUKI HIROAKI , SUZUKI AKIRA , OBAYASHI TATSUHIKO
IPC分类号： C08L57/00 , C08F20/12 , C08F22/30 , C08F30/02 , C08K3/00 , G02B1/04
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic and inorganic composite material having a high light transmittance, a high refractive index and improved heat resistance, and to provide its manufacturing method and an optical product made by using the organic and inorganic composite material.
SOLUTION: The organic and inorganic composite material includes a thermoplastic resin having at least one unit structure shown by the following formula and an inorganic fine particle, wherein R
1 and R
3 are each independently a substituted or non-substituted alkoxy carbonyl group, a substituted or non-substituted aryl oxycarbonyl group, a substituted or non-substituted aryl group or a cyano group; and R
2 and R
4 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or non-substituted aryl alkoxycarbonyl group, a substituted or non-substituted aryl oxycarbonyl group, a substituted or non-substituted aryl group or a cyano group wherein R
1 and R
2 are each not connected to R
3 and R
4 .
COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT
摘要翻译：解决的问题：提供具有高透光率，高折射率和改善的耐热性的有机和无机复合材料，并提供其制造方法和通过使用有机和无机复合材料制成的光学产品。解决方案：有机和无机复合材料包括具有下式表示的至少一种单元结构的热塑性树脂和无机细颗粒，其中R 1 和R 3 < 取代或未取代的芳基氧基羰基，取代或未取代的芳基或氰基，各自独立地为取代或未取代的烷氧基羰基。 R 2和R 4各自独立地为氢原子，卤素原子，取代或未取代的芳基烷氧基羰基，取代或未取代的芳基氧基羰基取代或未取代的芳基或氰基，其中R 1和R 2各自不与R 3相连， SP> 4 。版权所有（C）2010，JPO＆INPIT

10. 发明专利

JP3942263B2 Polymer compound, a chemically amplified positive resist material and pattern forming method 失效
公开(公告)号：JP3942263B2
公开(公告)日：2007-07-11
申请号：JP5336198
申请日：1998-03-05
申请人：信越化学工業株式会社
发明人：茂広名倉 , 潤畠山 , 俊信石原 , 恒寛西
IPC分类号： C08F212/06 , G03F7/039 , C08F10/02 , C08F12/08 , C08F20/04 , C08F20/10 , C08F20/42 , C08F22/30 , C08F220/04 , C08F222/30 , C08F299/00

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