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    • 2. 发明公开
    • 반도체 메모리 소자 및 이의 제조 방법
    • 半导体存储器件及其制造方法
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    • 본발명의실시예에따른반도체메모리소자는셀 어레이영역과주변회로영역을포함하는기판, 상기기판의상기셀 어레이영역상에배치된접지선택라인, 상기접지선택라인상에배치된워드라인, 상기접지선택라인과상기워드라인사이에배치된절연막, 상기기판의상면에대해수직방향으로상기접지선택라인, 상기워드라인및 상기절연막을관통하는수직채널부및 상기기판의상기주변회로영역상에배치된제 1 주변회로게이트패턴을포함하되, 상기절연막은상기기판의상기셀 어레이영역에서상기주변회로영역상으로연장하여상기제 1 주변회로게이트패턴의상면을덮을수 있다.
    • 一种半导体存储器件包括衬底,地选择线,字线,绝缘层,垂直沟道部分和第一外围电路栅极图案。 衬底包括单元阵列区域和外围电路区域。 地选线位于单元阵列区域。 字线位于地面选择线上。 绝缘层位于地选择线和字线之间。 垂直沟道部分在垂直于衬底的顶表面的方向上穿透地选择线,字线和绝缘层。 第一外围电路栅极图案位于衬底的外围电路区域上。 绝缘层从单元阵列区域延伸到外围电路区域以覆盖第一外围电路栅极图案的顶表面。