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1. 发明授权

CN100445099C 曝光设备失效
公开(公告)号：CN100445099C
公开(公告)日：2008-12-24
申请号：CN200480012164.0
申请日：2004-12-08
申请人：西铁城控股株式会社
发明人：横山正史 , 盐田聪
IPC分类号： B41J2/445 , G03B27/32
CPC分类号： G03B27/04 , G03B27/73 , H04N1/2346 , H04N1/407
摘要：本发明提供一种曝光设备，其通过抑制温度改变的影响和实现精确的灰度等级再现而输出不受环境温度改变影响的拍摄质量稳定的图像。在所述曝光设备中，通过使用用来校正曝光密度的非线性的校正表，把输入的灰度等级数据P4转换成校正的灰度等级数据，并通过根据校正的灰度等级数据控制曝光头中的曝光条件在感光材料上进行灰度等级曝光；其中，转换表实际上包括多个光转换表，每个转换表用于每个指定的温度范围，并提供温度检测器，用于检测环境温度，利用这些条件按照由温度检测器提供的温度数据在选择数据的控制下选择一个合适的转换表。因而，甚至当环境温度改变时，这种曝光设备也能实现精确的灰度等级再现并输出拍摄质量稳定的图像。

2. 发明公开

CN103119519A 曝光系统有权
公开(公告)号：CN103119519A
公开(公告)日：2013-05-22
申请号：CN201180046322.4
申请日：2011-09-28
申请人：东友精细化工有限公司
发明人：崔凤珍 , 金龙焕
IPC分类号： G03F7/20 , G03F9/00 , G02F1/00
CPC分类号： G03B1/46 , G03B27/04 , G03F7/24
摘要：本发明涉及曝光系统，更具体地，本发明的曝光系统包括：发光单元；薄膜传送单元，薄膜贴合在其表面，并弯曲成圆、椭圆或具有部分曲率的状态传送；以及图案形成单元，将所述发光单元发射的光传递到贴合的所述薄膜，并在所述薄膜形成偏光图案。根据本发明，在连续地退绕卷曲在滚轴上的薄膜并形成偏光图案的情况下，也能够使薄膜的抖动及弯曲最小化，可对更为宽广的区域实现均匀的曝光，从而有助于改进图案相位差膜（pattern retarder）等的品质及提高生产效率。

3. 发明公开

CN1250488A 斯腾特氏支架的制备方法无效
公开(公告)号：CN1250488A
公开(公告)日：2000-04-12
申请号：CN98803235.X
申请日：1998-04-02
申请人：国际技术有限公司
发明人：托马斯·特罗茨纳 , 格里·戈姆林格
IPC分类号： C25D7/04 , C25D5/34 , C25D5/38 , C25D5/36 , C25D5/48 , C25D5/50 , B23H3/00 , G03B27/04
CPC分类号： G03B27/04 , A61F2/91 , A61F2/915 , A61F2002/3011 , A61F2002/30156 , A61F2002/30158 , A61F2002/91516 , A61F2002/91533 , A61F2002/91575 , A61F2230/0002 , A61F2230/0013 , A61F2230/0023 , A61F2230/0026 , G03F7/00 , G03F7/18
摘要：本发明公开一种斯腾特氏支架的制备方法,其涉及无需平面图案的边缘连接从而没有接点的加工管件。该方法包括步骤:将污物从管件(20)上除掉,用光敏抗蚀剂材料(24)涂覆金属管件外表面,将管件置于设计的装置内的同时旋转管件,同时使特定构型的照相框架负片在UV光源和管件(26)之间通过,将管件外表面裸露于光抗蚀剂显影液一定时间(28),将多于的显影液和未老化的刻蚀剂从管件外表面淋洗掉(30),用电化学方法处理管件除掉未被覆盖的金属(32)。

4. 发明授权

CN103119519B 曝光系统有权
公开(公告)号：CN103119519B
公开(公告)日：2016-02-17
申请号：CN201180046322.4
申请日：2011-09-28
申请人：东友精细化工有限公司
发明人：崔凤珍 , 金龙焕
IPC分类号： G03F7/20 , G03F9/00 , G02F1/00
CPC分类号： G03B1/46 , G03B27/04 , G03F7/24
摘要：本发明涉及曝光系统，更具体地，本发明的曝光系统包括：发光单元；薄膜传送单元，薄膜贴合在其表面，并弯曲成圆、椭圆或具有部分曲率的状态传送；以及图案形成单元，将所述发光单元发射的光传递到贴合的所述薄膜，并在所述薄膜形成偏光图案。根据本发明，在连续地退绕卷曲在滚轴上的薄膜并形成偏光图案的情况下，也能够使薄膜的抖动及弯曲最小化，可对更为宽广的区域实现均匀的曝光，从而有助于改进图案相位差膜（pattern retarder）等的品质及提高生产效率。

5. 发明公开

CN1784312A 曝光设备失效
公开(公告)号：CN1784312A
公开(公告)日：2006-06-07
申请号：CN200480012164.0
申请日：2004-12-08
申请人：西铁城时计株式会社
发明人：横山正史 , 盐田聪
IPC分类号： B41J2/445 , G03B27/32
CPC分类号： G03B27/04 , G03B27/73 , H04N1/2346 , H04N1/407
摘要：本发明提供一种曝光设备，其通过抑制温度改变的影响和实现精确的灰度等级再现而输出不受环境温度改变影响的拍摄质量稳定的图像。在所述曝光设备中，通过使用用来校正曝光密度的非线性的校正表，把输入的灰度等级数据P4转换成校正的灰度等级数据，并通过根据校正的灰度等级数据控制曝光头中的曝光条件在感光材料上进行灰度等级曝光；其中，转换表实际上包括多个光转换表，每个转换表用于每个指定的温度范围，并提供温度检测器，用于检测环境温度，利用这些条件按照由温度检测器提供的温度数据在选择数据的控制下选择一个合适的转换表。因而，甚至当环境温度改变时，这种曝光设备也能实现精确的灰度等级再现并输出拍摄质量稳定的图像。

6. 发明申请

WO2012044077A3 LIGHT-EXPOSURE SYSTEM 审中-公开
标题翻译：光照系统
公开(公告)号：WO2012044077A3
公开(公告)日：2012-06-21
申请号：PCT/KR2011007166
申请日：2011-09-28
申请人： DONGWOO FINE CHEM CO LTD , CHOI BONG JIN , KIM YONG HWAN
发明人： CHOI BONG JIN , KIM YONG HWAN
IPC分类号： G03F7/20 , G02F1/00 , G03F9/00
CPC分类号： G03B1/46 , G03B27/04 , G03F7/24
摘要： The present invention relates to a light-exposure system, and more specifically relates to a light-exposure system comprising: a light-emitting unit; a film-conveying unit wherein a film makes close contact with the surface thereof and is conveyed while being bent into a circle, an ellipse or the curvature of part thereof; and a pattern-forming unit for forming a polarisation pattern on the film by transmitting, onto the closely contacting film, the light emanating from the light-emitting unit. As a result, the light-exposure system is able to minimise film jittering and weaving even when formation of the polarisation pattern is carried out while the film, which is wound on a roller, is continuously played out, and allows uniform light exposure over a relatively wide region such that the invention is able to contribute to improved quality, notably in the patterned retarder, and increased production efficiency.
摘要翻译：曝光系统技术领域本发明涉及一种曝光系统，更具体地涉及一种曝光系统，其包括：发光单元; 薄膜输送单元，其中薄膜与其表面紧密接触并在弯曲成圆形，椭圆形或其部分的曲率的同时被输送; 以及图案形成单元，用于通过将从发光单元发出的光透射到紧密接触的膜上来在膜上形成偏振图案。结果，曝光系统即使在卷绕在辊上的胶片连续放出时进行偏振图案的形成并且允许均匀曝光于光盘上的情况下也能够使膜抖动和编织最小化相对较宽的区域，使得本发明能够有助于提高质量，特别是在图案化延迟器中，并提高生产效率。

7. 发明申请

WO98045506A1 METHOD FOR MANUFACTURING A STENT 审中-公开
标题翻译：制造方法
公开(公告)号：WO98045506A1
公开(公告)日：1998-10-15
申请号：PCT/US1998/006855
申请日：1998-04-02
IPC分类号： B23H3/08 , A61F2/00 , A61F2/06 , A61F2/84 , A61F2/90 , C23F1/00 , C25F3/02 , G03B27/04 , G03F7/00 , G03F7/18 , C25D7/04 , B23H3/00 , C25D5/34 , C25D5/36 , C25D5/38 , C25D5/48 , C25D5/50
CPC分类号： G03B27/04 , A61F2/91 , A61F2/915 , A61F2002/3011 , A61F2002/30156 , A61F2002/30158 , A61F2002/91516 , A61F2002/91533 , A61F2002/91575 , A61F2230/0002 , A61F2230/0013 , A61F2230/0023 , A61F2230/0026 , G03F7/00 , G03F7/18
摘要： Disclosed herewithin is a method of fabricating a stent which involves processing a tubular member whereby no connection points to join the edges of a flat pattern are necessary. The method includes the steps of removing contaminates from a tubular member (20), coating the outside surface of the tubular member with a photosensitive resist material (24), placing the tubular member in an apparatus designed to simultaneously rotate the tubular member while passing a specially configured photographic frame negative between a UV light source and the tubular member (26), exposing the outside surface of the tubular member to a photoresist developer for a specified period of time (28), rinsing the excess developer and uncured resist from the outside surface of the tubular member (30), treating the tubular member with an electrochemical process to remove uncovered metal (32).
摘要翻译：这里公开了一种制造支架的方法，其涉及处理管状构件，由此不需要连接平面图案的边缘的连接点。该方法包括以下步骤：从管状构件（20）去除污染物，用光敏抗蚀剂材料（24）涂覆管状构件的外表面，将管状构件放置在设计成同时旋转管状构件的设备中，同时通过管状构件在UV光源和管状构件（26）之间的特殊配置的照相框是负片，将管状构件的外表面暴露于光致抗蚀剂显影剂一段特定的时间段（28），从外部漂洗多余的显影剂和未固化的抗蚀剂管状构件（30）的表面，用电化学过程处理管状构件以去除未覆盖的金属（32）。

8. 发明专利

JP2013543595A Exposure system 有权
公开(公告)号：JP2013543595A
公开(公告)日：2013-12-05
申请号：JP2013524807
申请日：2011-09-28
申请人：ドンウーファイン−ケムカンパニーリミテッド
发明人：ジンチョイボン , ファンキムヨン
IPC分类号： G03F7/24 , G02B5/30 , H01L21/677
CPC分类号： G03B1/46 , G03B27/04 , G03F7/24
摘要：【課題】本発明は、露光システムに関するものである。
【解決手段】本発明の露光システムは、より詳しくは、発光部と、フィルムがその表面に密着され、円、楕円又はその一部の曲率で湾曲された状態で移送されるフィルム移送部と、前記発光部から出射された光を密着された前記フィルムに伝達し、前記フィルムに偏光パターンを形成するパターン形成部とを備えることにより、ロールに巻き取られたフィルムを連続的に繰り出しながら偏光パターンを形成させる場合にもフィルムの振動及び蛇行を最小限にすることができ、より広範囲の領域に対して均一な露光が可能であって、パターンリターダなどの品質改善及び生産効率の増大に寄与することができる露光システムに関するものである。
【選択図】図１

9. 发明专利

JPS5962858A Exposure operating method 失效
标题翻译：曝光操作方法
公开(公告)号：JPS5962858A
公开(公告)日：1984-04-10
申请号：JP13594582
申请日：1982-08-04
申请人： Oak Seisakusho:Kk
发明人： MIYAMOTO HIROSHI
IPC分类号： G03B27/08 , G03B27/04 , G03F7/20 , H05K3/00
CPC分类号： G03B27/04 , H05K3/0082
摘要： PURPOSE: To improve the workability of the exposure operation of a work, by defining a mask and many works corresponding to this mask as one set and positioning them to store them in one frame body and supplying this frame body to a fixed position of an exposure device.
CONSTITUTION: A mask 13 and works 14 stored in a frame body 12 are positioned accurately for the frame body 12 and are positioned accurately with respect to mutual position relation. The frame body 12 where the mask 13 and works 14 are stored in fixed positions is moved forward up to the fixed position of an exposure device 1 from the outside of the device 1. The mask 13 placed in the upper part of the frame body 12 is taken out from the frame body 12 by a mask carrying mechanism 5 of the exposure device 1 and is carried along a rail 6 to the position just above a transparent plate 4 of an exposure part 2 which is the main body of the exposure device 2, and the mask 13 is attached to a fixed position of this transparent plate 4. Next, the uppermost work 14 is taken up from the frame body 12 by a work carrying mechanism 7 and is carried along a rail 9 onto the transparent plate 4 to which the mask 13 is already attached to the fixed position, and the work 14 is attached to a fixed position of the transparent plate 4, and the work 14 is exposed with irradiation of the light from a light source part 3.
COPYRIGHT: (C)1984,JPO&Japio
摘要翻译：目的：为了提高作品的曝光操作的可操作性，通过将掩模和对应于该蒙版的许多作品定义为一组，并将它们定位在一个框体中并将其提供到曝光的固定位置设备。构成：存储在框体12中的掩模13和工件14精确地定位于框体12，并相对于相互位置关系精确定位。将掩模13和工件14存储在固定位置的框体12从装置1的外部向前移动到曝光装置1的固定位置。放置在框体12的上部的掩模13 通过曝光装置1的掩模承载机构5从框体12中取出，并且沿着轨道6被携带到作为曝光装置2的主体的曝光部2的透明板4的正上方的位置，并且将掩模13安装在该透明板4的固定位置。接下来，最上层的工件14通过工作承载机构7从框架主体12被卷取，并且沿轨道9被支承在透明板4上掩模13已经附着到固定位置，工件14附着到透明板4的固定位置，工件14通过来自光源部3的光的照射被曝光。

10. 发明专利

JPS59102238A Exposer for plate having photosensitive film 失效
标题翻译：具有感光膜片的曝光者
公开(公告)号：JPS59102238A
公开(公告)日：1984-06-13
申请号：JP20841283
申请日：1983-11-08
申请人： Hoechst Ag
发明人： KURAUSUUPEETAA SHIEEN , KURAUSU SHIYUMITSUTO
IPC分类号： G03F7/20 , G03B27/04 , G03B27/20 , G03F9/00
CPC分类号： G03B27/04 , G03B27/20

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