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1. 发明公开

CN105554336A 处理图像中的缺陷对象的方法和装置无效
公开(公告)号：CN105554336A
公开(公告)日：2016-05-04
申请号：CN201510566298.7
申请日：2015-09-08
申请人：汤姆逊许可公司
发明人： O.泰斯 , R.奥斯特曼
IPC分类号： H04N1/00 , H04N1/21
CPC分类号： G06T5/006 , G01N21/8916 , G01N21/94 , G01N2021/8909 , G06T7/80 , G06T2200/21 , H04N1/4097 , H04N3/36 , H04N5/2171 , H04N5/2254 , H04N1/00029 , H04N1/00087 , H04N1/2175
摘要：描述处理图像中的缺陷对象的方法和装置(30)。光场信息取回单元(34)取回(20)图像的光场捕获。视图生成器(35)从光场捕获生成(21)中心视图(CV)以及两个或多个侧视图(SVn)。然后，缺陷确定单元(36)通过比较中心视图(CV)与两个或多个侧视图(SVn)来确定(22)图像中的缺陷对象。

2. 发明公开

CN1997886A 检测设备和使用这种检测设备的叠层体制造装置失效
公开(公告)号：CN1997886A
公开(公告)日：2007-07-11
申请号：CN200580022839.4
申请日：2005-07-06
申请人：富士胶片株式会社
发明人：末原和芳 , 森亮 , 秋好宽和
IPC分类号： G01N21/892 , G01N21/86
CPC分类号： G01N21/8916
摘要：从各个检测器(60a、60b)中的激光二极管(39)发射出的激光束(LB)被施加至光敏薄片薄膜(12)中的局部切割区域(27a、27b)，所述光敏薄片薄膜(12)中的局部切割区域(27a、27b)通过薄膜弯曲辊(58)被扩展向检测器(60a、60b)。从局部切割区域(27a、27b)反射的部分激光束(LB)由光量传感器(45)检测。被施加到光敏薄片薄膜(12)的表面而不是局部切割区域(27a、27b)的激光束(LB)被反射到光量传感器(45)的光检测区域外侧，并且没有被光量传感器(45)检测到。

3. 发明公开

CN108458972A 光箱结构及应用其的光学检测设备有权
公开(公告)号：CN108458972A
公开(公告)日：2018-08-28
申请号：CN201710404345.7
申请日：2017-06-01
申请人：特铨股份有限公司
发明人：陈明生
IPC分类号： G01N21/01 , G01N21/958 , G01B11/00
CPC分类号： G01N21/8851 , G01N21/8916 , G01N21/9009 , G01N21/956 , G06T7/001
摘要：本发明涉及一种光箱结构、一种应用该光箱结构的光学检测设备以及一种可供检测一板材的光学检测模块，其中，该光箱结构是于一机台上至少一光学模块，该多个光学模块包含有一同侧等角设置的一光箱结构及一影像传感器，其中光箱结构由一箱体构成，该箱体内设有一光源，又该箱体具有一对应光源的入射通道，且该箱体具有一与入射通道等角的反射通道，藉此，利用光箱结构的入射通道与反射通道，使受测物所反射的反射光线中只有受测表面的一次反射光线能被影像传感器接收成像，有效的滤除了非受测表面的二次反射光线或二次以上的反射光线，使上、下表面的影像不会相互干扰，可以有效检出各种污染物、尺寸及位置，从而提高检出率。

4. 发明授权

CN1997886B 检测设备和使用这种检测设备的叠层体制造装置失效
公开(公告)号：CN1997886B
公开(公告)日：2010-10-20
申请号：CN200580022839.4
申请日：2005-07-06
申请人：富士胶片株式会社
发明人：末原和芳 , 森亮 , 秋好宽和
IPC分类号： G01N21/892 , G01N21/86
CPC分类号： G01N21/8916
摘要：从各个检测器(60a、60b)中的激光二极管(39)发射出的激光束(LB)被施加至光敏薄片薄膜(12)中的局部切割区域(27a、27b)，所述光敏薄片薄膜(12)中的局部切割区域(27a、27b)通过薄膜弯曲辊(58)被扩展向检测器(60a、60b)。从局部切割区域(27a、27b)反射的部分激光束(LB)由光量传感器(45)检测。被施加到光敏薄片薄膜(12)的表面而不是局部切割区域(27a、27b)的激光束(LB)被反射到光量传感器(45)的光检测区域外侧，并且没有被光量传感器(45)检测到。

5. 发明授权

EP0585759B1 Process for detecting and mapping dirt on the surface of a photographic element 失效
标题翻译：一种用于照相元件的表面上的污渍的检测和成像方法
公开(公告)号：EP0585759B1
公开(公告)日：2001-10-17
申请号：EP93113372.2
申请日：1993-08-20
申请人： EASTMAN KODAK COMPANY
发明人： Gray, Robert T., c/o Eastman Kodak Company , Patton, David L., c/o Eastman Kodak Company
IPC分类号： G06T5/20
CPC分类号： G06T5/20 , G01N21/8916

6. 发明申请

WO1997043624A1 DEVICE AND METHOD FOR DETECTING DEFECTS 审中-公开
标题翻译：用于检测缺陷的装置和方法
公开(公告)号：WO1997043624A1
公开(公告)日：1997-11-20
申请号：PCT/SE1997000750
申请日：1997-05-06
申请人： SVANTE BJÖRK AB , BJÖRK, Svante
发明人： SVANTE BJÖRK AB
IPC分类号： G01N21/89
CPC分类号： G01N21/8916
摘要： A device and method for improving a visualization of detected defects (1) in a substantially planar transparent strip (70), most preferably in a strip of a film. The device is arranged with a light source (90, 92) in order to substantially illuminate the width of the transparent strip (70), focusing means (50, 52) provided with an optical axis (100), in order to focus the light which is coming from the transparent strip (70), a detector (10, 12), in order to detect defects (1) on the transparent strip (70) and means (80) for displacing the transparent strip (70) in its longitudinal direction. The transparent strip (70) is arranged in a first plane between the light source (90, 92) and the focusing means (50, 52), and where the optical axis (100) is arranged in a second plane in order to focus the incoming light to the detector (10, 12) by means of the focusing means. The light from the light source is inclined with respect to the lateral direction of the transparent strip (70) and the light source (90, 92) is arranged in the second plane in order to obtain a high intensity.
摘要翻译：一种用于改善在基本上平面的透明条（70）中的检测到的缺陷（1）的可视化的装置和方法，最优选地在膜的条带中。该装置配置有光源（90,92），以便基本上照亮透明条（70）的宽度，设置有光轴（100）的聚焦装置（50,52），以便聚焦光来自透明条（70）的检测器（10,12），以便检测透明条（70）上的缺陷（1）;以及用于使透明条（70）在其纵向上移位的装置（80）方向。透明条（70）布置在光源（90,92）和聚焦装置（50,52）之间的第一平面中，并且其中光轴（100）布置在第二平面中，以便将通过聚焦装置输入到检测器（10,12）的光。来自光源的光相对于透明条（70）的横向倾斜，并且光源（90,92）被布置在第二平面中以获得高强度。

7. 发明专利

JP4073646B2 Sheet inspection apparatus and method 有权
公开(公告)号：JP4073646B2
公开(公告)日：2008-04-09
申请号：JP2001197407
申请日：2001-06-28
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：一夫大西 , 弘幸西田
IPC分类号： G01B11/06 , G01N21/89 , G01N21/892
CPC分类号： G01N21/8916

8. 发明公开

EP1186883A1 Analysis machine for the cleanness of perforated transparent strips 审中-公开
标题翻译： Vorrichtung zur Analyze der Sauberkeit vondurchlöchertendurchsichtigenBändern
公开(公告)号：EP1186883A1
公开(公告)日：2002-03-13
申请号：EP01420183.4
申请日：2001-08-27
申请人： EASTMAN KODAK COMPANY
发明人： Roulleau, Guy Max , Sacksteder, Michel
IPC分类号： G01N21/89
CPC分类号： G01N21/8916
摘要： The invention relates to an analysis machine for the cleanness of perforated strips.
The invention enables the direct non-destructive measurement, without image conversion, of the pollution by particles of the surface of plastic strips that are relatively transparent and perforated; which is done by using in an automatic analysis machine, a supporting and guiding means (10) of the strips (30) to be analyzed, the said means comprising a transparent revolving cylinder (12) provided with at least one groove (13) of small depth in which are arranged opaque masks (14) which practically superimpose with the perforations (31) of the strip (30) to be analyzed; which is to prevent the disturbance and deterioration of the recording due to the light rays emitted by the lighting means located near the device (10), light rays that crossing the perforations (31) of the strip (30), dazzle the associated recording means.
The main application of the device that is the object of the invention concerns the inspection of the cleanness of photographic films or magnetic tapes, at all stages of their utilization, and more precisely the use of the said device in automatic analysis machines checking the cleanness of the said photographic films or magnetic tapes for the whole of their surface.
摘要翻译：本发明涉及一种用于穿孔条的清洁度的分析机。本发明能够对相对透明和穿孔的塑料条的表面的颗粒的污染进行直接无损检测，无需图像转换; 其通过在自动分析机器中使用待分析的条带（30）的支撑和引导装置（10）来完成，所述装置包括透明的旋转圆筒（12），其设置有至少一个凹槽（13）布置不透明掩模（14）的小深度，其实际上与要分析的条带（30）的穿孔（31）重叠; 这是为了防止由位于设备（10）附近的照明装置发射的光线引起的记录的干扰和劣化，穿过条带（30）的穿孔（31）的光线使相关联的记录装置。作为本发明的目的的装置的主要应用涉及在其利用的所有阶段检查摄影胶片或磁带的清洁度，更准确地说，在自动分析机器中使用所述装置来检查清洁度所述摄影胶片或磁带用于整个表面。

9. 发明公开

EP0687902A1 Method and device for counting and characterising defects on a photographic support 失效
标题翻译：对于在照相支持计数和故障识别的方法和装置
公开(公告)号：EP0687902A1
公开(公告)日：1995-12-20
申请号：EP95420150.5
申请日：1995-06-12
申请人： KODAK-PATHE , EASTMAN KODAK COMPANY
发明人： Prigent, Thierry
IPC分类号： G01N21/89
CPC分类号： G01N21/89 , G01N21/8916
摘要： The present invention concerns a method and a device for counting and characterising defects on a photographic support.
According to the method which is the object of the present invention, the support (1) is caused to pass in front of an optical density measuring device (2), the density values given by the said device being analysed for the purpose of detecting, counting and characterising the defects, the said method being characterised in that the defects are detected for a first speed V1 at which the support (1) passes and in that the data necessary for the counting and characterisation of the defects thus detected are captured and stored for a second speed V2 at which the support passes, less than V1.
Application to the processing of photographic films.
摘要翻译：本发明涉及的方法和用于在照相载体计数和字符伊辛缺陷的装置。。根据该方法的所有这是本发明的目的，所述支撑件（1）被致于光学密度测量装置（2），被分析为检测的目的由所述装置给定的密度值的前面通过，计数和字符伊辛缺陷，对于在哪个（1），所述支撑通过的第一速度V1和在必要时作这样检测的缺陷的计数和表征DASS模数据被检测到的所述方法的DASS缺陷被捕获和存储在其中载体通过，小于V1的第二速度V2。应用到照相胶片的处理。

10. 发明公开

EP0130797A3 Method of inspecting the surface of photographic paper 失效
标题翻译：检查摄影纸表面的方法
公开(公告)号：EP0130797A3
公开(公告)日：1986-05-21
申请号：EP84304390
申请日：1984-06-28
申请人： KONISHIROKU PHOTO INDUSTRY CO. LTD.
发明人： Takahashi, Tokuji , Furuta, Kazumi , Ishimoto, Kiyoshi
IPC分类号： G01N21/89
CPC分类号： G01N21/8916
摘要： A method of inspecting defects in the surface of photographic paper (A) wherein a light beam from a light source (10) scans on the photographic paper (A) while running thereof, the diffuse light reflected by a defective portion (9) on the surface of said photographic paper (A) is sensed, and the defect (9) is detected in accordance with a change in the diffused-reflected light. The light beam has a wavelength of 550 nm to 635 nm. The light beam is one emitted from a He-Ne laser.

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