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1. 发明公开

KR20180030715A 전자 빔 이미지에서의 결함 위치 결정 审中-公开
标题翻译：电子束图像中的缺陷定位
公开(公告)号：KR20180030715A
公开(公告)日：2018-03-23
申请号：KR20187006946
申请日：2016-08-11
申请人： KLA TENCOR CORP
发明人： LEE HUCHENG , THATTAISUNDARAM GOVINDARAJAN
IPC分类号： G01N23/2255 , H01L21/66
CPC分类号： H01J37/222 , G06T7/0006 , G06T7/0008 , G06T7/74 , G06T2207/10061 , G06T2207/20081 , G06T2207/30148 , H01J2237/24592 , H01J2237/2817 , H01L22/12 , H01L22/20
摘要： 웨이퍼의전자빔 이미지에서의결함위치결정을위한방법및 시스템이제공된다. 하나의방법은차이이미지에서의결함의제1 위치에기초하여테스트이미지에서이미지화된패턴들에대한결함의제2 위치를결정하는단계를포함한다. 본방법은또한결함에대한전자빔 이미지내의패턴들에대한결함의제3 위치를결정하는단계와, 제1 위치와제3 위치간의연관성을결정하는단계를포함한다. 또한, 본방법은차이이미지내의다른결함의제1 위치및 결정된연관성에기초하여전자빔 이미지내의다른결함의위치를결정하는단계를포함한다.
摘要翻译：提供了用于晶片的电子束图像中的缺陷定位的方法和系统。一种方法包括基于差异图像中缺陷的第一位置确定测试图像中成像图案的缺陷的第二位置。该方法还包括针对缺陷确定电子束图像中的图案的缺陷的第三位置并确定第一位置与第三位置之间的关联。该方法还包括基于差异图像中的另一缺陷的第一位置和所确定的关联来确定电子束图像中的另一缺陷的位置。

2. 发明公开

KR20180008704A 초점 감응성 오버레이 타겟을 이용한 초점 결정용 시스템 및 방법 审中-公开
标题翻译：使用焦点敏感叠加目标确定焦点的系统和方法
公开(公告)号：KR20180008704A
公开(公告)日：2018-01-24
申请号：KR20177036248
申请日：2016-05-13
申请人： KLA TENCOR CORP
发明人： MIEHER WALTER
IPC分类号： G03F7/20 , G03F1/44
CPC分类号： G03F7/70641 , G03F1/44 , G03F7/70683
摘要： 리소그래피마스크가개시된다. 리소그래피마스크는적어도하나의비대칭분할패턴엘리먼트를포함한다. 특정한비대칭분할패턴엘리먼트는, 연속하는세그먼트사이의이격간격이특정한비대칭분할패턴엘리먼트의이미지가비분할패턴이미지이도록샘플상에특정한비대칭분할패턴엘리먼트의이미지를생성하기위한투영광학장치의세트의해상도보다더 작은적어도두 개의세그먼트를포함한다. 샘플상의비분할패턴이미지의위치는, 투영광학장치의세트의광학축을따른샘플의위치를나타낸다.
摘要翻译：公开了一种光刻掩模。光刻掩模包括至少一个不对称分割图案元件。特定不对称分裂图案元件比设定的分辨率为在采样阶段生成特定不对称分裂图案元素的图像更使得连续的段投影光学器件之间的特定不对称分裂图案要素图像的分离距离图像垃圾划分模式并且包括至少两个很小的部分。样本上未分段图案图像的位置表示样本沿着该组投影光学系统的光轴的位置。

3. 发明公开

KR20180031061A 전자 소스 审中-公开
标题翻译：电子来源
公开(公告)号：KR20180031061A
公开(公告)日：2018-03-27
申请号：KR20187007328
申请日：2016-08-12
申请人： KLA TENCOR CORP
发明人： CHUANG YUNG HO ALEX , XIAOLI YINYING , LIU XUEFENG , FIELDEN JOHN
IPC分类号： H01J1/304 , H01J9/02
CPC分类号： G03F7/70008 , H01J1/304 , H01J1/34 , H01J35/065 , H01J37/073 , H01J2201/30411 , H01J2201/3048 , H01J2237/0635
摘要： 전자소스가대향하는제 1 및제 2 표면을갖는실리콘기판상에형성된다. 전자방출을향상시키기위해적어도하나의전계이미터가실리콘기판의제 2 표면상에준비된다. 실리콘의산화를방지하기위해, 얇고연속적인붕소층이산화및 결함을최소화하는공정을사용하여전계이미터의출력표면상에직접적으로배치된다. 전계이미터는피라미드및 둥근위스커와같은다양한형상을취할수 있다. 방출전류의빠르고정확한제어및 높은방출전류를달성하기위해하나또는여러개의선택적게이트층들이전계이미터팁의높이에또는그보다약간낮게배치될수 있다. 전계이미터는 p 형도핑될수 있고역 바이어스모드에서작동하도록구성될수 있거나, 전계이미터는 n 형도핑될수 있다.
摘要翻译：它被形成具有第一表面到第二mitje电子源计数器在硅衬底上。至少一个仪表jeongyeyi在硅衬底的第二表面上而制备，以增强电子发射。为了防止硅的氧化，使用最小化它直接布置在jeongyeyi米的输出表面上的薄的连续层氧化钛和硼的缺陷的方法。字段具有已经chwihalsu多种形状，如金字塔形发射器和卷曲晶须。为了实现一个或几个选择性的栅极层，发射电流的快速而精确的控制和高的发射电流可以略低于的尖端jeongyeyi微米或更小的高度被设置。 Jeongyeyi计来掺杂p型和任一被配置在反向偏置模式下操作，jeongyeyi计可以是掺杂的n型。

4. 发明公开

KR20180030722A 프로세스 감응성 계측 시스템 및 방법 审中-公开
标题翻译：过程灵敏度测量系统和方法
公开(公告)号：KR20180030722A
公开(公告)日：2018-03-23
申请号：KR20187007128
申请日：2016-08-12
申请人： KLA TENCOR CORP
发明人： LEE MYUNGJUN , SMITH MARK D , KAPASI SANJAY , PANDEV STILLIAN , SANKO DIMITRY , SUBRAHMANYAN PRADEEP , LEVY ADY
IPC分类号： G03F7/20 , G03F7/00 , H01L21/027 , H01L21/66
CPC分类号： G03F7/70558 , G03F7/70091 , G03F7/70641
摘要： 리소그래피시스템은조명소스및 투영광학장치의세트를포함한다. 조명소스는축외조명폴로부터의조명의빔을패턴마스크로지향시킨다. 패턴마스크는조명폴로부터의조명을포함하는회절빔의세트를생성하기위한패턴엘리먼트의세트를포함한다. 투영광학장치의세트에의해수신되는회절빔의세트중 적어도두 개의회절빔은투영광학장치의세트의동공평면에서비대칭적으로분포된다. 회절빔의세트중 적어도두 개의회절빔은, 패턴엘리먼트의세트의이미지에대응하는제조엘리먼트의세트를형성하도록샘플에비대칭적으로입사한다. 샘플상의제조엘리먼트의세트는투영광학장치의세트의광학축을따르는샘플의위치의하나이상의지표를포함한다.
摘要翻译：光刻系统包括照明源和一组投影光学器件。照明源将照明光束从离轴照明杆引导到图案掩模。图案掩模包括一组图案元件，用于产生包括来自照明杆的照明的一组衍射束。由该组投影光学器件接收的至少两组衍射光束不对称分布在该组投影光学器件的光瞳平面中。至少两组衍射光束不对称地入射在样本上以形成对应于该组图案元素的图像的一组制造元件。样品上的一组制造元件包括样品沿该组投影光学器件的光轴的位置的一个或多个指示符。

5. 发明公开

KR20180030249A 반도체 마스크 검사를 위한 다각형 기반 지오메트리 분류 审中-公开
标题翻译：用于半导体掩模检测的基于多边形的几何分类
公开(公告)号：KR20180030249A
公开(公告)日：2018-03-21
申请号：KR20187006960
申请日：2016-08-10
申请人： KLA TENCOR CORP
发明人： XU YIN , GU WENFEI (ALEX) , SHI RUI FANG
IPC分类号： G03F7/20 , G03F1/26 , H01L21/033 , H01L21/66
CPC分类号： G06T7/0006 , G06T2207/30148
摘要： 포토리소그래피마스크의검사를위해피처분류를제공하는방법및 장치가개시된다. 마스크의제조를위한설계데이터베이스는꼭지점의세트에의해각각규정된다각형을포함한다. 서로인접한다각형들중 어떤것은함께그룹화된다. 임의의그룹화된다각형들은이러한그룹화된다각형의세트의커버링영역에대응하는다각형을얻기위해그룹화된다각형들의각 세트의내부에지들을제거하도록힐링된다. 복수의피처클래스를검출하기위한요건을특정하는기하학적제약이제공되어, 설계데이터베이스의다각형에서복수의피처클래스를검출하는데사용된다. 검출된피처클래스는마스크의결함을검출하는데사용된다.
摘要翻译：公开了用于提供用于检查光刻掩模的特征分类的方法和设备。用于制造掩模的设计数据库分别包括由一组顶点定义的多边形。一些相邻的多边形被分组在一起。对任意分组的多边形进行修复以去除每组分组多边形的内边缘以获得与该组分组多边形的覆盖区域相对应的多边形。提供几何约束，其指定用于检测多个要素类的要求，并且用于检测设计数据库的多边形中的多个要素类。检测到的要素类用于检测蒙版中的缺陷。

6. 发明公开

KR20180067709A 레이저 생성 플라즈마 광원을 위한 액적 생성 审中-公开
公开(公告)号：KR20180067709A
公开(公告)日：2018-06-20
申请号：KR20187016153
申请日：2016-11-10
申请人： KLA TENCOR CORP
发明人： AHR BRIAN , BYKANOV ALEXANDER , GARCIA RUDY , HALE LAYTON C , KHODYKIN OLEG
IPC分类号： H05G2/00 , G03F7/20
CPC分类号： H05G2/008 , H05G2/006 , H05H2240/00
摘要： 본개시는액체타겟재료를분배하기위한노즐; 하나이상의중간챔버(들)를구비하는디바이스에관한것으로, 각각의중간챔버는타겟재료를수용하도록배치되며레이저생성플라즈마(LPP) 챔버에서의하류조사를위해타겟재료를출력하기위한출구어퍼쳐를가지고형성된다. 개시된몇몇실시형태에서, 디바이스의중간챔버(들) 중하나, 몇몇또는모두에서가스온도, 가스압력및 가스조성중 하나이상을제어하기위한제어시스템이포함된다. 하나의실시형태에서, 조정가능한길이를갖는중간챔버가개시된다.

7. 发明公开

KR20180031060A 저 노이즈 센서를 이용한 암시야 검사 审中-公开
标题翻译：使用低噪音传感器进行暗场检测
公开(公告)号：KR20180031060A
公开(公告)日：2018-03-27
申请号：KR20187007275
申请日：2016-08-13
申请人： KLA TENCOR CORP
发明人： CHUANG YUNG HO ALEX , BROWN DAVID L , CONTARATO DEVIS , FIELDEN JOHN , KAVALDJIEV DANIEL IVANOV , ZHAO GUOHENG , CHERN JEHN HUAR HOWARD , ZHENG GUOWU , PETTIBONE DONALD , BIELLAK STEPHEN
IPC分类号： G01N21/17 , G01J1/02 , G01N21/88 , H04N5/367
CPC分类号： H04N5/335 , G01N21/9501 , G01N2021/95676 , H04N5/2256 , H04N5/347
摘要： 이미지센서에의해캡쳐되는아날로그이미지데이터값(전하)이, 이미지센서의출력감지노드(부유확산부) 상에서출력신호로서전송되기이전에또는전송되는동안비닝(결합)되고, ADC가출력감지노드각각의리셋사이에서복수의대응하는디지털이미지데이터값을순차적으로생성하도록제어되는검사시스템및 방법. 출력비닝방법에따르면, 이미지센서는각각의리셋사이에서출력감지노드상으로복수의전하를순차적으로전송하도록구동되고, ADC는, 각각의전하가출력감지노드상으로전송된이후, 점진적으로증가하는출력신호를변환하도록제어된다. 다중샘플링방법에따르면, 출력감지노드로전송되기이전에복수의전하는수직으로또는수평으로비닝(합산/결합)되고, ADC는각각의대응하는출력신호를복수회 샘플링한다. 출력비닝및 다중샘플링방법은결합될수도있다.
摘要翻译：的模拟图像数据值（电荷）由图像传感器（副浮动扩散）的图像传感器中，每个ADC失控力感测节点的被捕获，和分级（组合的），而转移或传输到作为输出感测节点上的输出信号被发送并且在该组图像之间顺序地生成多个对应的数字图像数据值。根据该功率比紧固方法，该图像传感器驱动到多个中的电荷传输到每个复位序列，ADC之间的输出感测节点，每次充电以后发送到输出感测节点，以逐渐增加的并被控制来转换输出信号。根据多重采样方法，多个电荷在被发送到输出感测节点之前被垂直或水平地合并（相加/组合），并且ADC对多个相应的输出信号进行采样。输出分箱和多种采样方法可以结合使用。

8. 发明公开

KR20180030236A 웨이퍼의 에지 검사 및 검토를 위한 방법 및 시스템 审中-公开
标题翻译：用于边缘检查和审查晶片的方法和系统
公开(公告)号：KR20180030236A
公开(公告)日：2018-03-21
申请号：KR20187006797
申请日：2016-08-10
申请人： KLA TENCOR CORP
发明人： JIANG XINRONG , SEARS CHRISTOPHER , SINHA HARSH , TREASE DAVID , YE WEI , KAZ DAVID
IPC分类号： G01N23/2255 , G01N21/95
CPC分类号： H01J37/153 , H01J2237/1532 , H01J2237/1534 , H01J2237/1536
摘要： 샘플의에지부분을검사또는검토하기위한전자-광학시스템은, 하나이상의전자빔을생성하도록구성된전자빔 소스, 샘플을고정시키도록구성된샘플스테이지, 및하나이상의전자빔의적어도부분을샘플의에지부분상으로지향시키도록구성된전자-광학요소들의세트를포함하는전자-광학칼럼을포함한다. 상기시스템은또한, 샘플주위에배치된샘플위치기준디바이스및 하나이상의프린지필드를보상하기위하여샘플의에지와샘플위치기준디바이스사이에배치된가드링 디바이스를포함한다. 가드링 디바이스의하나이상의특성이조절가능하다. 상기시스템은또한샘플의표면으로부터나오는전자를검출하도록구성된검출기어셈블리를포함한다.
摘要翻译： E代表检查或查看抽样光学系统，被配置为生成至少一个电子束的电子束源的边缘部分，将至少所述样品台的一部分，和至少一个电子束被构造成固定所述样品，以该部分粉末状物质的样品中的包括一组电光元件的光学元件，所述电光元件被配置为照射衬底。该系统还包括设置在样本周围的样本位置参考装置以及设置在样本边缘和样本位置参考装置之间以补偿一个或多个边缘场的防护环装置。保护环装置的至少一个特征是可调整的。该系统还包括被配置为检测来自样品表面的电子的检测器组件。

9. 发明公开

KR20180026582A 다층 오버레이 계측 타겟 및 상보적 오버레이 계측 측정 시스템 审中-公开
标题翻译：多层覆盖计量目标和免费覆盖计量测量系统
公开(公告)号：KR20180026582A
公开(公告)日：2018-03-12
申请号：KR20187006323
申请日：2011-07-28
申请人： KLA TENCOR CORP
发明人： KANDEL DANIEL , LEVINSKI VLADIMIR , COHEN GUY
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70633 , G03F7/70683
摘要： 촬상기반계측에서사용하기위한다층오버레이타겟이개시된다. 오버레이타겟은 3개이상의타겟구조물을포함한복수의타겟구조물을포함하고, 각타겟구조물은 2개이상의패턴요소들의집합을포함하며, 타겟구조물은타겟구조물의정렬시에공통대칭중심을공유하도록구성되고, 각타겟구조물은공통대칭중심에대한 N도(N도는 180도이상임) 회전에대하여불변체이며, 2개이상의패턴요소는각각개별적인대칭중심을갖고, 각타겟구조물의 2개이상의패턴요소들은각각개별적인대칭중심에대한 M도(M도는 180도이상임) 회전에대하여불변체이다.
摘要翻译：公开了用于基于成像的度量衡中的多层覆盖目标。覆盖目标包括多个包括三个或更多个目标结构的目标结构，每个目标结构包括一组两个或更多个模式元素，其中目标结构被配置为在目标结构对齐时共享对称的共同中心，每个目标结构围绕所述公共对称中心不变为N度旋转，其中N等于或大于180度，其中所述两个或更多个图案元件中的每一个具有单独的对称中心，其中所述两个或更多个图案中的每一个每个目标结构的元素对于围绕单个对称中心的M度旋转是不变的，其中M等于或大于180度。

10. 发明公开

KR20180071404A 영역 적응식 결함 검출을 위한 시스템 및 방법 审中-公开
公开(公告)号：KR20180071404A
公开(公告)日：2018-06-27
申请号：KR20187017023
申请日：2016-11-16
申请人： KLA TENCOR CORP
发明人： MAHER CHRISTOPHER , BRAUER BJORN , RAMACHANDRAN VIJAY , KARSENTI LAURENT , ROSENGAUS ELIEZER , JORDAN JOHN , MILLER RONI
IPC分类号： G06T7/00 , G01N21/17 , G01N21/88
CPC分类号： G06T7/001 , G06K9/6202 , G06K9/6212 , G06K9/74 , G06T7/11 , G06T2207/20182 , G06T2207/30148
摘要： 결함검출방법은, 기준이미지를획득하는것; 기준이미지의타겟영역을선택하는것; 매칭메트릭에기초하여, 타겟영역에대응하는기준이미지의하나이상의비교영역을식별하는것; 테스트이미지를획득하는것; 기준이미지의타겟영역및 기준이미지의하나이상의비교영역으로테스트이미지를마스킹하는것; 테스트이미지의하나이상의비교영역에기초하여테스트이미지의타겟영역에대한결함임계치를정의하는것; 및결함임계치에기초하여테스트이미지의타겟영역이결함을포함하는지의여부를결정하는것을포함한다.

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