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1. 发明专利

TW200937492A 紫外線照射裝置审中-公开
简体标题：紫外线照射设备
公开(公告)号：TW200937492A
公开(公告)日：2009-09-01
申请号：TW097151195
申请日：2008-12-29
申请人：奧克製作所股份有限公司 ORC MANUFACTURING CO., LTD.
发明人：安田誠 MAKOTO YASUDA , 小林剛 GO KOBAYASHI , 篠木晟 AKIRA SHINOGI , 金子仁志 HITOSHI KANEKO
IPC分类号： H01J , G21K
摘要：【【問題】】在使用介電質屏蔽放電燈的紫外線照射裝置中,防止紫外線放射時產生的電磁雜訊放射至周圍,或者是經由纜線傳遞至外部。【【解決手段】】在容納放電燈12的燈殼10內,設置將直流定電壓轉換成高頻交流電壓的切換電路16以及使高頻交流電壓升壓的升壓變壓器18。在燈殼10的外部設置低壓直流電源20,經由纜線22與燈殼10連接。
简体摘要：【【问题】】在使用介电质屏蔽放电灯的紫外线照射设备中,防止紫外线放射时产生的电磁噪声放射至周围,或者是经由缆线传递至外部。【【解决手段】】在容纳放电灯12的灯壳10内,设置将直流定电压转换成高频交流电压的切换电路16以及使高频交流电压升压的升压变压器18。在灯壳10的外部设置低压直流电源20,经由缆线22与灯壳10连接。

2. 发明专利

TW200846845A 曝光繪圖裝置审中-公开
简体标题：曝光绘图设备
公开(公告)号：TW200846845A
公开(公告)日：2008-12-01
申请号：TW097107626
申请日：2008-03-05
申请人：奧克製作所股份有限公司 ORC MANUFACTURING CO., LTD.
发明人：石橋臣友 SHIGETOMO ISHIBASHI , 清水修一 SHUICHI SHIMIZU
IPC分类号： G03F , H01L
摘要：【【課題】】提供一種曝光繪圖裝置,在基板的兩面上形成將在繪圖電路圖案時所必要的對位符號。【【解決方法】】曝光繪圖裝置(10)係包括:基板投入部(20),將形成有感光層的基板(CB)投入至基板校正位置;校正部(30),將被投入至此基板校正位置的上述基板校正至所定位置;符號形成部(40),對於藉由校正部被校正的基板的第一面以及第二面,形成第一及第二對位符號;以及繪圖部(60),基於第一及第二對位符號,將電路圖案繪圖至基板的第一面及第二面。
简体摘要：【【课题】】提供一种曝光绘图设备,在基板的两面上形成将在绘图电路图案时所必要的对位符号。【【解决方法】】曝光绘图设备(10)系包括:基板投入部(20),将形成有感光层的基板(CB)投入至基板校正位置;校正部(30),将被投入至此基板校正位置的上述基板校正至所定位置;符号形成部(40),对于借由校正部被校正的基板的第一面以及第二面,形成第一及第二对位符号;以及绘图部(60),基于第一及第二对位符号,将电路图案绘图至基板的第一面及第二面。

3. 发明专利

TW200841134A 投影曝光裝置审中-公开
简体标题：投影曝光设备
公开(公告)号：TW200841134A
公开(公告)日：2008-10-16
申请号：TW097101457
申请日：2008-01-15
申请人：奧克製作所股份有限公司 ORC MANUFACTURING CO., LTD.
发明人：佐藤仁 JIN SATO , 山賀勝 MASARU YAMAGA , 中澤朗 AKIRA NAKAZAWA , 工藤巧裁 KOUTATSU KUDO , 中本裕見 YUKEN NAKAMOTO
IPC分类号： G03F , G03B
CPC分类号： G03B27/72 , G03F7/70233 , G03F7/70575
摘要：一種投影曝光裝置,包括:一光罩台,保持描繪出應描繪圖案的光罩;一光源,放射出包含g線、h線、i線及j線;一波長選擇部,選擇一光束,該光束包含從該光源放射的光線以既定的亮線組合而成;一照明光學系,以所選擇的光照射上述光罩;一offner型投影光學系,將通過光罩的曝光光線投影至基板;一基板台座,具備吸附保持上述基板的吸附部而定位;一遮光部,遮蔽上述基板上的一部份。
简体摘要：一种投影曝光设备,包括:一光罩台,保持描绘出应描绘图案的光罩;一光源,放射出包含g线、h线、i线及j线;一波长选择部,选择一光束,该光束包含从该光源放射的光线以既定的亮线组合而成;一照明光学系,以所选择的光照射上述光罩;一offner型投影光学系,将通过光罩的曝光光线投影至基板;一基板台座,具备吸附保持上述基板的吸附部而定位;一遮光部,屏蔽上述基板上的一部份。

4. 发明专利

TW200811619A 繪製裝置审中-公开
简体标题：绘制设备
公开(公告)号：TW200811619A
公开(公告)日：2008-03-01
申请号：TW096129603
申请日：2007-08-10
申请人：奧克製作所股份有限公司 ORC MANUFACTURING CO., LTD.
发明人： 俊德 TOSHINORI INOMATA
IPC分类号： G03F , H01L , H05K
摘要：【【課題】】在短時間內正確地量測基板等的被繪製體的基準記號的位置。【【解決手段】】在繪製電路樣式的繪製裝置中,配置可沿著Y方向(主掃描方向)移動的照相機,設置搭載可沿著X方向(副掃描方向)移動的基板的繪製桌。又,將基準刻度尺16沿著Y方向配置,對於基台使其固定。又,在照相機11,安裝將紅色光、綠色光選擇地放射的光源單元,在照相機11的下方,設置分色鏡15。
简体摘要：【【课题】】在短时间内正确地量测基板等的被绘制体的基准记号的位置。【【解决手段】】在绘制电路样式的绘制设备中,配置可沿着Y方向(主扫描方向)移动的照相机,设置搭载可沿着X方向(副扫描方向)移动的基板的绘制桌。又,将基准刻度尺16沿着Y方向配置,对于基台使其固定。又,在照相机11,安装将红色光、绿色光选择地放射的光源单元,在照相机11的下方,设置分色镜15。

5. 发明专利

TW200745789A 運送裝置(一) 审中-公开
简体标题：运送设备(一)
公开(公告)号：TW200745789A
公开(公告)日：2007-12-16
申请号：TW096102056
申请日：2007-01-19
申请人：奧克製作所股份有限公司 ORC MANUFACTURING CO., LTD.
发明人：佐藤仁 SATO, HITOSHI , 中澤朗
IPC分类号： G03F , G03B , H05K
摘要：【課題】提供一種不對帶狀的工件施加負荷而可在穩定的狀態下搬運的搬運機構。【解決手段】搬運機構A的供給捲軸旋轉部1係配置於比供給側第一導引滾子2高的位置,供給側第二導引滾子3係配置於與供給側第一導引滾子2相同或較低的位置,同時供給側第二導引滾子3配置於比第一搬運滾子4高的位置,捲繞捲軸旋轉部9係配置於比捲繞側第二導引滾子8高的位置,捲繞側第二導引滾子8係配置於捲繞側第一導引滾子相同或較高的位置,同時捲繞側第二導引滾子8係配置於比捲繞捲軸旋轉部9低的位置。在第一搬運滾子4及第二搬運滾子6上具有使工件吸附於滾子表面41a的吸附裝置42。
简体摘要：【课题】提供一种不对带状的工件施加负荷而可在稳定的状态下搬运的搬运机构。【解决手段】搬运机构A的供给卷轴旋转部1系配置于比供给侧第一导引滚子2高的位置,供给侧第二导引滚子3系配置于与供给侧第一导引滚子2相同或较低的位置,同时供给侧第二导引滚子3配置于比第一搬运滚子4高的位置,卷绕卷轴旋转部9系配置于比卷绕侧第二导引滚子8高的位置,卷绕侧第二导引滚子8系配置于卷绕侧第一导引滚子相同或较高的位置,同时卷绕侧第二导引滚子8系配置于比卷绕卷轴旋转部9低的位置。在第一搬运滚子4及第二搬运滚子6上具有使工件吸附于滚子表面41a的吸附设备42。

6. 外观设计

TWD118193S 高壓放電燈之接頭(五) 有权
简体标题：高压放电灯之接头(五)
公开(公告)号：TWD118193S
公开(公告)日：2007-07-21
申请号：TW095304974
申请日：2006-09-01
申请人：奧克製作所股份有限公司 ORC MANUFACTURING CO., LTD.
设计人：安達伸雄 NOBUO ADACHI , 屋木康彥 YASUHIKO OKUGI , 石鍋榮彥 SHIGEHIKO ISHINABE
摘要：本創作係關於一種高壓放電燈之接頭，其外型設計融合造型元素。【物品用途】
本創作之高壓放電燈之接頭設置於高壓放電燈之二端部，提供高壓放電燈連接之功能。【創作特點】
本創作高壓放電燈之接頭本體大致為圓柱形，上部凸設有具層疊視感的連接部，該連接部亦為圓柱形態樣，並且該連接部之直徑較本體之直徑為小，另外，本體上部表面設有二突出部與二圓形圖樣，分別交錯設置於該連接部周圍，並且將本體上部之圓周等分為四部分。
整體觀之，本創作高壓放電燈之接頭之整體造形設計予人獨特的造型質感，以層疊以及等分之方式設計，深具美感，誠為符合新式樣專利要件的創新設計，實為同類型產品中所罕見者。
简体摘要：本创作系关于一种高压放电灯之接头，其外型设计融合造型元素。【物品用途】本创作之高压放电灯之接头设置于高压放电灯之二端部，提供高压放电灯连接之功能。【创作特点】本创作高压放电灯之接头本体大致为圆柱形，上部凸设有具层叠视感的连接部，该连接部亦为圆柱形态样，并且该连接部之直径较本体之直径为小，另外，本体上部表面设有二突出部与二圆形图样，分别交错设置于该连接部周围，并且将本体上部之圆周等分为四部分。整体观之，本创作高压放电灯之接头之整体造形设计予人独特的造型质感，以层叠以及等分之方式设计，深具美感，诚为符合新式样专利要件的创新设计，实为同类型产品中所罕见者。

7. 发明专利

TW200719094A 雷射光.紫外光照射周邊曝光裝置及其方法(二) 失效
简体标题：激光光.紫外光照射周边曝光设备及其方法(二)
公开(公告)号：TW200719094A
公开(公告)日：2007-05-16
申请号：TW095137696
申请日：2006-10-13
申请人：奧克製作所股份有限公司 ORC MANUFACTURING CO., LTD.
发明人： 持晴康 , 佐藤博明 , 池田泰人 , 森昌人
IPC分类号： G03F , H01L
摘要：【課題】提供一種雷射光、紫外光照射周邊曝光裝置,即使識別標記形成於周邊區域的位置也可對應。【解決手段】本裝置1包括保持基板(W)的台座(2)、攝影裝置(4)、支持台座的移動搬運機構(3)、設於移動搬運機構的移動通路上的雷射光單元(5)、從照射口將包含紫外光的光照射至基板的周邊區域的紫外光照射單元(9)以及根據由上述攝影裝置所取得的影像資料而進行上述基板的整合,控制上述移動搬運機構,使同時進行以雷射光對識別標記做曝光以及以包含紫外光的光線做周邊曝光的控制裝置(20)。
简体摘要：【课题】提供一种激光光、紫外光照射周边曝光设备,即使识别标记形成于周边区域的位置也可对应。【解决手段】本设备1包括保持基板(W)的台座(2)、摄影设备(4)、支持台座的移动搬运机构(3)、设于移动搬运机构的移动通路上的激光光单元(5)、从照射口将包含紫外光的光照射至基板的周边区域的紫外光照射单元(9)以及根据由上述摄影设备所取得的影像数据而进行上述基板的集成,控制上述移动搬运机构,使同时进行以激光光对识别标记做曝光以及以包含紫外光的光线做周边曝光的控制设备(20)。

8. 发明专利

TWI279651B 曝光裝置有权
简体标题：曝光设备
公开(公告)号：TWI279651B
公开(公告)日：2007-04-21
申请号：TW094104288
申请日：2005-02-15
申请人：奧克製作所股份有限公司 ORC MANUFACTURING CO., LTD.
发明人：水口信一郎 , 伊勢勝
IPC分类号： G03F , G03B
摘要：一種曝光裝置，用簡易的構造防止感光性樹脂的揮發物質造成複眼透鏡表面的污染。[解決手段]一種曝光裝置，具備一具有光源21、反射鏡41及複眼透鏡42的光源室2，以及一經由區隔板6與該光源室2做區隔的曝光室3，其特徵為包括：一收納上述複眼透鏡42的框體7以及一將冷卻風送至收納於上述框體7內的複眼透鏡42的調溫單元51。上述框體7具有形成於對應來自上述光源21的照射光的上述複眼透鏡42的入射光路及出射光路的位置上形成的開口部71、72、形成於與該開口部71、72的開口方向正交的位置上的給氣口73、以及形成於面向該給氣口73的位置上的排氣口74，在上述區隔板6上，在對應於上述照射光之光路的位置上，設有使上述照射光穿透的透光元件61。
简体摘要：一种曝光设备，用简易的构造防止感光性树脂的挥发物质造成复眼透镜表面的污染。[解决手段]一种曝光设备，具备一具有光源21、反射镜41及复眼透镜42的光源室2，以及一经由区隔板6与该光源室2做区隔的曝光室3，其特征为包括：一收纳上述复眼透镜42的框体7以及一将冷却风送至收纳于上述框体7内的复眼透镜42的调温单元51。上述框体7具有形成于对应来自上述光源21的照射光的上述复眼透镜42的入射光路及出射光路的位置上形成的开口部71、72、形成于与该开口部71、72的开口方向正交的位置上的给气口73、以及形成于面向该给气口73的位置上的排气口74，在上述区隔板6上，在对应于上述照射光之光路的位置上，设有使上述照射光穿透的透光组件61。

9. 发明专利

TW200939293A 準分子燈审中-公开
简体标题：准分子灯
公开(公告)号：TW200939293A
公开(公告)日：2009-09-16
申请号：TW098104137
申请日：2009-02-10
申请人：奧克製作所股份有限公司 ORC MANUFACTURING CO., LTD.
发明人：安田誠 YASUDA, MAKOTO , 小林剛 KOBAYASHI, GO
IPC分类号： H01J
CPC分类号： H01J65/046 , H01J61/16 , H01J61/34
摘要：【【課題】】提供一種可靠度高的準分子燈,在放電空間內不具電極的介電體屏蔽放電或容量結合型高頻放電方式的準分子燈中,即使為了得到高的放射輸出而對燈施加高電壓,也可防止電極間的沿面放電及導線間的異常放電。【【解決手段】】在準分子燈10中,將放電氣體封入形成於單管狀的放電容器11內的放電空間15中,在放電容器11的外表面11S上沿著燈軸E配置相向的電極13、14。然後,設置圍繞放電容器11的外管12,將消弧性氣體封入形成於外管12與放電容器11之間的絕緣空間18中。
简体摘要：【【课题】】提供一种可靠度高的准分子灯,在放电空间内不具电极的介电体屏蔽放电或容量结合型高频放电方式的准分子灯中,即使为了得到高的放射输出而对灯施加高电压,也可防止电极间的沿面放电及导线间的异常放电。【【解决手段】】在准分子灯10中,将放电气体封入形成於单管状的放电容器11内的放电空间15中,在放电容器11的外表面11S上沿着灯轴E配置相向的电极13、14。然后,设置围绕放电容器11的外管12,将消弧性气体封入形成于外管12与放电容器11之间的绝缘空间18中。

10. 外观设计

TWD128424S 吸附墊片有权
简体标题：吸附垫片
公开(公告)号：TWD128424S
公开(公告)日：2009-04-21
申请号：TW097302887
申请日：2008-05-19
申请人：奧克製作所股份有限公司 ORC MANUFACTURING CO., LTD.
设计人：石田肇 HAJIME ISHIDA
摘要：【物品用途】
本創作係關於一種吸附墊片,可應用於真空吸引。
【創作特點】
本創作之吸附墊片包括螺紋固定部以及本體,由前視圖可知,本體大致由上而下以漸寬方式堆疊,且依序稱作第一部件、第二部件、第三部件、第四部件以及第五部件。並且搭配俯視圖可知,第一部件以及第四部件係為圓柱形塊體,第二部件大致係為圓柱形塊體並且前端具有圓弧造型,第三部件則為側面傾斜之設計,而第五部件之側面具有凹陷設計,另外,由俯視圖可看出,本體之底部為同心圓式的吸盤,並且本體之底部吸盤被連接線條分成三個區塊。
整體觀之,本創作吸附墊片之整體造形設計予人獨特的造型質感,簡潔俐落,深具美感,誠為符合新式樣專利要件的創新設計,實為同類型產品中所罕見者。
简体摘要：【物品用途】本创作系关于一种吸附垫片,可应用于真空吸引。【创作特点】本创作之吸附垫片包括螺纹固定部以及本体,由前视图可知,本体大致由上而下以渐宽方式堆栈,且依序称作第一部件、第二部件、第三部件、第四部件以及第五部件。并且搭配俯视图可知,第一部件以及第四部件系为圆柱形块体,第二部件大致系为圆柱形块体并且前端具有圆弧造型,第三部件则为侧面倾斜之设计,而第五部件之侧面具有凹陷设计,另外,由俯视图可看出,本体之底部为同心圆式的吸盘,并且本体之底部吸盘被连接线条分成三个区块。整体观之,本创作吸附垫片之整体造形设计予人独特的造型质感,简洁俐落,深具美感,诚为符合新式样专利要件的创新设计,实为同类型产品中所罕见者。

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