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1. 发明申请

WO2009040406A2 VERFAHREN UND ANORDNUNG ZUM REDUNDANTEN ANODEN-SPUTTERN MIT EINER DUAL-ANODEN-ANORDNUNG 审中-公开
标题翻译：方法和设备，用于冗余阳极溅射，双阳极结构
公开(公告)号：WO2009040406A2
公开(公告)日：2009-04-02
申请号：PCT/EP2008/062881
申请日：2008-09-25
申请人： VON ARDENNE ANLAGENTECHNIK GMBH , TESCHNER, Goetz , MIRRING, Enno , STRUEMPFEL, Johannes , HEISIG, Andreas
发明人： TESCHNER, Goetz , MIRRING, Enno , STRUEMPFEL, Johannes , HEISIG, Andreas
IPC分类号： H01J37/34
CPC分类号： H01J37/34 , C23C14/3407 , C23C14/564 , H01J37/3438 , H01J37/3444
摘要： Der Erfindung, die ein Verfahren, bei dem zwei Anoden entgegengesetzt zueinander abwechselnd als Anode der Plasmaentladung und als Kathode zur Selbstreinigung betrieben werden und die Kathode der Plasmaentladung wiederkehrend kurzzeitig umgepolt wird, und eine Anordnung umfassend eine Kathode und eine erste und eine zweite Anode, die mittels einer H-Brückenschaltung mit Spannung versorgt werden, betrifft, liegt die Aufgabe zugrunde, die Wirkung des redundanten Anodensputterns mit Dual-Anoden zu verbessern und die Bauelementesicherheit zu erhöhen. Dies wird dadurch gelöst, dass die DC-Stromversorgung als eine Pulsstromversorgung ausgebildet ist, dass die Umpolung der Kathodenspannung aus der Pulsstromversorgung bewirkt wird, zu jedem Zeitpunkt mindestens eine Anode auf positivem Potential und zeitweise während einer Ätzzeit die andere Anode auf negativem Potential liegt und die H-Brückenschaltung so mit der Pulsstromversorgung in Wirkverbindung steht, dass zu jedem Zeitpunkt mindestens eine Anode auf positivem Potential liegt.
摘要翻译：本发明，其操作彼此交替作为等离子体放电的阳极和作为阴极的自清洁，其中两个阳极对置和等离子体放电的阴极反向重复短时间的方法，以及一种装置，其包括阴极以及第一和第二阳极，由H桥电路具有电压涉及，其目的是改进所述冗余Anodensputterns的双阳极的影响，并增加了安全装置的方式来提供。这得以实现，所述直流电源形成为阴极电压的极性反转从脉冲电源进行脉冲电源，至少一个阳极在正电位，并且在任何时间不时在蚀刻时间和其它阳极处于负电位，而 H桥电路，以便与操作连接脉冲电源连通，至少一个阳极位于正电位的任何点。

2. 发明申请

WO2008003792A2 VAKUUMBESCHICHTUNGSANLAGE MIT EINER TRANSPORTEINRICHTUNG ZUM TRANSPORT VON SUBSTRATEN 审中-公开
标题翻译：与传输设备运输SUBSTRATES真空镀膜生产线
公开(公告)号：WO2008003792A2
公开(公告)日：2008-01-10
申请号：PCT/EP2007/056990
申请日：2007-07-09
申请人： VON ARDENNE ANLAGENTECHNIK GMBH , BAUER, Reinhardt , HUPKA, Frank , HEISIG, Andreas , STRUEMPFEL, Johannes , HECHT, Hans-Christian , ERBKAMM, Wolfgang
发明人： BAUER, Reinhardt , HUPKA, Frank , HEISIG, Andreas , STRUEMPFEL, Johannes , HECHT, Hans-Christian , ERBKAMM, Wolfgang
IPC分类号： B65G37/00 , B65G15/24
CPC分类号： B65G37/005 , B65G15/24 , C23C14/568
摘要： Eine Vakuumbeschichtungsanlage mit einer Transporteinrichtung zum Transport von Substraten in einer Transportrichtung umfasst mindestens einen in der Transportrichtung verlaufend angeordneten ersten Endlosförderer mit einem um mindestens zwei Umlenkrollen geführten endlosen Fördermittel, welches mit einem Abstand zu einer in der Transportrichtung parallel zum Fördermittel des ersten Endlosförderers verlaufend angeordneten Leiteinrichtung so angeordnet ist, dass die Substrate in den Abstand zwischen dem Fördermittel des ersten Endlosförderers und der Leiteinrichtung einführbar und durch die Bewegung des Fördermittels des ersten Endlosförderers in der Transportrichtung bewegbar sind.
摘要翻译：一种真空涂覆设备包括传输设备，用于在输送方向上输送的基板包括至少一个延伸设置在第一环形输送带引导围绕至少两个导向辊的环形输送带，其在从一个平行于第一循环输送机的输送机延伸一段距离布置在传送方向导向装置的传送方向被布置成使得所述底物是通过在第一环形输送带和所述导向器的输送机之间的距离的传送方向上的第一环形输送机的输送机的移动插入和移动。

3. 发明申请

WO2010128129A1 DURCHLAUF-VAKUUMBESCHICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译： PASS真空涂布设备
公开(公告)号：WO2010128129A1
公开(公告)日：2010-11-11
申请号：PCT/EP2010/056231
申请日：2010-05-07
申请人： VON ARDENNE Anlagentechnik GmbH , KLOOSS, Matthias , WOLF, Andrej , STRUEMPFEL, Johannes , LESSMANN, Steffen , ZINDLER, Matthias , JAEGER, Reinhard
发明人： KLOOSS, Matthias , WOLF, Andrej , STRUEMPFEL, Johannes , LESSMANN, Steffen , ZINDLER, Matthias , JAEGER, Reinhard
IPC分类号： C23C14/56
CPC分类号： C23C14/562 , C23C14/568
摘要： Der Erfindung, die eine Durchlauf-Vakuumbeschichtungsanlage mit einer Anlagenkammer betrifft, die statisch bestimmten Versteifungselementen (4) umfasst, die mit Wandungen versehen sind, welche einen Vakuumraum (8) einschließen, liegt die Aufgabe zugrunde, mit der Gestaltung einer Durchlauf-Vakuumbeschichtungsanlage einerseits den gegensätzlichen technologischen Anforderungen gerecht zu werden und andererseits mit einem universalen Ansatz in der Kammerkonstruktion die Fertigungskosten für Anlagenkammern bei Anlagen mit starkem Wiederholcharakter zu beschränken. Dies wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, dass die Versteifungselemente (4) außerhalb des Vakuumraumes (8) angeordnet sind.
摘要翻译：本发明涉及一种具有调节室的连续真空涂层系统中，静态地确定加强元件（4），其设置有壁，该壁包括真空空间（8）中，任务是基于连续的真空涂层系统的设计，一方面满足相互冲突的工艺要求和限制另一方面与在所述腔室结构中，植物室在系统的制造成本具有很强Wiederholcharakter一个通用的方法。这得以实现，所述加强元件（4）的真空腔室（8）的外侧设置。

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