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1. 发明专利

TWI606316B 曝光裝置用之對準裝置及對準記號有权
简体标题：曝光设备用之对准设备及对准记号
公开(公告)号：TWI606316B
公开(公告)日：2017-11-21
申请号：TW105137996
申请日：2012-08-09
申请人： V科技股份有限公司 , V TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：橋本和重 , HASHIMOTO,KAZUSHIGE
IPC分类号： G03F9/00 , H01L21/027
CPC分类号： G01B11/028 , G03F9/00 , G03F9/7069 , G03F9/7088

2. 发明专利

TWI588619B 曝光裝置有权
简体标题：曝光设备
公开(公告)号：TWI588619B
公开(公告)日：2017-06-21
申请号：TW102123863
申请日：2013-07-03
申请人： V科技股份有限公司 , V TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：橋本和重 , HASHIMOTO, KAZUSHIGE , 新井敏成 , ARAI, YOSHINARI , 富塚吉博 , TOMITSUKA, YOSHIHIRO
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/201 , G03F7/2004

3. 发明专利

TWI515704B 膜片曝光方法有权
公开(公告)号：TWI515704B
公开(公告)日：2016-01-01
申请号：TW100140367
申请日：2011-11-04
申请人： V科技股份有限公司 , V TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：新井敏成 , ARAI, TOSHINARI , 橋本和重 , HASHIMOTO, KAZUSHIGE
IPC分类号： G09F9/00 , G03F7/20 , G03F7/16 , H01L21/68
CPC分类号： G03F7/20 , G03B27/10 , G03F7/70791 , G03F9/00 , Y10S430/146

4. 发明专利

TW201534997A 偏振器、偏振光照射裝置及偏光軸方向調整方法审中-公开
简体标题：偏振器、偏振光照射设备及偏光轴方向调整方法
公开(公告)号：TW201534997A
公开(公告)日：2015-09-16
申请号：TW104104139
申请日：2015-02-06
申请人： V科技股份有限公司 , V TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：橋本和重 , HASHIMOTO, KAZUSHIGE , 新井敏成 , ARAI, TOSHINARI
IPC分类号： G02B5/30 , G02B27/28 , G02F1/1337
摘要：本發明提供一種偏振器、偏振光照射裝置及偏光軸方向調整方法，在偏振器單體或並列配置複數個偏振器之偏振光照射裝置中，以高精度進行偏振器的偏光軸方向的調整。前述偏振器具備：基板(10)，在表面形成有線柵(G)；及遮光部(11、11A)，形成於基板(10)上且阻擋透射基板(10)之光，光透射之光透射區域(12A)與遮光部(11、11A)的邊界線(L)相對於線柵(G)的延伸方向在設定方向上形成為直線狀。
简体摘要：本发明提供一种偏振器、偏振光照射设备及偏光轴方向调整方法，在偏振器单体或并列配置复数个偏振器之偏振光照射设备中，以高精度进行偏振器的偏光轴方向的调整。前述偏振器具备：基板(10)，在表面形成有线栅(G)；及遮光部(11、11A)，形成于基板(10)上且阻挡透射基板(10)之光，光透射之光透射区域(12A)与遮光部(11、11A)的边界线(L)相对于线栅(G)的延伸方向在设置方向上形成为直线状。

5. 发明专利

TWI578110B 曝光裝置及曝光結束材料之製造方法有权
简体标题：曝光设备及曝光结束材料之制造方法
公开(公告)号：TWI578110B
公开(公告)日：2017-04-11
申请号：TW102100003
申请日：2013-01-02
申请人： V科技股份有限公司 , V TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：橋本和重 , HASHIMOTO, KAZUSHIGE
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F9/7038 , G03F9/7088

6. 发明专利

TWI570518B 曝光裝置用之對準裝置有权
简体标题：曝光设备用之对准设备
公开(公告)号：TWI570518B
公开(公告)日：2017-02-11
申请号：TW101128772
申请日：2012-08-09
申请人： V科技股份有限公司 , V TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：橋本和重 , HASHIMOTO, KAZUSHIGE
IPC分类号： G03F7/20 , G03F9/00
CPC分类号： G01B11/028 , G03F9/00 , G03F9/7069 , G03F9/7088

7. 发明专利

TW201640185A 偏振光照射裝置审中-公开
简体标题：偏振光照射设备
公开(公告)号：TW201640185A
公开(公告)日：2016-11-16
申请号：TW105111041
申请日：2016-04-08
申请人： V科技股份有限公司 , V TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：橋本和重 , HASHIMOTO, KAZUSHIGE , 新井敏成 , ARAI, TOSHINARI
IPC分类号： G02B27/28
CPC分类号： G02B5/30 , G02F1/1337
摘要：本發明之偏振光照射裝置，能夠防止因熱膨脹所產生之不良情況。其解決手段為：彈性構件，抵接於在使從光源射出之光偏振的俯視觀察下呈大致矩形形狀之板狀之偏振片之第1側面。彈性構件，將與偏振片之第1側面對向之側面，朝向保持構件之壁彈壓。
简体摘要：本发明之偏振光照射设备，能够防止因热膨胀所产生之不良情况。其解决手段为：弹性构件，抵接于在使从光源射出之光偏振的俯视观察下呈大致矩形形状之板状之偏振片之第1侧面。弹性构件，将与偏振片之第1侧面对向之侧面，朝向保持构件之壁弹压。

8. 发明专利

TW201403256A 曝光裝置审中-公开
简体标题：曝光设备
公开(公告)号：TW201403256A
公开(公告)日：2014-01-16
申请号：TW102123863
申请日：2013-07-03
申请人： V科技股份有限公司 , V TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：橋本和重 , HASHIMOTO, KAZUSHIGE , 新井敏成 , ARAI, YOSHINARI , 富塚吉博 , TOMITSUKA, YOSHIHIRO
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/201 , G03F7/2004
摘要：本發明提供一種曝光裝置，該曝光裝置將複數個短尺寸燈用作光源，能夠以簡單的結構進行照度不均較低的曝光。並且提供一種容易更換燈之曝光裝置。本發明的曝光裝置(100)具有：輸送部(2)，向輸送方向輸送被曝光體(11)；光照射部(3)，在水平面內以規定間隔排列配置有複數個光照射單元(31)，前述光照射單元具備長邊方向的長度比被曝光體(11)短的棒狀光源(32)、以及配置於光源(32)與被曝光體(11)之間之偏光器(34)，光照射單元(31)的光源(32)與偏光器(34)相對於被曝光體(11)平行配置，並且各偏光器(34)的偏振軸的方向相對於輸送方向被設定於規定方向上，各光源(32)配置成光源(32)的長邊方向相對於輸送方向呈平行或傾斜方向。曝光裝置(100)具有使被曝光體(11)或光照射部(3)向相對於輸送方向交叉之方向擺動之擺動機構(56b)。
简体摘要：本发明提供一种曝光设备，该曝光设备将复数个短尺寸灯用作光源，能够以简单的结构进行照度不均较低的曝光。并且提供一种容易更换灯之曝光设备。本发明的曝光设备(100)具有：输送部(2)，向输送方向输送被曝光体(11)；光照射部(3)，在水平面内以规定间隔排列配置有复数个光照射单元(31)，前述光照射单元具备长边方向的长度比被曝光体(11)短的棒状光源(32)、以及配置于光源(32)与被曝光体(11)之间之偏光器(34)，光照射单元(31)的光源(32)与偏光器(34)相对于被曝光体(11)平行配置，并且各偏光器(34)的偏振轴的方向相对于输送方向被设置于规定方向上，各光源(32)配置成光源(32)的长边方向相对于输送方向呈平行或倾斜方向。曝光设备(100)具有使被曝光体(11)或光照射部(3)向相对于输送方向交叉之方向摆动之摆动机构(56b)。

9. 发明专利

TW201802553A 偏振光照射裝置审中-公开
简体标题：偏振光照射设备
公开(公告)号：TW201802553A
公开(公告)日：2018-01-16
申请号：TW106115231
申请日：2017-05-09
申请人： V科技股份有限公司 , V TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：橋本和重 , HASHIMOTO, KAZUSHIGE , 新井敏成 , ARAI, TOSHINARI
IPC分类号： G02F1/1337 , G02B5/30
CPC分类号： G02F1/1337
摘要：本發明之課題在於能夠以簡單之構成使向對象物照射之累計光量均勻。光源11係呈二維狀地排列有長度方向相對於上述對象物之掃描方向傾斜地設置之複數個燈11x(發光區域)。若將於掃描方向上鄰接之第1燈與第2燈在與掃描方向大致正交之方向上之間隔設為P，則第1燈及第2燈之兩端在與掃描方向大致正交之方向上錯開P/n(n為1以上之整數)，第1燈之第2燈側之端與第2燈之上述第1燈側之端在與掃描方向大致正交之方向上錯開P-P/n(n為1以上之整數)。又，若設為於光源11中，燈11x在掃描方向上排列有a(a為2以上之整數)個，則第1燈與在與掃描方向大致正交之方向上鄰接於第1燈的第3燈之間隔為P×a。
简体摘要：本发明之课题在于能够以简单之构成使向对象物照射之累计光量均匀。光源11系呈二维状地排列有长度方向相对于上述对象物之扫描方向倾斜地设置之复数个灯11x(发光区域)。若将于扫描方向上邻接之第1灯与第2灯在与扫描方向大致正交之方向上之间隔设为P，则第1灯及第2灯之两端在与扫描方向大致正交之方向上错开P/n(n为1以上之整数)，第1灯之第2灯侧之端与第2灯之上述第1灯侧之端在与扫描方向大致正交之方向上错开P-P/n(n为1以上之整数)。又，若设为于光源11中，灯11x在扫描方向上排列有a(a为2以上之整数)个，则第1灯与在与扫描方向大致正交之方向上邻接于第1灯的第3灯之间隔为P×a。

10. 发明专利

TW201714027A 曝光裝置用之對準裝置及對準記號审中-公开
简体标题：曝光设备用之对准设备及对准记号
公开(公告)号：TW201714027A
公开(公告)日：2017-04-16
申请号：TW105137996
申请日：2012-08-09
申请人： V科技股份有限公司 , V TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：橋本和重 , HASHIMOTO,KAZUSHIGE
IPC分类号： G03F9/00 , H01L21/027
CPC分类号： G01B11/028 , G03F9/00 , G03F9/7069 , G03F9/7088
摘要：本發明在對準裝置中，設置射出對準用光線的對準光源，例如內建於相機中。然後，對準光源，以與例如相機所檢測出之光線的光軸同軸的方式射出對準光線。對準光線，照射到基板以及遮罩，其反射光被相機所檢測出。曝光用的微透鏡陣列，亦存在於遮罩對準記號與基板對準記號之間，藉此，便可在遮罩上形成基板對準記號所反射之正立等倍像。然後，根據相機所檢測出之遮罩對準記號的反射光以及基板對準記號，控制裝置進行基板與遮罩的對準。藉此，便能夠以高精度進行基板與遮罩的對準。
简体摘要：本发明在对准设备中，设置射出对准用光线的对准光源，例如内置于相机中。然后，对准光源，以与例如相机所检测出之光线的光轴同轴的方式射出对准光线。对准光线，照射到基板以及遮罩，其反射光被相机所检测出。曝光用的微透镜数组，亦存在于遮罩对准记号与基板对准记号之间，借此，便可在遮罩上形成基板对准记号所反射之正立等倍像。然后，根据相机所检测出之遮罩对准记号的反射光以及基板对准记号，控制设备进行基板与遮罩的对准。借此，便能够以高精度进行基板与遮罩的对准。

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