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    • 6. 发明申请
    • EIN- ODER MEHRSEITIGE SUBSTRATBESCHICHTUNG
    • 一个或多个侧面基材涂层
    • WO2011154094A1
    • 2011-12-15
    • PCT/EP2011/002551
    • 2011-05-23
    • UHDE GMBHDULLE, Karl-HeinzFUNCK, FrankHOORMANN, DirkOELMANN, StefanWOLTERING, PeterSCHMITT, CarstenHOFMANN, PhilippBÄUMER, Ulf-Steffen
    • DULLE, Karl-HeinzFUNCK, FrankHOORMANN, DirkOELMANN, StefanWOLTERING, PeterSCHMITT, CarstenHOFMANN, PhilippBÄUMER, Ulf-Steffen
    • C23C14/00C23C14/02C23C14/08C23C14/16C23C14/32B01J37/02C25B11/04
    • C23C14/22B01J21/063B01J23/462B01J23/468B01J37/14B01J37/341B01J37/347C23C14/0021C23C14/024C23C14/08C23C14/083C23C14/16C23C14/325C25B11/0478
    • Ein- oder mehrseitige Substratbeschichtung mit katalytisch aktivem Material herstellbar durch ein Verfahren, umfassend eine Materialabscheidung unter Vakuum in einer Vakuumkammer, wobei die folgenden Schritte durchlaufen werden: (a) Beladung der Vakuumkammer mit mindestens einem Substrat, (b) Verschluss und Evakuierung der Vakuumkammer, (c) Substratreinigung durch Einleitung eines gasförmigen Reduktionsmittels in die Vakuumkammer, (d) Entfernen des gasförmigen Reduktionsmittels, (e) Aufbringen einer Zwischenschicht mittels Vakuumbogenverdampfen, wobei ein Substrat gleiches oder ähnliches Material in die Vakuumkammer geleitet wird, (f) Einstellen der Vakuumkammer auf eine Temperatur von 150°C bis 400°C, (g) Aufbringen einer Beschichtung mittels Vakuumbogenverdampfen, wobei mindestens ein Metall, genommen aus der Gruppe Ruthenium, Iridium, Titan und Mischungen davon in die Vakuumkammer geleitet werden, und über die gesamte Beschichtungszeit Sauerstoff zugeführt wird, (h) in einem letzten Schritt die Vakuumkammer wieder geflutet wird und das beschichtete Substrat der Kammer entnommen wird, wobei die vorgenannten Schritte und Übergänge von einem Schritt zu dem jeweiligen nächsten im Vakuum bei gegebenenfalls unterschiedlichen Drücken, die über ein Schutzgas eingestellt werden, durchgeführt werden, dadurch gekennzeichnet, dass die ein- oder mehrseitige Substratbeschichtung zu mindestens 99 % von ursprünglich im Substrat selbst enthaltenen Bestandteilen freigehalten wird, wobei die auf der Zwischenschicht aufgetragene Beschichtung zu mindestens 99 % von nicht-oxidierten Metallen freigehalten wird.
    • 单个或多个基底涂层与由包含在真空室中的真空下的材料沉积的方法制备的催化活性材料,其中以下步骤被执行:(1)装载具有至少一个基板的真空腔室,(b)中在真空室的闭合和疏散, (c)中通过引入气态还原剂到真空室中通过其中相似的基底或类似的材料被供给到真空腔室Vakuumbogenverdampfen,来施加中间层的基板清洗,(d)除去所述气态还原剂,(E),(F)在真空室设置为 的150℃的温度至400℃,(G),借助于施加涂层Vakuumbogenverdampfen,其中它们引入到真空室中,并且氧气被在整个涂层时提供选自钌,铱,钛及其混合物的采取的至少一个金属 是(h)在一个 最后的步骤中,真空室被再次淹没和腔室的经涂覆的衬底被去除,由此,从一个步骤到在真空中各自的下一个在可能不同的压力下的上述步骤和转换,经由惰性气体设定被执行,其特征在于 与施加到所述中间层用涂组合物中的单个或多个基底涂层保持非氧化金属的自由至少99%被从包含的自我在衬底成分原来保持无至少99%。