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1. 发明专利

JP2015018982A インプリント装置およびインプリント方法、それを用いた物品の製造方法有权
标题翻译：印刷装置和印刷方法以及使用该方法制造制品的方法
公开(公告)号：JP2015018982A
公开(公告)日：2015-01-29
申请号：JP2013146017
申请日：2013-07-12
申请人：キヤノン株式会社 , Canon Inc , モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド , Molecular Imprints Inc , 株式会社東芝 , Toshiba Corp
发明人： YAMASHITA TAKASHI , WATANABE YUTAKA , BRIAN FLETCHER , GERARD SCHMID , NIYAZ KHUSNATDINOV , IM SE-HYUK , KONO TAKUYA , HATANO MASAYUKI , YONEDA IKUO
IPC分类号： H01L21/027 , B29C59/02
CPC分类号： B29C43/34 , B29C31/045 , B29C2043/025 , B29C2043/3438 , B29C2043/5875 , G03F7/0002
摘要：【課題】型の凹凸パターンに対する樹脂の未充填部分の発生の抑止でき、スループットを向上させるのに有利なインプリント装置を提供する。【解決手段】インプリント装置は、基板上の複数箇所に樹脂(液滴32)を塗布し、樹脂と型とを接触させ、型に形成された凹凸パターンを樹脂に転写する。このインプリント装置は、凹凸パターンに応じた主軸方向31を設定し、主軸方向31に離間して塗布された樹脂間の距離αが、主軸方向31と直交する方向に離間して塗布された樹脂間の距離&bgr;よりも大きくなるように、設定された主軸方向31に基づいて樹脂の塗布位置を決定する制御部と、決定された塗布位置に基づいて樹脂を塗布する塗布部とを備える。【選択図】図6
摘要翻译：要解决的问题：提供一种压印装置，其能够抑制由模具的凹凸图案中的树脂产生未填充部分，并且有利于提高生产量。解决方案：压印装置被配置为施加树脂液滴32）到基板上的多个部分，以使树脂与模具接触，并将形成在模具中的凹凸图案转印到树脂上。压印装置包括：控制单元，其根据凹凸图案设置主轴线方向31，并且基于设定的主轴方向31确定树脂的施加位置，使得树脂液滴之间的距离α 沿主轴方向31间隔地施加的距离大于距离bgr; 在与主轴方向31正交的方向间隔开的树脂液滴之间; 以及基于所确定的施加位置施加树脂的施加单元。

2. 发明专利

JP2014051050A Mold, blank base plate for mold, method for producing the mold 有权
标题翻译：模具，用于模具的空白基板，用于生产模具的方法
公开(公告)号：JP2014051050A
公开(公告)日：2014-03-20
申请号：JP2012197806
申请日：2012-09-07
申请人： Toshiba Corp , 株式会社東芝
发明人： YONEDA IKUO , NAKASUGI TETSUO
IPC分类号： B29C33/42 , H01L21/027
CPC分类号： B29C59/02 , B29C33/424 , G03F7/0002 , Y10T428/24488
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a mold on which a pattern is formed in high yield and to provide a blank base plate for molds, and a method for producing the mold.SOLUTION: The mold of one embodiment includes a base material, a pedestal part, and a pattern part. The base material has a first surface and a second surface on the opposite side of the first surface. The pedestal part is arranged to be projected from the first surface of the base material and has a side face. The pattern part has a rugged pattern arranged on the pedestal part. The pedestal part has a rugged pattern-arranged first zone and a second zone arranged between the first zone and the side face. The maximum height of the first zone is made equal to that of the second zone. The first height of a side face-side portion of the second zone is made lower than the second height of a first zone-side portion of the second zone.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种以高产率形成图案的模具，并提供用于模具的坯料底板及其制造方法。一种实施方式的模具包括基材，基座部分和图案部分。基材具有在第一表面的相对侧上的第一表面和第二表面。基座部被布置成从基材的第一表面突出并具有侧面。图案部分具有布置在基座部分上的凹凸图案。基座部分具有凹凸图案布置的第一区域和布置在第一区域和侧面之间的第二区域。使第一区域的最大高度等于第二区域的最大高度。使第二区域的侧面部分的第一高度低于第二区域的第一区域侧部分的第二高度。

3. 发明专利

JP2012174921A Method of manufacturing organic thin-film solar cell 审中-公开
标题翻译：制造有机薄膜太阳能电池的方法
公开(公告)号：JP2012174921A
公开(公告)日：2012-09-10
申请号：JP2011036224
申请日：2011-02-22
申请人： Toshiba Corp , 株式会社東芝
发明人： AZUMA TSUKASA , YONEDA IKUO , SAMBONGI AKIKO , INENAMI RYOICHI , SAITO MITSUNAGA , IWANAGA HIRONORI , HIRAO AKIKO
IPC分类号： H01L51/42
CPC分类号： H01L51/0024 , H01L51/42 , Y02E10/549 , Y02P70/521
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To manufacture an organic thin-film solar cell in which area of contact between an electron transport layer and a hole transport layer and a photoelectric conversion layer is large at a low cost.SOLUTION: According to an embodiment, a method of manufacturing an organic thin-film solar cell comprises the steps of: forming, on a first electrode, a first transport layer having a concavo-convex pattern and a photoelectric conversion layer provided on a surface of the concavo-convex pattern; forming a second transport layer on a second electrode; and molding the second transport layer by bringing the concavo-convex pattern, on the surface of which the photoelectric conversion layer is formed, into contact with the second transport layer.
摘要翻译：要解决的问题：以低成本制造其中电子传输层和空穴传输层和光电转换层之间的接触面积大的有机薄膜太阳能电池。解决方案：根据实施例，制造有机薄膜太阳能电池的方法包括以下步骤：在第一电极上形成具有凹凸图案的第一传输层和设置在其上的光电转换层凹凸图案的表面; 在第二电极上形成第二传输层; 并且通过使其形成有光电转换层的表面上的凹凸图案与第二传输层接触来模制第二传输层。版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

4. 发明专利

JP2012064768A Exposure device and exposure method 审中-公开
标题翻译：曝光装置和曝光方法
公开(公告)号：JP2012064768A
公开(公告)日：2012-03-29
申请号：JP2010207988
申请日：2010-09-16
申请人： Toshiba Corp , 株式会社東芝
发明人： YONEDA IKUO
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an exposure device and an exposure method capable of finely monitoring and adjustment of an exposure amount.SOLUTION: The exposure device of an embodiment comprises: a light source which emits EUV light and irradiates a first substrate on which a pattern was created with the EUV light; a reduction optical system which includes an optical element and transfers the pattern to a second substrate by reducing a luminous flux emitted from the first substrate and irradiating the second substrate with the reduced luminous flux; photoelectron detection means for detecting a photoelectron generated from the optical element as a result of irradiating the first substrate with the EUV light; and an in-plane distribution creation part which creates in-plane distribution information representing the state distribution of an optical element surface from a detection signal of the photoelectron detection means and coordinate information of the optical element surface.
摘要翻译：要解决的问题：提供能够精细地监测和调整曝光量的曝光装置和曝光方法。解决方案：一个实施例的曝光装置包括：发射EUV光的光源，并用EUV光照射其上形成图案的第一基板; 还原光学系统，其包括光学元件，并且通过减少从第一基板发射的光束并用减小的光通量照射第二基板将图案转移到第二基板; 光电子检测装置，用于通过用EUV光照射第一基板，检测从光学元件产生的光电子; 以及从光电子检测装置的检测信号和光学元件表面的坐标信息生成表示光学元件表面的状态分布的平面内分布信息的平面内分布制作部。版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

5. 发明专利

JP2012019222A Pattern formation method 有权
标题翻译：模式形成方法
公开(公告)号：JP2012019222A
公开(公告)日：2012-01-26
申请号：JP2011172831
申请日：2011-08-08
申请人： Toshiba Corp , 株式会社東芝
发明人： KOSHIBA TAKESHI , NAKASUGI TETSUO , YONEDA IKUO
IPC分类号： H01L21/027 , B29C59/02
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a pattern formation method capable of suppressing the generation of pattern defects when forming a pattern on a substrate.SOLUTION: A pattern formation method comprises: a step for determining an amount of volatile hardening resin to be formed on a substrate; a step for forming on the substrate the hardening resin in the amount thus determined; a step for bringing a template, which has a pattern to be filled with the hardening resin when brought into contact with the resin, into contact with the hardening resin while supplying gas to the hardening resin; a step for supplying gas under different conditions for a central section of the substrate and for a peripheral section of the substrate so that an amount of volatilization of the hardening resin may be uniform over the entire substrate; a step for hardening the hardening resin with the template making contact with the hardening resin.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够抑制在基板上形成图案时产生图案缺陷的图案形成方法。解决方案：图案形成方法包括：确定在基板上形成的挥发性硬化树脂的量的步骤; 在所述基板上形成由此确定的量的硬化树脂的步骤; 在向硬化树脂供给气体的同时，使具有与硬化树脂填充的图案的模板在与树脂接触时与硬化树脂接触的步骤; 在基板的中心部分和基板的周边部分的不同条件下供应气体的步骤，使得硬化树脂的挥发量在整个基板上可能是均匀的; 用与硬化树脂接触的模板硬化硬化树脂的步骤。版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

6. 发明专利

JP2008183732A Pattern forming method and mold for forming pattern 有权
标题翻译：形成图案的图案形成方法和模具
公开(公告)号：JP2008183732A
公开(公告)日：2008-08-14
申请号：JP2007016816
申请日：2007-01-26
申请人： Toshiba Corp , 株式会社東芝
发明人： YONEDA IKUO , UMAGOE TOSHIYUKI
IPC分类号： B29C59/02 , H01L21/027
CPC分类号： H01L21/0271 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent the lowering of a yield caused by the damage to a backing pattern formed in the region of a shot joint, for example, in the etching process.
SOLUTION: A mold 1 having a prescribed pattern 13 is brought into contact with an imprint material on a substrate to be processed every shot to form the pattern to be transferred in turn. A mold is arranged so that at least parts (regions 11 and 12) of the mutual patterns overlap in two adjacent ones of the shots.
COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：例如，在蚀刻工艺中，防止由于在喷射接头区域中形成的背衬图案的损坏而导致的屈服的降低。解决方案：具有规定图案13的模具1与每一次要处理的基板上的压印材料接触以依次形成要转印的图案。模具被布置成使得相互图案的至少一部分（区域11和12）在两个相邻的拍摄中重叠。版权所有（C）2008，JPO＆INPIT

7. 发明专利

JP2004095712A Development method, substrate treatment method, and substrate treatment apparatus 有权
公开(公告)号：JP2004095712A
公开(公告)日：2004-03-25
申请号：JP2002252503
申请日：2002-08-30
申请人： Toshiba Corp , 株式会社東芝
发明人： ITO MASAMITSU , SAKURAI HIDEAKI , YONEDA IKUO
IPC分类号： G03F7/30 , H01L21/027 , H01L21/304
CPC分类号： G03F7/30 , Y10S438/906
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To make uniform the finished dimension of a pattern regardless of the crude density of the pattern. SOLUTION: The substrate treatment method includes a step for finding a relation between the dissolution concentration of a resist in a developer and the dissolution speed of the resist by the developer beforehand, a step for estimating the dissolution concentration of the resist with which the dissolution speed of the resist becomes equal with or higher than a desired speed in advance from the said relation, and a step for performing developing in a state that the dissolution concentration of the resist in the developer is lower than or equal with the estimated dissolution concentration. COPYRIGHT: (C)2004,JPO

8. 发明专利

JP2015018983A インプリント装置およびインプリント方法、それを用いた物品の製造方法有权
标题翻译：印刷装置和印刷方法以及使用该方法制造制品的方法
公开(公告)号：JP2015018983A
公开(公告)日：2015-01-29
申请号：JP2013146018
申请日：2013-07-12
申请人：キヤノン株式会社 , Canon Inc , モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド , Molecular Imprints Inc , 株式会社東芝 , Toshiba Corp
发明人： YAMASHITA TAKASHI , WATANABE YUTAKA , BRIAN FLETCHER , GERARD SCHMID , NIYAZ KHUSNATDINOV , IM SE-HYUK , KONO TAKUYA , HATANO MASAYUKI , YONEDA IKUO
IPC分类号： H01L21/027 , B29C59/02
CPC分类号： G03F7/0002
摘要：【課題】型の凹凸パターンに対する樹脂の未充填部分の発生の抑止でき、スループットを向上させるのに有利なインプリント装置を提供する。【解決手段】インプリント装置は、基板上の複数箇所に分散して樹脂(液滴32)を塗布し、樹脂と型とを接触させて、型に形成された凹凸パターンを樹脂に転写する。このインプリント装置は、凹凸パターンに応じた主軸方向31と、複数の樹脂が並ぶ配列方向33とを設定し、配列方向33が主軸方向31に対して傾くように、樹脂の塗布位置を決定する制御部と、決定された塗布位置に基づいて樹脂を塗布する塗布部とを備える。【選択図】図7
摘要翻译：要解决的问题：提供一种压印装置，其能够抑制由模具的凹凸图案中的树脂产生未填充部分，并且有利于提高生产量。解决方案：压印装置被配置为施加树脂液滴32）分散到基板上的多个部分，以使树脂与模具接触并将形成在模具中的凹凸图案转印到树脂上。压印装置包括控制单元，该控制单元根据凹凸图案设置主轴方向31，并且布置多个树脂液滴的布置方向33，并且确定树脂的施加位置，使得排列方向33相对于主轴方向31倾斜，施加单元基于确定的施加位置施加树脂。

9. 发明专利

JP2013069921A Imprint method 审中-公开
标题翻译： IMPRINT方法
公开(公告)号：JP2013069921A
公开(公告)日：2013-04-18
申请号：JP2011208117
申请日：2011-09-22
申请人： Toshiba Corp , 株式会社東芝
发明人： HATANO MASAYUKI , NAKASUGI TETSUO , YONEDA IKUO
IPC分类号： H01L21/027 , B29C59/02
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an imprint method that can perform a high-throughput pattern transfer with less defect while achieving long life of a template.SOLUTION: In an imprint method of an embodiment, a resist layer is formed on a processing target film on a substrate. Resist droplets are dropped at a position on the substrate to which a pattern outside region as being region located further outside than a template pattern comes close when a template is pressed against the substrate. Thereafter, the template is brought near the resist layer and the pattern outside region is pressed against the resist droplets. Further, protruded parts of the template pattern are inserted to an intermediate depth in the resit layer until a gap between recessed parts of the template pattern and the resist layer reaches a predetermined distance without any contact between the recessed parts of the template pattern and the resist layer. Thereafter, the resist layer is cured.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种压印方法，其能够以较少的缺陷执行高通量图案转移，同时实现模板的长寿命。解决方案：在实施例的压印方法中，在基板上的处理目标膜上形成抗蚀剂层。当模板被压靠在基板上时，抵抗液滴落在基板上的作为位于模板图案之外的区域靠近的图案外部区域的位置处。此后，使模板靠近抗蚀剂层，并且图案外部区域被压靠在抗蚀剂液滴上。此外，将模板图案的突出部分插入到折叠层的中间深度，直到模板图案的凹陷部分和抗蚀剂层之间的间隙达到预定距离，而模板图案的凹陷部分和抗蚀剂之间没有任何接触层。此后，抗蚀剂层被固化。版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

10. 发明专利

JP2011161711A Imprinting method and imprint apparatus 有权
标题翻译：印刷方法和印刷装置
公开(公告)号：JP2011161711A
公开(公告)日：2011-08-25
申请号：JP2010025239
申请日：2010-02-08
申请人： Toshiba Corp , 株式会社東芝
发明人： HATANO MASAYUKI , NAKASUGI TETSUO , YONEDA IKUO , OKI KENJI
IPC分类号： B29C59/02 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an imprinting method and an imprint apparatus which reduce the time for filling concave parts of a template with a transfer material and improve productivity.
SOLUTION: The imprinting method includes a process of dropping a transfer material 30 on the principal surface 20a of a to-be-processed substrate 20 to form droplets 30d of the transfer material having a volume larger than a predetermined reference volume, a process of volatilizing the droplets to reduce the volume of the droplets to a value smaller than the reference volume and a process of bringing the droplets whose volume has been reduced to a value smaller than the reference volume into contact with the transfer surface of a template 10 having concave parts 12b in the transfer surface 10a so as to fill the concave parts with the transfer material.
COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供一种压印方法和压印装置，其减少用转印材料填充模板的凹部的时间并提高生产率。解决方案：压印方法包括将转印材料30放在待处理衬底20的主表面20a上以形成体积大于预定参考体积的转印材料的液滴30d的过程，将液滴挥发以将液滴的体积减小到小于参考体积的值的过程以及将体积已经减小到小于参考体积的值的液滴与模板10的转印表面接触的过程在转印表面10a中具有凹部12b，以便用转印材料填充凹部。版权所有（C）2011，JPO＆INPIT

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