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1. 发明申请

US20130337387A1 RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN 审中-公开
标题翻译：耐蚀组合物和形成耐力图案的方法
公开(公告)号：US20130337387A1
公开(公告)日：2013-12-19
申请号：US13868462
申请日：2013-04-23
申请人： Tokyo Ohta Kogyo Co., Ltd.
发明人： Masahito Yahagi , Jun Iwashita
IPC分类号： G03F7/004
CPC分类号： G03F7/004 , G03F7/0045 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/2041 , G03F7/2059 , G03F7/40
摘要： A resist composition including a base component (A) which generates acid upon exposure and exhibits changed solubility in a developing solution by the action of acid, (A) including (A1) including (a0) and (a2), and the resist composition having a Tf temperature of lower than 170° C. (└La01 represents —COO—, —CON(R′)— or a divalent aromatic group, R′ represents a hydrogen atom or a methyl group, Va01 represents a linear alkylene group of at least 3 carbon atoms, A− represents an anion-containing group, Mm+ represents an organic cation, Ya21 represents a single bond or divalent linking group, La21 represents —O—, —COO—, —CON(R′)— or —OCO—, R′ represents a hydrogen atom or a methyl group, and Ra21 represents a lactone-containing group, a carbonate containing group or an —SO2— containing group.
摘要翻译：一种抗蚀剂组合物，其包含在曝光后产生酸的基础组分（A），并且通过酸作用而在显影液中溶解度变化，（A）包括（A1）（a0）和（a2）），并且所述抗蚀剂组合物具有（◎La01表示-COO-，-CON（R'） - 或二价芳族基团，R'表示氢原子或甲基，Va 01表示直链亚烷基，至少3个碳原子，A-表示含阴离子基团，Mm +表示有机阳离子，Ya21表示单键或二价连接基团，La 21表示-O - ， - COO - ， - CON（R'） - 或-OCO - ，R'表示氢原子或甲基，Ra 21表示含内酯基，含碳酸酯基或-SO 2 - 基团。

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