专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明授权

US5338419A Electrodeposition bath containing a urethane 失效
标题翻译：含有聚氨酯的电沉积浴
公开(公告)号：US5338419A
公开(公告)日：1994-08-16
申请号：US58933
申请日：1993-05-07
申请人： Susanne Wehner , Heinz Klima , Michael Hoenel , Peter Ziegler , Gerd Walz
发明人： Susanne Wehner , Heinz Klima , Michael Hoenel , Peter Ziegler , Gerd Walz
IPC分类号： C08L63/00 , C08G59/28 , C09D5/44 , C09D175/00 , C09D175/04 , C25D13/06 , C25D13/10
CPC分类号： C09D5/4492 , Y10S524/901
摘要： An electrodeposition bath comprising a urethane of the formulaR.sub.1 --NHCOO--R.sub.2in whichR.sub.1 is alkyl or a group of the formulaB.sub.1 --NH--B.sub.2 --[X--B.sub.3 ].sub.n --, R.sub.2 is a group of the formulae --(C.sub.2 H.sub.4 O).sub.y --R.sub.1, --(C.sub.3 H.sub.7 O).sub.y --R or of the formula ##STR1## R is C.sub.1 -C.sub.18 -alkyl, Y is a number from zero to 4,B.sub.1 is hydrogen, alkyl or a group of the formula--COOR.sub.2, B.sub.2 and B.sub.3 may be identical or different and are C.sub.2 -C.sub.14 -alkylene,n is an integer from 0 to 5,X is --0--, --S--, --NH--or >N--(C.sub.1 -C.sub.4) alkyl,R.sub.3 is hydrogen, alkyl, alkenyl, hydroxyalkyl, phenyl or alkylphenyl,R.sub.4 and R.sub.5 may be identical or different and are hydrogen or C.sub.1 -C.sub.4 -alkyl andA is a direct bond or one of the groups --O--, --CH.sub.2 O- or --CH.sub.2 OCO--.The inclusion of these urethanes in the electrodeposition bath brings about a reduction in the number of surface defects on galvanized surfaces.
摘要翻译：包含式R1-NHCOO-R2的氨基甲酸酯的电沉积浴，其中R 1是烷基或式B1-NH-B2- [X-B3] n - 的基团，R 2是下式的基团 - （C 2 H 4 O）y -R1， - （C3H7O）yR或式的化合物R是C1-C18-烷基，Y是从0到4的数字，B1是氢，烷基或式-COOR2，B2和B3的基团相同或不同，为C 2 -C 14 - 亚烷基，n为0至5的整数，X为-O-，-S-， - NH-或> N-（C 1 -C 4）烷基，R 3为氢，烷基，烯基，羟基烷基，苯基或烷基苯基，R 4和R 5可以相同或不同，为氢或C 1 -C 4 - 烷基，A为直接键或-O-，-CH 2 O-或-CH 2 OCO - 基团之一。将这些氨基甲酸酯包含在电沉积浴中导致镀锌表面上的表面缺陷数量的减少。

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式