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1. 发明申请

WO2008046553A1 VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR LOKALEN ERZEUGUNG VON MIKROWELLENPLASMEN 审中-公开
标题翻译：装置和方法微波等离子体中当地生产
公开(公告)号：WO2008046553A1
公开(公告)日：2008-04-24
申请号：PCT/EP2007/008840
申请日：2007-10-11
申请人： IPLAS INNOVATIVE PLASMA SYSTEMS GMBH , SPITZL, Ralf
发明人： SPITZL, Ralf
IPC分类号： H01J37/32
CPC分类号： H01J37/3222 , H01J37/32192 , H01J37/32366
摘要： Eine Vorrichtung zur lokalen Erzeugung von Mikrowellenplasmen weist mindestens eine Mikrowelleneinspeisung auf, die von mindestens einem dielektrischen Rohr (1) umgeben ist. Mindestens eines der dielektrischen Rohre ist dabei teilweise mit einer Metallummantelung (2) umgeben, wobei vorzugsweise das äußere dielektrische Rohr ummantelt wird. Mittels Abschirmung von Mikrowellen wird ein lokal begrenztes Plasma mit einer oben beschriebenen Vorrichtung erzeugt.
摘要翻译：一种用于在当地生产微波等离子体装置具有至少一个微波馈送，其由至少一个电介质管（1）包围。至少在介电管的一个部分地由金属护套覆盖（2）包围，优选地，其中所述外部电介质管被涂覆。通过屏蔽微波产生具有如上所述的装置的局部等离子体。

2. 发明申请

WO2008046551A1 VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR ERZEUGUNG VON MIKROWELLENPLASMEN HOHER LEISTUNG 审中-公开
标题翻译：装置及其制造方法微波等离子体HIGH PERFORMANCE
公开(公告)号：WO2008046551A1
公开(公告)日：2008-04-24
申请号：PCT/EP2007/008838
申请日：2007-10-11
申请人： IPLAS INNOVATIVE PLASMA SYSTEMS GMBH , SPITZL, Ralf
发明人： SPITZL, Ralf
IPC分类号： H01J37/32
CPC分类号： H01J37/32522 , H01J37/32192 , H01J37/3222
摘要： Eine Vorrichtung zur Erzeugung von Mikrowellenplasmen hoher Leistung weist mindestens eine Mikrowelleneinspeisung (1, 2, 4) auf, die von mindestens einem dielektrischen Rohr umgeben ist. Der Raum zwischen Mikrowelleneinspeisung und dem äußeren dielektrischem Rohr wird dabei von einem dielektrischen Fluid durchströmt, wobei das dielektrische Fluid einen kleinen dielektrischen Verlustfaktor tan delta im Bereich 10-2 bis 10-7 aufweist. Mittels eines Fluids wird zumindest das äussere dielektrische Rohr einer oben beschriebenen Vorrichtung gekühlt.
摘要翻译：用于产生微波等离子体的装置，高功率具有至少一个微波进料（1，2，4），其由至少一个电介质管包围。微波进料和外部电介质管之间的空间是在这种情况下，通过由电介质流体，其中，所述介电流体具有在10-2至10-7具有在所述范围小的介电损耗角正切的tanδ通过。通过流体的手段，至少作为上述的装置的外部电介质管被冷却。

3. 发明申请

WO2015051893A1 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR PLASMAKATALYTISCHEN UMSETZUNG VON STOFFEN 审中-公开
标题翻译：方法和设备物质的等离子体触媒实现
公开(公告)号：WO2015051893A1
公开(公告)日：2015-04-16
申请号：PCT/EP2014/002683
申请日：2014-10-02
申请人： SPITZL, Ralf
发明人： SPITZL, Ralf
IPC分类号： B01J19/12
CPC分类号： B01J19/126 , B01J19/088 , B01J2219/00033 , B01J2219/0869 , B01J2219/0881 , B01J2219/0892 , B01J2219/0896 , H01J37/32192 , H01J37/32449 , H01J2237/339
摘要： 1. Verfahren und Vorrichtungen zur plasmakatalytischen Umsetzung von Stoffen zur Herstellung von chemischen Grundstoffen. 2.1 Plasmagestützte Verfahren kommen überwiegend bei der Abgasreinigung oder der Materialbearbeitung zum Einsatz, während die Verwendung bei chemischen Syntheseverfahren bislang kaum Bedeutung erlangt hat. Die neuen Verfahren und Vorrichtungen ermöglichen die plasmakatalytische Durchführung einer Vielzahl von chemischen Prozessen zur Herstellung von chemischen Grundstoffen aus einfachen Rohstoffen (z. B. Methan, Biogas), mit verbesserter Selektivität und Energiebilanz. 2.2 Zur Herstellung von chemischen Grundstoffen wird ein kohlenwasserstoffhaltiger oder anderer Ausgangsstoff unter Einwirkung eines Plasmas umgesetzt, wodurch ein chemischer Grundstoff erhalten wird, oder ein solcher Ausgangsstoff wird in einem ersten Schritt unter Einwirkung eines Plasmas zu einem Zwischenprodukt umgesetzt, das in einem nachfolgendem Schritt zu dem gewünschten Grundstoff umgesetzt wird. Die neuen Vorrichtungen zur Durchführung von plasmakatalytischen Reaktionen zeichnen sich durch eine dem Plasmareaktor nachgeschaltete Strahlpumpe, einen rohrförmigen Rezipienten (Reaktionsraum) mit einem Durchmesser von mindestens 4 cm, oder eine katalysatorhaltige Wand des Rezipienten aus. 2.3 Die Verfahren und Vorrichtungen eignen sich zur Herstellung von Grundstoffen für die chemische Industrie.
摘要翻译： 1，一种用于生产基本化学品的催化材料的等离子体反应方法和装置。 2.1基于等离子体的方法在排气净化或处理中使用的材料的主要使用的，而在化学合成方法中的用途迄今几乎变得重要。新的方法和装置允许等离子体催化生产的从简单的原料基础化学品执行各种化学过程（例如，甲烷，沼气），具有改进的选择性和能量平衡。 2.2对于生产的基础化学品，烃或其它起始材料的等离子体的作用下转化，从而形成获得化学原料，或该起始材料在等离子体的作用下在第一步骤中反应，得到的中间产物，其在随后的步骤中，以所述期望的碱基实现。用于实施等离子催化反应的新型器件由具有直径至少为4厘米，或受体的含催化剂的壁的下游等离子体反应器喷射泵，一个管状的收件人（反应室），其特征在于。 2.3适合生产用于化学工业的原料的方法和装置。

4. 发明申请

WO2004010454A2 PLASMAREAKTOR ZUR DURCHFÜHRUNG VON GASREAKTIONEN UND VERFAHREN ZUR PLASMAGESTÜTZTEN UMSETZUNG VON GASEN 审中-公开
标题翻译：等离子体反应器的进行气体反应和方法气体等离子体基实现
公开(公告)号：WO2004010454A2
公开(公告)日：2004-01-29
申请号：PCT/EP2003/007993
申请日：2003-07-22
申请人： IPLAS GMBH , SPITZL, Ralf , BEHR, Arno , WOLFF, Christian , OBERREUTHER, Thorsten
发明人： SPITZL, Ralf , BEHR, Arno , WOLFF, Christian , OBERREUTHER, Thorsten
IPC分类号： H01J37/00
CPC分类号： B01J19/126 , B01D53/32 , B01J2219/0254 , B01J2219/0286 , B01J2219/0869 , B01J2219/0871 , B01J2219/0883 , B01J2219/0892 , B01J2219/0894 , B01J2219/1227 , C01B3/384 , C01B21/16 , C01B2203/0233 , C01B2203/0238 , C01B2203/1023 , C01B2203/1041 , C01B2203/1047 , C01B2203/1064 , C01B2203/107 , C01B2203/1076 , C01B2203/1082 , C01B2203/1241 , C01C1/0417 , H01J37/3244 , H05B6/78 , H05B6/80 , H05B6/806 , Y02P20/142 , Y02P20/52
摘要： Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Durchführung von Gasreaktionen umfassend einen gasdurchströmten Plasmareaktor mit einer insbesondere zylindrischen Plasmakammer, bei dem strömungsformende Elemente für die Gase vor und/oder in und/oder nach dem Plasmareaktor angeordnet sind um einen Gasstrom in der Plasmakammer derart zu formen, dass sich wenigstens eine strömungsberuhigte, insbesondere zentrale, Zone im Gasstrom ausbildet. Die Erfindung betrifft weiterhin ein Verfahren zur Durchführung von Gasreaktionen.
摘要翻译：本发明涉及一种设备，用于进行气体反应，包括用特别圆柱形等离子体室，气体流过等离子体反应器，其中用于气体流动形成元件之前和/或布置在和/或之后的等离子体反应器是在等离子体室中，从而形成一个气体流流减小，特别是中央，在区至少气流的形式。本发明还涉及一种方法，用于进行气体反应。

5. 发明申请

WO2009127294A1 VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR INNEREN OBERFLÄCHENBEHANDLUNG VON HOHLKÖRPERN 审中-公开
标题翻译： DEVICE AND METHOD FOR空心体的内表面处理
公开(公告)号：WO2009127294A1
公开(公告)日：2009-10-22
申请号：PCT/EP2009/001471
申请日：2009-03-02
申请人： IPLAS INNOVATIVE PLASMA SYSTEMS GMBH , SPITZL, Ralf
发明人： SPITZL, Ralf
IPC分类号： H01J37/32 , A61L2/12 , A61L2/14 , C23C16/50
CPC分类号： H01J37/3244 , H01J37/32192 , H01J37/32541 , H01J37/32568 , H01J37/32678 , H05H1/46 , H05H2001/4622
摘要： Vorrichtung und Verfahren zur Oberflächenbehandlung von Innenflächen von Hohlkörpern, insbesondere von Rohren, mittels eines Plasmas. Dabei besteht die Vorrichtung aus mindestens einer linearen Plasmaquelle, die sich innerhalb des Hohlkörpers befindet.
摘要翻译：的装置和方法的中空体的内表面的表面处理，特别是管，通过等离子体的装置。在这种情况下，装置包括至少一个线性等离子体源位于所述中空主体内。

6. 发明申请

WO2013149723A1 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR PLASMATECHNISCHEN HERSTELLUNG VON ACETYLEN 审中-公开
标题翻译：方法和装置乙炔等离子体技术制作
公开(公告)号：WO2013149723A1
公开(公告)日：2013-10-10
申请号：PCT/EP2013/000983
申请日：2013-04-03
申请人： SPITZL, Ralf
发明人： SPITZL, Ralf
IPC分类号： C07C2/76 , H01J37/32 , H05B6/80 , C07C11/24
CPC分类号： C07C2/76 , B01J19/126 , B01J2219/0875 , B01J2219/1206 , H01J37/32 , H01J2237/339 , H05H1/46 , H05H2001/4607 , C07C11/24
摘要： Verfahren und Vorrichtung zur plasmatechnischen Herstellung von Acetylen, wobei ein mindestens eine Sorte von Kohlenwasserstoff enthaltendes Gas in ein nicht thermisches Plasma einer Plasmaquelle geleitet wird.
摘要翻译：用于等离子体规模生产乙炔的方法和装置，所述至少一种类型的含烃气体的在等离子体源的非热等离子体通过。

7. 发明申请

WO2008046552A1 VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR ERZEUGUNG VON MIKROWELLENPLASMEN HOHER PLASMADICHTE 审中-公开
标题翻译：装置及其制造方法微波等离子体高密度等离子体
公开(公告)号：WO2008046552A1
公开(公告)日：2008-04-24
申请号：PCT/EP2007/008839
申请日：2007-10-11
申请人： IPLAS INNOVATIVE PLASMA SYSTEMS GMBH , SPITZL, Ralf
发明人： SPITZL, Ralf
IPC分类号： H05H1/46 , H01J37/32
CPC分类号： H05H1/46 , H01J37/32192 , H01J37/32366 , H01J37/32522 , H01J37/3277 , H05H1/2406 , H05H2001/245 , H05H2001/463
摘要： Eine Vorrichtung zur Erzeugung von Mikrowellenplasmen hoher Flasmadichte weist mindestens eine Mikrowelleneinspeisung auf, die von einem äußeren dielektrischen Rohr (3) umgeben ist. Die Mikrowelleneinspeisung ist dabei außer dem äußeren dielektrischen Rohr (3) zusätzlich von mindestens einem inneren dielektrischen Rohr (2) umgeben, das innerhalb des äußeren dielektrischen Rohrs (3) verläuft. Die Rohre (2, 3) bilden dabei mindestens einen Raum, der zur Aufnahme und Durchleitung eines Fluids geeignet ist. Mittels eines Fluids kann die oben beschriebene Vorrichtung gekühlt werden. Durch das äußere dielektrische Rohr (3) ist eine Zuleitung (7) eines Prozessgases in den Plasmabereich möglich.
摘要翻译：用于产生高Flasmadichte的微波等离子体的装置具有外电介质管（3）包围的组成的至少一个微波源。微波进料通过至少一个附加内绝缘筒（2），除了外部电介质管（3）包围所述外介电管内延伸的（3）。将管（2，3），由此形成至少一个空间，其适于流体的接收和通道。通过流体的装置，上述装置可以被冷却。通过外部电介质管（3）的处理气体在等离子体区域的供应管线（7）是可能的。

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