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    • 2. 发明专利
    • Método de fabricación de célula solar
    • ES2764073T3
    • 2020-06-02
    • ES06731542
    • 2006-04-11
    • SHINETSU HANDOTAI KKNAOETSU ELECTRONICS CO LTDSHINETSU CHEMICAL CO
    • OHTSUKA HIROYUKITAKAHASHI MASATOSHIISHIKAWA NAOKISAISU SHIGENORIUEGURI TOYOHIROOJIMA SATOYUKIWATABE TAKENORIAKATSUKA TAKESHIONISHI TSUTOMU
    • H01L31/0224H01L21/225H01L31/04H01L31/06H01L31/068H01L31/18
    • Un método de fabricación de una célula solar (100) formando una unión p-n en un sustrato semiconductor (1) que tiene un primer tipo de conductividad, en el que, al menos: un primer material de recubrimiento (8) que contiene un dopante del segundo tipo de conductividad y un agente para impedir que se disperse un dopante, incluyendo dicho agente un compuesto de silicio, está recubierto sobre el sustrato semiconductor que tiene el primer tipo de conductividad mediante serigrafía, y un segundo material de recubrimiento (9) que contiene un dopante del segundo tipo de conductividad está recubierto sobre el sustrato semiconductor que tiene el primer tipo de conductividad y el primer material de recubrimiento mediante recubrimiento por centrifugación, de modo que el segundo material de recubrimiento puede entrar en contacto con al menos el primer material de recubrimiento; y, una primera capa de difusión (2) formada recubriendo el primer material de recubrimiento, y una segunda capa de difusión (3) formada recubriendo el segundo material de recubrimiento, teniendo la segunda capa de difusión una conductividad inferior a la de la primera capa de difusión, se forman simultáneamente mediante un tratamiento térmico de difusión que da como resultado la formación de dicha unión p-n, en el que, además: el primer material de recubrimiento y el segundo material de recubrimiento difieren entre sí en cualquiera de al menos, el porcentaje de un contenido de dopante, una viscosidad, el contenido del agente para impedir que se disperse un dopante y un agente para impedir autodopaje, incluyendo dicho agente un compuesto de silicio, un tipo de dopante y/o grosores de película de recubrimiento del primer material de recubrimiento y el segundo material de recubrimiento durante el recubrimiento; y en el que el porcentaje del contenido de dopante del primer material de recubrimiento es 4 o más veces mayor que el porcentaje del contenido de dopante del segundo material de recubrimiento.