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1. 发明申请

WO2017032806A1 VORRICHTUNG ZUM AUFBRINGEN EINES MIT UV-STRAHLUNG BEAUFSCHLAGTEN FLÜSSIGEN MEDIUMS AUF EIN SUBSTRAT 审中-公开
标题翻译：设备用于将用紫外线辐射应用于液体介质到衬底
公开(公告)号：WO2017032806A1
公开(公告)日：2017-03-02
申请号：PCT/EP2016/069989
申请日：2016-08-24
申请人： SÜSS MICROTEC PHOTOMASK EQUIPMENT GMBH & CO.KG
发明人： DRESS, Peter , DIETZE, Uwe , GRABITZ, Peter
IPC分类号： H01L21/67 , B08B3/10 , B08B7/00 , C23C16/455
CPC分类号： H01L21/67051 , B08B3/10 , B08B7/0057 , H01L21/67115
摘要： Eine Vorrichtung zum Aufbringen eines mit UV-Strahlung beaufschlagten flüssigen Mediums auf ein Substrat wird offenbart, die Folgendes aufweist: ein Gehäuse, mit einer langgestreckten Kammer, wenigstens einer Einlassöffnung, die sich zur Kammer hin öffnet und einer der wenigstens einen Einlassöffnung gegenüberliegenden, schlitzförmigen Auslassöffnung, die sich über die Länge der Kammer erstreckt, ein sich in Längsrichtung durch die Kammer erstreckendes Rohrelement, das wenigstens teilweise für UV-Strahlung transparent ist, wobei das Rohrelement derart in der Kammer angeordnet ist, dass zwischen dem Rohrelement und der Wand der Kammer ein Strömungsraum gebildet wird, der bezüglich einer Längsmittelebene der Kammer, die die Auslassöffnung mittig schneidet, symmetrisch ist, und dass sich das Rohrelement in die schlitzförmige Auslassöffnung im Gehäuse erstreckt und dabei zwei in Längsrichtung erstreckende Austrittsschlitze zwischen Rohrelement und Gehäuse bildet, und wenigstens eine UV-Strahlungsquelle im Rohrelement, die angeordnet ist, um UV-Strahlung in Richtung des Strömungsraumes und durch die Auslassöffnung aus dem Gehäuse heraus zu emittieren. Die Vorrichtung zeichnet sich durch Mittel aus, die geeignet sind, die von der wenigstens einen UV-Strahlungsquelle ausgehende und aus der Auslassöffnung austretende Strahlung derart zu beeinflussen, dass in einem Bereich unterhalb wenigstens 50% der Austrittsöffnung eine im Wesentlichen homogene räumlichen Verteilung der Radikalen auf der Oberfläche des Substrats entsteht. Bei dieser bekannten Konstruktion entsteht in einem Bereich unterhalb der Mitte der Auslassöffnung eine hohe Radikalenkonzentration, die in Richtung quer zur Auslassöffnung rasch abfällt.
摘要翻译：用于将液体介质施加负载用UV-辐射投影到衬底公开了一种装置，其包括：具有细长腔室，至少一个入口开口，该开口朝向腔室开口和至少一个进气口相对的，狭缝形的出口开口中的一个的壳体其延伸过室的长度，通过腔室管元件，其是至少部分透明的紫外线辐射，其特征在于，所述管件被设置在所述腔室在纵向方向上延伸，所述管元件和所述腔室的壁之间流动空间形成，其相对于所述腔室的一个纵向中心平面对称相交在中间的出口开口，并且所述管件在外壳中的槽形出口开口延伸，形成所述管元件和壳体，且w之间的两个纵向延伸的出口槽 enigstens管状元件，其被设置成发射UV辐射朝向所述流动空间，并通过出口开口离开壳体的内部的UV辐射源。该装置的特征在于，其适于通过所述至少一个UV辐射源传出和离开出口辐射的影响的手段，使得在所述出口上打开自由基的基本上均匀的空间分布的至少50％的正下方的区域形成在衬底的表面上。在出口开口自由基的高浓度，横向于出口开口的中间下方的区域这种已知结构中的方向产生迅速下降。

2. 发明申请

WO2017050774A1 A METHOD FOR TREATING SUBSTRATES WITH AN AQUEOUS LIQUID MEDIUM EXPOSED TO UV-RADIATION 审中-公开
标题翻译：用暴露于紫外线辐射的水性液体处理衬底的方法
公开(公告)号：WO2017050774A1
公开(公告)日：2017-03-30
申请号：PCT/EP2016/072325
申请日：2016-09-20
申请人： SÜSS MICROTEC PHOTOMASK EQUIPMENT GMBH & CO.KG
发明人： DATILO, Davide , DIETZE, Uwe , SINGH, SherJang
IPC分类号： G03F7/20 , B08B3/10 , B08B7/00 , G03F1/82 , H01L21/67 , H01L21/02 , B05B1/00
CPC分类号： B05D3/002 , B05B1/00 , B05D2203/30 , B08B3/10 , B08B7/0057 , C11D3/30 , C11D11/0047 , C11D11/007 , G03F1/82 , G03F7/42 , G03F7/423 , G03F7/425 , G03F7/70925 , H01L21/31138 , H01L21/67051 , H01L21/6708 , H01L21/67115
摘要： Methods for treating substrates are described. The methods comprise the steps of flowing an aqueous liquid medium through a flow channel and at least one outlet slit onto a substrate to be treated and exposing the aqueous liquid medium to UV-radiation of a specific wavelength at least in a portion of the flow channel immediately adjacent the at least one outlet slit and after the aqueous liquid medium has flown through the outlet opening towards the substrate and thus prior to and while applying the aqueous liquid medium to the surface of the substrate to be treated. In one method, the electrical conductance of the aqueous liquid medium is adjusted to be in the range of 20 to 2000μS, by the addition of an additive to the aqueous liquid medium, the aqueous liquid medium prior to the addition of the additive having an electrical conductivity below 20μS, prior to or while exposing the same to the UV-radiation. Additionally, the pH of the aqueous liquid medium may be adjusted to a range of 8 to 11 or 3 to 6 prior to or while exposing the same to the UV-radiation. The adjustments may lead to a shift in an equilibrium of reactive species generated in the aqueous liquid medium by the UV-radiation towards preferred species.
摘要翻译：描述了处理底物的方法。所述方法包括以下步骤：使水性液体介质流过流动通道和至少一个出口狭缝到待处理的基底上，并将水性液体介质暴露于至少一部分流动通道的特定波长的UV辐射紧邻所述至少一个出口狭缝，并且在所述水性液体介质已经通过所述出口开口朝向所述基底之后，并且因此在将所述含水液体介质施加到待处理的所述基底的表面之前和之后。在一种方法中，通过在水性液体介质中添加添加剂，将水性液体介质的电导率调节在20至2000μS的范围内，水性液体介质在加入具有电电导率低于20μS，之前或同时暴露于紫外线辐射。此外，在将其暴露于UV辐射之前或同时将水性液体介质的pH调节至8至11或3至6的范围。调整可能导致在水性液体介质中通过UV辐射在优选物质上产生的反应物质的平衡发生变化。

3. 发明申请

WO2017032801A1 VORRICHTUNG ZUM AUFBRINGEN EINES MIT UV-STRAHLUNG BEAUFSCHLAGTEN FLÜSSIGEN MEDIUMS AUF EIN SUBSTRAT 审中-公开
标题翻译：设备用于将用紫外线辐射应用于液体介质到衬底
公开(公告)号：WO2017032801A1
公开(公告)日：2017-03-02
申请号：PCT/EP2016/069979
申请日：2016-08-24
申请人： SÜSS MICROTEC PHOTOMASK EQUIPMENT GMBH & CO.KG
发明人： DRESS, Peter , DIETZE, Uwe , GRABITZ, Peter
IPC分类号： B08B3/10 , B08B7/00 , C23C16/455 , H01L21/67
CPC分类号： H01L21/67051 , B08B3/10 , B08B7/0057 , H01L21/67115
摘要： Eine Vorrichtung zum Aufbringen eines mit UV-Strahlung beaufschlagten flüssigen Mediums auf ein Substrat wird offenbart, die Folgendes aufweist: ein Gehäuse, mit einer langgestreckten Kammer, wenigstens einer Einlassöffnung, die sich zur Kammer hin öffnet und einer der wenigstens einen Einlassöffnung gegenüberliegenden, schlitzförmigen Auslassöffnung, die sich über die Länge der Kammer erstreckt, ein sich in Längsrichtung durch die Kammer erstreckendes Rohrelement, das wenigstens teilweise für UV-Strahlung transparent ist, wobei das Rohrelement derart in der Kammer angeordnet ist, dass zwischen dem Rohrelement und der Wand der Kammer ein Strömungsraum gebildet wird, der bezüglich einer Längsmittelebene der Kammer, die die Auslassöffnung mittig schneidet, symmetrisch ist, und dass sich das Rohrelement in die schlitzförmige Auslassöffnung im Gehäuse erstreckt und dabei zwei in Längsrichtung erstreckende Austrittsschlitze zwischen Rohrelement und Gehäuse bildet, und wenigstens eine UV-Strahlungsquelle im Rohrelement, die angeordnet ist, um UV-Strahlung in Richtung des Strömungs¬ raumes und durch die Auslassöffnung aus dem Gehäuse heraus zu emittieren. Die Vorrichtung zeichnet sich dadurch aus, dass ferner Mittel vorgesehen sind, die bewirken, dass UV-Strahlung in einem ersten Wellenlängenbereich durch einen ersten Abschnitt des Rohrelements in den Strömungsraum emittiert wird und dass UV-Strahlung in einem zweiten Wellenlängenbereich durch einen zweiten Abschnitt des Rohrelements durch die Austrittsöffnung des Gehäuses und optional in einen Endbereich des Strömungsraums benachbart zu den Austrittsschlitzen, emittiert wird. Die ersten und zweiten Wellenlängenbereiche unterscheiden sich und für wenigstens einen der Abschnitte gilt, dass maximal 20%, bevorzugt maximal 5% der durch den jeweiligen Abschnitt emittierten Strahlungsleistung aus dem anderen Wellenlängenbereich stammt.
摘要翻译：用于将液体介质施加负载用UV-辐射投影到衬底公开了一种装置，其包括：具有细长腔室，至少一个入口开口，该开口朝向腔室开口和至少一个进气口相对的，狭缝形的出口开口中的一个的壳体其延伸过室的长度，通过腔室管元件，其是至少部分透明的紫外线辐射，其特征在于，所述管件被设置在所述腔室在纵向方向上延伸，所述管元件和所述腔室的壁之间流动空间形成，其相对于所述腔室的一个纵向中心平面对称相交在中间的出口开口，并且所述管件在外壳中的槽形出口开口延伸，形成所述管元件和壳体，且w之间的两个纵向延伸的出口槽 enigstens管状元件，其被设置成发射UV辐射朝向Strömungs¬空间，并通过出口开口离开壳体的内部的UV辐射源。该装置的特征在于，另外的装置被提供，其导致的UV辐射在第一波长区域被管状构件进入流动腔室的第一部分发射，而在第二波长范围内的UV辐射通过该管状构件的第二部分通过外壳的出口开口和任选在相邻的流动空间的端部区域到出口槽射出。所述第一和第二波长范围是不同的，并且施加至少一个最大的20％，优选地通过从其他波长区域的输出辐射的相应部分所发射的光的至多5％源自的部分之一。

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