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1. 发明申请

WO2008012061A3 VERFAHREN ZUR ERZEUGUNG EINER LASERMARKIERUNG IN EINEM SICHERHEITSDOKUMENT SOWIE DERARTIGES SICHERHEITSDOKUMENT 审中-公开
公开(公告)号：WO2008012061A3
公开(公告)日：2008-01-31
申请号：PCT/EP2007/006560
申请日：2007-07-24
申请人： OVD KINEGRAM AG , STAUB, René , TOMPKIN, Wayne, Robert , HOLLIGER, Daniel , KROLZIG, Olaf , SCHILLING, Andreas , HANSEN, Achim
发明人： STAUB, René , TOMPKIN, Wayne, Robert , HOLLIGER, Daniel , KROLZIG, Olaf , SCHILLING, Andreas , HANSEN, Achim
IPC分类号： B42D15/10
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Erzeugung einer Lasermarkierung (4) in einem Sicherheitsdokument mittels mindestens eines Laserstrahls, wobei das Sicherheitsdokument mindestens eine lasermarkierbare Schicht sowie mindestens eine, mit der mindestens einen lasermarkierbaren Schicht zumindest teilweise überlappende und opake Bereiche aufweisende reflektierende Schicht aufweist. Die mindestens eine reflektierende Schicht weist mindestens einen transparenten Bereich (3a) auf und wird durch die Laserbehandlung der lasermarkierbaren Schicht zumindest visuell nicht wesentlich verändert.

2. 发明申请

WO2004113954A3 OPTISCHES SICHERHEITSELEMENT 审中-公开
公开(公告)号：WO2004113954A3
公开(公告)日：2004-12-29
申请号：PCT/EP2004/006467
申请日：2004-06-16
申请人： OVD KINEGRAM AG , SCHILLING, Andreas , TOMPKIN, Wayne, Robert , STAUB, René
发明人： SCHILLING, Andreas , TOMPKIN, Wayne, Robert , STAUB, René
IPC分类号： G06K19/16
摘要： Die Erfindung betrifft ein optisches Sicherheitselement mit einer Substratschicht, in die in einem Flächenbereich (2) bereichsweise eine erste Mikrostruktur zur Erzeugung eines ersten, optisch erkennbaren Effektes abgeformt ist. Der Flächenbereich (2) ist in mikroskopisch feine Musterbereiche (21 bis 40) und einen Hintergrundbereich (20) geteilt. Die erste Mikrostruktur ist in den Musterbereichen (21 bis 40) aber nicht in dem Hintergrundbereich (20) abgeformt. Die mikroskopisch feinen Musterbereiche (21 bis 40) in dem Flächenbereich (2) sind in Form eines Moiré-Musters angeordnet, in das eine mittels eines zugeordneten Verifizierungselements auswertbare versteckte Information als Sicherheitsmerkmal codiert ist. Die mikroskopisch feinen Musterbereiche (21 bis 40) sind weiter gemäss einer Substrukturierungs-Funktion substrukturiert, die eine als weiteres Sicherheitsmerkmal dienende mikroskopische Substrukturierung des Moiré-Musters beschreibt.

3. 发明申请

WO2004113954A2 OPTISCHES SICHERHEITSELEMENT 审中-公开
标题翻译：光学安全元件
公开(公告)号：WO2004113954A2
公开(公告)日：2004-12-29
申请号：PCT/EP2004/006467
申请日：2004-06-16
申请人： OVD KINEGRAM AG , SCHILLING, Andreas , TOMPKIN, Wayne, Robert , STAUB, René
发明人： SCHILLING, Andreas , TOMPKIN, Wayne, Robert , STAUB, René
IPC分类号： G02B
CPC分类号： B42D25/342 , B42D25/328 , G03H1/0011
摘要： Die Erfindung betrifft ein optisches Sicherheitselement mit einer Substratschicht, in die in einem Flächenbereich (2) bereichsweise eine erste Mikrostruktur zur Erzeugung eines ersten, optisch erkennbaren Effektes abgeformt ist. Der Flächenbereich (2) ist in mikroskopisch feine Musterbereiche (21 bis 40) und einen Hintergrundbereich (20) geteilt. Die erste Mikrostruktur ist in den Musterbereichen (21 bis 40) aber nicht in dem Hintergrundbereich (20) abgeformt. Die mikroskopisch feinen Musterbereiche (21 bis 40) in dem Flächenbereich (2) sind in Form eines Moiré-Musters angeordnet, in das eine mittels eines zugeordneten Verifizierungselements auswertbare versteckte Information als Sicherheitsmerkmal codiert ist. Die mikroskopisch feinen Musterbereiche (21 bis 40) sind weiter gemäss einer Substrukturierungs-Funktion substrukturiert, die eine als weiteres Sicherheitsmerkmal dienende mikroskopische Substrukturierung des Moiré-Musters beschreibt.

4. 发明申请

WO2003084766A3 SICHERHEITSELEMENT MIT MAKROSTRUKTUREN 审中-公开
公开(公告)号：WO2003084766A3
公开(公告)日：2003-10-16
申请号：PCT/EP2003/003483
申请日：2003-04-03
申请人： OVD KINEGRAM AG , STAUB, René , SCHILLING, Andreas , TOMPKIN, Wayne, Robert
发明人： STAUB, René , SCHILLING, Andreas , TOMPKIN, Wayne, Robert
IPC分类号： B42D15/00
摘要： Ein Sicherheitselement (2) zum Aufkleben auf ein Dokument (3) besteht aus einem Schichtverbund (1) aus Kunststoff und weist eingebettete, optisch wirksame Strukturen eines Musters (4) auf. Die optisch wirksamen Strukturen in Flächenteilen (13) des Musters (4) liegen in einer von Koordinatenachsen (x; y) aufgespannten Referenzebene des Schichtverbunds (1) und sind in eine reflektierende Grenzfläche abgeformt. Die Grenzfläche ist zwischen einer transparenten Abformschicht und einer Schutzschicht des Schichtverbunds (1) eingebettet. Wenigstens eine Teilfläche (13) weist eine Abmessung grösser als 0,4 mm auf und besitzt in der Grenzfläche wenigstens eine abgeformte Makrostruktur (M), die eine wenigstens stückweise stetige und differenzierbare Funktion der Koordinaten (x; y) ist. Die Makrostruktur (M) ist wenigstens in Teilbereichen gekrümmt und ist keine periodische Dreieck- oder Rechteckfunktion. In der Teilfläche (13) sind benachbarte Extremwerte der Makrostruktur (M) wenigstens 0.1 mm voneinander entfernt. Bei der Beleuchtung des Musters (4) mit Licht ist auf dem Sicherheitselement (2) beim Ändern der Blickrichtung ein optisch variables Muster von Lichtreflexionen sichtbar.

5. 发明申请

WO2003084765A3 SICHERHEITSELEMENT ALS PHOTOKOPIERSCHUTZ 审中-公开
公开(公告)号：WO2003084765A3
公开(公告)日：2003-10-16
申请号：PCT/EP2003/003481
申请日：2003-04-03
申请人： OVD KINEGRAM AG , STAUB, René , SCHILLING, Andreas , TOMPKIN, Wayne, Robert
发明人： STAUB, René , SCHILLING, Andreas , TOMPKIN, Wayne, Robert
IPC分类号： B42D15/00
摘要： Ein Sicherheitselement (2) ist aus einem Schichtverbund (1) aus Kunststoff ausgeschnitten und eignet sich zum Aufkleben auf ein Substrat (9). Zwischen einer Abformschicht (4) und einer Schutzschicht (7) des Schichtverbunds (1) ist eine Reflexionsschicht (10) eingebette, in die optisch wirksame Strukturen (5; 6) abgeformt sind. Das Sicherheitselement (2) weist wenigstens ein Sicherheitsmerkmal auf, dessen Fläche eine Makrostruktur in der Reflexionsschicht (10) aufweist und/oder wenigstens in eine erste und eine zweite Teilflächen (32; 33) unterteilt ist. Die erste Teilflächen (32) weist eine erste Struktur (5) auf. In die zweite Teilfläche (33) ist eine achromatische zweite Struktur (6) abgeformt. Die optisch wirksamen Strukturen (5; 6) lenken das einfallende Licht (11) innerhalb eines vorbestimmten Winkelbereichs (ε) um die Richtung der Spiegelreflexes ab und enthahlten eine visuell sichtbare, aber nicht photokopierbare Information, da im Winkelbereich (ε) die Kopierer blind sind.

6. 发明申请

WO2008017426A1 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG MINDESTENS EINES MEHRSCHICHTKÖRPERS SOWIE MEHRSCHICHTKÖRPER 审中-公开
标题翻译：用于制作方法至少一种复合体及复合体，
公开(公告)号：WO2008017426A1
公开(公告)日：2008-02-14
申请号：PCT/EP2007/006884
申请日：2007-08-03
申请人： OVD KINEGRAM AG , SCHNEIDER, Gernot , STAUB, René , TOMPKIN, Wayne, Robert , HANSEN, Achim
发明人： SCHNEIDER, Gernot , STAUB, René , TOMPKIN, Wayne, Robert , HANSEN, Achim
IPC分类号： H01L51/00 , G03F1/14
CPC分类号： H01L51/0018 , H01L51/0541 , Y02E10/549 , Y10T428/24612 , Y10T428/24802
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Mehrschichtkörpers, wobei der Mehrschichtkörper, mindestens zwei Funktionsschichten auf einer Oberseite eines Trägersubstrats umfasst, welche im Register zueinander strukturiert werden, indem eine Unterseite des Trägersubstrats derart präpariert wird, dass in einem ersten Bereich eine Durchlässigkeit für eine erste Belichtungsstrahlung und in mindestens einem zweiten Bereich eine Durchlässigkeit für mindestens eine dazu unterschiedliche zweite Belichtungsstrahlung im Register zum ersten Bereich resultiert, dass die Unterseite nacheinander mit der ersten und der mindestens einen zweiten Belichtungsstrahlung belichtet wird, und dass die erste Belichtungsstrahlung zur Strukturierung einer ersten Funktionsschicht und die mindestens eine zweite Belichtungsstrahlung zur Strukturierung mindestens einer zweiten Funktionsschicht auf der Oberseite des Trägersubstrats verwendet wird.
摘要翻译：本发明涉及一种用于制造多层体，多层体，至少两个功能层包括在一个载体基片，其在寄存器相互由支撑衬底的底表面结构化的上侧在第一的透射率的第一区域制备，使得暴露在一个渗透性的至少一个以在所述寄存器与第一区域不同的第二曝光辐射的辐射，并且在至少一个第二区域的结果，即依次与所述第一和第二曝光辐射下侧暴露于最小和使第一曝光辐射用于图案化第一功能层和用于图案化的至少一个第二功能层的至少一个第二曝光辐射被用在载体衬底的顶部上。

7. 发明申请

WO2003084765A2 SICHERHEITSELEMENT ALS PHOTOKOPIERSCHUTZ 审中-公开
标题翻译：安全元素PHOTO COPY
公开(公告)号：WO2003084765A2
公开(公告)日：2003-10-16
申请号：PCT/EP2003/003481
申请日：2003-04-03
申请人： OVD KINEGRAM AG , STAUB, René , SCHILLING, Andreas , TOMPKIN, Wayne, Robert
发明人： STAUB, René , SCHILLING, Andreas , TOMPKIN, Wayne, Robert
IPC分类号： B42D15/00
CPC分类号： B42D25/328
摘要： Ein Sicherheitselement (2) ist aus einem Schichtverbund (1) aus Kunststoff ausgeschnitten und eignet sich zum Aufkleben auf ein Substrat (9). Zwischen einer Abformschicht (4) und einer Schutzschicht (7) des Schichtverbunds (1) ist eine Reflexionsschicht (10) eingebette, in die optisch wirksame Strukturen (5; 6) abgeformt sind. Das Sicherheitselement (2) weist wenigstens ein Sicherheitsmerkmal auf, dessen Fläche eine Makrostruktur in der Reflexionsschicht (10) aufweist und/oder wenigstens in eine erste und eine zweite Teilflächen (32; 33) unterteilt ist. Die erste Teilflächen (32) weist eine erste Struktur (5) auf. In die zweite Teilfläche (33) ist eine achromatische zweite Struktur (6) abgeformt. Die optisch wirksamen Strukturen (5; 6) lenken das einfallende Licht (11) innerhalb eines vorbestimmten Winkelbereichs (ε) um die Richtung der Spiegelreflexes ab und enthahlten eine visuell sichtbare, aber nicht photokopierbare Information, da im Winkelbereich (ε) die Kopierer blind sind.
摘要翻译：的安全元件（2）的切出由塑料制成的层复合材料（1）的，适合于粘附到基底（9）。一个成形层（4）和所述层复合材料构成的保护层（7）（1）之间是一个反射层（10）被嵌入到光学有效结构（5; 6）被模制。的安全元件（2）具有至少一个安全特征，具有在反射层的宏观结构的表面（10）和/或至少在第一和第二部分表面;被划分（32 33）。第一局部表面（32）具有第一结构（5）。在第二分表面（33）一消色差第二结构（6）的形状。光学有效结构（5; 6）指示关于镜反射的方向上的预定角度范围（ε）内的入射光（11），和enthahlten一个视觉上明显的，但不photokopierbare信息，如在角度范围（ε）的复印机是盲，

8. 发明申请

WO2003084764A2 SICHERHEITSELEMENT MIT MIKRO- UND MAKROSTRUKTUREN 审中-公开
标题翻译：与微观和宏观结构安全要素
公开(公告)号：WO2003084764A2
公开(公告)日：2003-10-16
申请号：PCT/EP2003/003482
申请日：2003-04-03
申请人： OVD KINEGRAM AG , STAUB, René , SCHILLING, Andreas , TOMPKIN, Wayne, Robert
发明人： STAUB, René , SCHILLING, Andreas , TOMPKIN, Wayne, Robert
IPC分类号： B42D
CPC分类号： B42D25/328
摘要： Ein schwer kopierbares Sicherheitselement (2) umfasst einen Schichtverbund (1), der zwischen zwei Schichten (5, 6) des Schichtverbunds (1) eingebettete, mikroskopisch feine optisch wirksame Strukturen (9) eines Flächenmusters aufweist. In einer von Koordinatenachsen x und y aufgespannten Ebene des Flächenmusters sind in eine Grenzfläche (8) zwischen den Schichten (5; 6) in Flächenteilen eines holographisch nicht kopierbaren Sicherheitsmerkmals die optisch wirksamen Strukturen (9) abgeformt. In wenigstens einem Flächenteil ist die optisch wirksame Struktur (9) eine durch additive Überlagerung einer makroskopischen Überlagerungsfunktion (M) mit einem mikroskopisch feinen Reliefprofil (R) gebildete Beugungsstruktur (S, S*, S**). Sowohl das Reliefprofil (R), die Überlagerungsfunktion (M) als auch die Beugungsstruktur (S, S*, S**) sind Funktionen der Koordinaten x und y. Das Reliefprofil (R) ist eine lichtbeugende oder lichtstreuende optisch wirksame Struktur (9) und behält, der Überlagerungsfunktion (M) folgend, die vorbestimmte Profilhöhe bei. Die Überlagerungsfunktion (M) ist wenigstens stückweise stetig und keine periodische Dreieck-oder Rechteckfunktion. Im Vergleich zum Reliefprofil (R) ändert sich die Überlagerungsfunktion (M) langsam. Bei Kippen und Drehen des Schichtverbunds (1) erblickt der Beobachter auf den beleuchteten Flächenteilen helle, von der Betrachtungsrichtung abhängige, kontinuierlich wandernde Streifen.
摘要翻译：硬可复制的安全元件（2）包括介于两个层（5,6）的复合层（1）具有嵌入，显微镜精细光学活性的表面图案的（9）结构之间的层复合材料（1）。模制的，光学活性的结构（9）在一个全息不可复制防伪特征的表面部分，在x和由坐标表面图案的轴平面撑开y平面是所述层（5,6）之间的接口（8）。在至少一个表面部分是光学活性的结构（9）由一个宏观叠加函数（M）与微观微细凹凸轮廓（R）衍射结构的添加剂叠加形成（S，S *，S **）。无论是浮雕轮廓（R），叠加函数（M）和作为坐标x和y的函数的衍射结构（S，S *，S **）。浮雕轮廓（R）是光衍射或光漫射光学活性结构（9）和保持之后的叠加函数（M），在预定的轮廓高度。叠加函数（M）为至少分段连续和不周期性三角形或矩形函数。在与浮雕轮廓（R）比较，覆盖功能（M）缓慢变化的。当倾斜和层复合材料（1）的转动，观察者看到的光，依赖于观察方向，连续地行进在照射表面零件的条。

9. 发明申请

WO2003008204A1 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER DEKORFOLIE 审中-公开
标题翻译：一种用于生产装饰膜
公开(公告)号：WO2003008204A1
公开(公告)日：2003-01-30
申请号：PCT/EP2002/007319
申请日：2002-07-03
申请人： OVD KINEGRAM AG , STAUB, René , TOMPKIN, Wayne, Robert
发明人： STAUB, René , TOMPKIN, Wayne, Robert
IPC分类号： B44C1/24
CPC分类号： B44B5/0009 , B29C59/026 , B44B5/008 , B44C1/14
摘要： Ein Verfahren zum Herstellen einer Dekorfolie beginnt mit der Prägung eines Laminats. Das vorzugsweise als Laminatbahn (17) vorfabrizierte Laminat ist auf einer wärmefesten transparenten Trägerfolie aufgebaut. Eine Seite der Trägerfolie ist mit einer transparenten thermoplastischen Lackschicht beschichtet. Auf der von der Trägerfolie abgewandten Oberfläche der thermoplastischen Lackschicht ist eine Reflexionsschicht angeordnet, die ihrerseits mit einer thermoplastischen Schutzschicht (5) zum Schutz gegen mechanische und/oder chemische Einwirkung abgedeckt ist. Ein Prägewerkzeug (19) formt ein vorbestimmtes Reliefmuster einer Matrize auf der Seite der Schutzschicht (5) in die Laminatbahn (17) ab, wobei die Schutzschicht (5), die Reflexionsschicht und die Lackschicht plastisch verformt werden. Das in das Laminat eingeprägte Reliefmuster ist durch die Trägerfolie hindurch erkennbar.
摘要翻译：一种用于制造装饰片的方法开始于层压板的压印。在优选用作层压材料网（17）的预制层压构造上的耐热透明载体膜。载体膜的一侧涂覆有透明热塑性漆层。在从热塑性漆层的反射层被布置，而这又覆盖有防止机械和/或化学作用保护的热塑性保护层（5）的载体膜表面远程侧。压花工具（19）形成在从所述层压纤维网（17）的保护层（5）的侧部的模具的规定的凹凸图案，其中所述保护层（5），所述反射层和涂料层的塑性变形。压花浮雕图案到层压是通过识别支撑膜。

10. 发明申请

WO2006084685A3 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES MEHRSCHICHTKÖRPERS SOWIE MEHRSCHICHTKÖRPER 审中-公开
公开(公告)号：WO2006084685A3
公开(公告)日：2006-08-17
申请号：PCT/EP2006/001126
申请日：2006-02-09
申请人： OVD KINEGRAM AG , STAUB, René , TOMPKIN, Wayne, Robert , SCHILLING, Andreas
发明人： STAUB, René , TOMPKIN, Wayne, Robert , SCHILLING, Andreas
IPC分类号： B42D15/10
摘要： Es wird ein Verfahren zur Herstellung eines Mehrschichtkörpers (100) mit einer partiell ausgeformten ersten Schicht (3m) angegeben, wobei vorgesehen ist, daß bei dem Verfahren in einem ersten Bereich (5) einer Replizierschicht (3) des Mehrschichtkörpers (100) eine diffraktive erste Reliefstruktur mit einem hohen Tiefen-zu-Breiten-Verhältnis der einzelnen Strukturelemente, insbesondere mit einem Tiefen-zu-Breiten-Verhältnis > 0,3 abgeformt wird und die erste Schicht (3m) auf die Replizierschicht (3) in dem ersten Bereich (5) und in einem zweiten Bereich (4, 6), in dem die erste Re lief struktur nicht in der Replizierschicht (3) abgeformt ist, mit konstanter Flächendichte aufgebracht wird, und daß die erste Schicht (3m) durch die erste Reliefstruktur bestimmt teilweise entfernt wird, so daß die erste Schicht (3m) im ersten Bereich (5) oder im zweiten Bereich (4, 6), nicht jedoch im zweiten Bereich (4, 6) bzw. im ersten Bereich (5) teilweise entfernt ist.

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