专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明申请

WO2006108611A3 TRANSFERFOLIE MIT RELIEFSTRUKTURSCHICHT 审中-公开
公开(公告)号：WO2006108611A3
公开(公告)日：2006-10-19
申请号：PCT/EP2006/003322
申请日：2006-04-11
申请人： OVD KINEGRAM AG , STAUB, René , HANSEN, Achim , ATTNER, Juri
发明人： STAUB, René , HANSEN, Achim , ATTNER, Juri
IPC分类号： B44C1/16 , B44C1/17 , B42D15/00 , G02B27/00
摘要： Es wird eine Transferfolie, insbesondere Heißprägefolie, beschrieben, die eine Trägerfolie (18) und eine auf der Trägerfolie (18) angeordnete und von der Trägerfolie (18) ablösbare Übertragungslage mit einer Strukturschicht (14) umfaßt, wobei vorgesehen ist, daß die Trägerfolie (18) auf ihrer der Strukturschicht (14) zugewandten Seite eine Master- Relief struktur (18m) aufweist und daß die Strukturschicht (14) auf ihrer der Trägerfolie (18) zugewandten Seite eine zur Master- Relief struktur der Trägerfolie (18) komplementäre Relief struktur (14o) aufweist. Weiter wird ein Verfahren zur Herstellung der Transferfolie beschrieben sowie ein mit der Strukturschicht (14) gebildeter Mehrschichtkörper (1) , wobei die Strukturschicht eine Dicke von

2. 发明申请

WO2006108607A2 TRANSFERFOLIE 审中-公开
标题翻译：转移膜
公开(公告)号：WO2006108607A2
公开(公告)日：2006-10-19
申请号：PCT/EP2006/003318
申请日：2006-04-11
申请人： OVD KINEGRAM AG , STAUB, René , HANSEN, Achim , ATTNER, Juri
发明人： STAUB, René , HANSEN, Achim , ATTNER, Juri
IPC分类号： B42D15/10 , G03H1/02
CPC分类号： G03H1/26 , B42D25/328 , G03H1/0244 , G03H2001/2615 , G03H2240/55 , G03H2250/36 , Y10S428/916 , Y10T428/24479 , Y10T428/24521 , Y10T428/24529 , Y10T428/24545 , Y10T428/24802 , Y10T428/24917
摘要： Es wird eine Transferfolie, insbesondere Heißprägefolie, beschrieben, die eine Trägerfolie (22) und eine auf der Trägerfolie (22) angeordnete und von der Trägerfolie (22) ablösbare Übertragungslage mit einer Strukturschicht (14) umfaßt. Es ist vorgesehen, daß die Trägerfolie (22) auf ihrer der Strukturschicht (14) zugewandten Seite eine Master-Reliefstruktur (22m) aufweist, daß die Strukturschicht (14) auf ihrer der Trägerfolie (22) zugewandten Seite eine zur Master-Relief struktur (22m) der Trägerfolie (22) komplementäre erste Reliefstruktur (14o) aufweist, daß die Strukturschicht (14) auf ihrer der Trägerfolie (22) abgewandten Seite eine sich von der ersten Reliefstruktur (14o) unterscheidende zweite Reliefstruktur (14u) aufweist und daß die zweite Relief struktur (14u) mindestens bereichsweise mit einer Reflexionsschicht (16) bedeckt ist. Weiter werden ein Verfahren zur Herstellung der Transferfolie, ein mit der Strukturschicht gebildeter Mehrschichtkörper und ein Sicherheitsdokument mit dem Mehrschichtkörper angegeben.
摘要翻译：本发明提供一种转印箔，特别是烫印箔，设置在载体膜（22）和一个在载体膜（22）和从所述载体膜（22）可释放转印带的结构层（14）层。据设想，在它的所述结构层（14）侧上的载体膜（22）的面向面向结构的侧到主浮雕的主浮雕结构（22米），所述结构层（14），在其支撑膜（22）（所述载体箔（22）的22米）具有互补的第一浮雕结构（140），其在它的载体箔的结构层（14）（22）从本身背向（从第1浮雕结构140）判别第二浮雕结构（14U侧），并且所述第二浮雕结构（14U）至少部分地覆盖有反射层（16）。接着，对于转印膜的制备方法，表示具有形成在结构层的多层体和与该叠层体的安全文件。

3. 发明申请

WO2008012061A3 VERFAHREN ZUR ERZEUGUNG EINER LASERMARKIERUNG IN EINEM SICHERHEITSDOKUMENT SOWIE DERARTIGES SICHERHEITSDOKUMENT 审中-公开
公开(公告)号：WO2008012061A3
公开(公告)日：2008-01-31
申请号：PCT/EP2007/006560
申请日：2007-07-24
申请人： OVD KINEGRAM AG , STAUB, René , TOMPKIN, Wayne, Robert , HOLLIGER, Daniel , KROLZIG, Olaf , SCHILLING, Andreas , HANSEN, Achim
发明人： STAUB, René , TOMPKIN, Wayne, Robert , HOLLIGER, Daniel , KROLZIG, Olaf , SCHILLING, Andreas , HANSEN, Achim
IPC分类号： B42D15/10
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Erzeugung einer Lasermarkierung (4) in einem Sicherheitsdokument mittels mindestens eines Laserstrahls, wobei das Sicherheitsdokument mindestens eine lasermarkierbare Schicht sowie mindestens eine, mit der mindestens einen lasermarkierbaren Schicht zumindest teilweise überlappende und opake Bereiche aufweisende reflektierende Schicht aufweist. Die mindestens eine reflektierende Schicht weist mindestens einen transparenten Bereich (3a) auf und wird durch die Laserbehandlung der lasermarkierbaren Schicht zumindest visuell nicht wesentlich verändert.

4. 发明申请

WO2008017426A1 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG MINDESTENS EINES MEHRSCHICHTKÖRPERS SOWIE MEHRSCHICHTKÖRPER 审中-公开
标题翻译：用于制作方法至少一种复合体及复合体，
公开(公告)号：WO2008017426A1
公开(公告)日：2008-02-14
申请号：PCT/EP2007/006884
申请日：2007-08-03
申请人： OVD KINEGRAM AG , SCHNEIDER, Gernot , STAUB, René , TOMPKIN, Wayne, Robert , HANSEN, Achim
发明人： SCHNEIDER, Gernot , STAUB, René , TOMPKIN, Wayne, Robert , HANSEN, Achim
IPC分类号： H01L51/00 , G03F1/14
CPC分类号： H01L51/0018 , H01L51/0541 , Y02E10/549 , Y10T428/24612 , Y10T428/24802
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Mehrschichtkörpers, wobei der Mehrschichtkörper, mindestens zwei Funktionsschichten auf einer Oberseite eines Trägersubstrats umfasst, welche im Register zueinander strukturiert werden, indem eine Unterseite des Trägersubstrats derart präpariert wird, dass in einem ersten Bereich eine Durchlässigkeit für eine erste Belichtungsstrahlung und in mindestens einem zweiten Bereich eine Durchlässigkeit für mindestens eine dazu unterschiedliche zweite Belichtungsstrahlung im Register zum ersten Bereich resultiert, dass die Unterseite nacheinander mit der ersten und der mindestens einen zweiten Belichtungsstrahlung belichtet wird, und dass die erste Belichtungsstrahlung zur Strukturierung einer ersten Funktionsschicht und die mindestens eine zweite Belichtungsstrahlung zur Strukturierung mindestens einer zweiten Funktionsschicht auf der Oberseite des Trägersubstrats verwendet wird.
摘要翻译：本发明涉及一种用于制造多层体，多层体，至少两个功能层包括在一个载体基片，其在寄存器相互由支撑衬底的底表面结构化的上侧在第一的透射率的第一区域制备，使得暴露在一个渗透性的至少一个以在所述寄存器与第一区域不同的第二曝光辐射的辐射，并且在至少一个第二区域的结果，即依次与所述第一和第二曝光辐射下侧暴露于最小和使第一曝光辐射用于图案化第一功能层和用于图案化的至少一个第二功能层的至少一个第二曝光辐射被用在载体衬底的顶部上。

5. 发明申请

WO2012059208A2 SICHERHEITSELEMENT UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES SICHERHEITSELEMENTS 审中-公开
标题翻译：安全元件和生产安全元件的方法
公开(公告)号：WO2012059208A2
公开(公告)日：2012-05-10
申请号：PCT/EP2011/005489
申请日：2011-10-31
申请人： OVD KINEGRAM AG , STAUB, René , SCHILLING, Andreas , HANSEN, Achim
发明人： STAUB, René , SCHILLING, Andreas , HANSEN, Achim
IPC分类号： B42D15/00 , B42D15/10
CPC分类号： B42D15/00 , B42D25/00 , B42D25/29 , B42D25/324 , B42D25/328 , B42D25/351 , B42D25/364 , B42D25/41 , B42D25/435 , B42D2033/04 , B42D2035/14 , B42D2035/16
摘要： Es wird ein Sicherheitselement (1) insbesondere Wertdokument und ein Verfahren zur Herstellen desselben beschrieben. Das Sicherheitselement weist einen aus ein oder mehreren Designelementen (22) bestehenden Musterbereich (21) auf, dessen Formgebung eine erste optisch wahrnehmbare Information bereitstellt. Es weist weiterhin einen die ein oder mehrere Designelemente des Musterbereichs zumindest bereichsweise umgebenden Hintergrundbereich (20) auf. Das Sicherheitselement (1) weist eine opake Reflexionsschicht auf, welche nicht im Hintergrundbereich (20) vorgesehen ist und im Musterbereich (21) in ersten Zonen (31), nicht jedoch in zweiten Zonen vorgesehen ist. Die ersten Zonen (31) sind weniger als 300 μm voneinander beabstandet und weisen eine kleinste Abmessung von weniger als 300 μm auf.
摘要翻译：描述安全元件（1），特别是有价文件及其制造方法。安全元件具有由一个或多个设计元件（22）组成的图案区域（21），其形状提供第一光学可感知信息。它还具有至少部分围绕图案区域的一个或多个设计元素的背景区域（20）。安全元件（1）具有不透明的反射层，其不设置在背景区域（20）中并且设置在第一区域（31）中的图案区域（21）中但不设置在第二区域中。第一区（31）相隔小于300微米，并具有小于300微米的最小尺寸。

6. 发明申请

WO2008017362A2 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES MEHRSCHICHTKÖRPERS SOWIE MEHRSCHICHTKÖRPER 审中-公开
标题翻译：生产多层体和多层体的方法
公开(公告)号：WO2008017362A2
公开(公告)日：2008-02-14
申请号：PCT/EP2007/006196
申请日：2007-07-12
申请人： OVD Kinegram AG , STAUB, René , HANSEN, Achim , BREHM, Ludwig , SEITZ, Mathias , WILD, Heinrich
发明人： STAUB, René , HANSEN, Achim , BREHM, Ludwig , SEITZ, Mathias , WILD, Heinrich
IPC分类号： B42D15/00 , B42D15/10
CPC分类号： B42D25/45 , B42D25/324 , B42D25/328 , B42D25/364 , B42D2033/26 , B42D2035/16 , B42D2035/24 , Y10T428/24612
摘要： Es werden unterschiedliche Verfahren zur Herstellung von Mehrschichtkörpern mit mindestens einer partiell ausgeformten Funktionsschicht und mindestens einer weiteren partiell ausgeformten Schicht sowie die auf diese Weise hergestellten Mehrschichtkörper beschrieben. Der Mehrschichtkörper weist mindestens eine partiell ausgeformte Funktionsschicht im Register zu mindestens einer weiteren partiell ausgeformten Schicht auf, welche sich vorzugsweise gegenseitig zu einer geometrischen, alphanumerischen, bildlichen, graphischen oder figürlichen farbigen Darstellung ergänzen.
摘要翻译：描述了用于制造具有至少一个部分形成的功能层和至少一个另外的部分形成的层的多层体的各种方法以及以这种方式制造的多层体。所述Mehrschichtk＆OUML;本体具有至少一个另外的部分成形的层，其相互是优选的几何，字母数字，图案，图形或无花果导航用色自然科学显示在寄存器至少一种部分形功能层尔格＆AUML;硬币。

7. 发明申请

WO2007115785A1 MEHRSCHICHTKÖRPER MIT VOLUMEN-HOLOGRAMM 审中-公开
标题翻译：复合体的体积全息图
公开(公告)号：WO2007115785A1
公开(公告)日：2007-10-18
申请号：PCT/EP2007/003091
申请日：2007-04-05
申请人： OVD KINEGRAM AG , STAUB, René , BREHM, Ludwig , HANSEN, Achim , TOMPKIN, Wayne, Robert , SCHILLING, Andreas
发明人： STAUB, René , BREHM, Ludwig , HANSEN, Achim , TOMPKIN, Wayne, Robert , SCHILLING, Andreas
IPC分类号： G03H1/20 , G03H1/26 , B42D15/10
CPC分类号： G03H1/202 , B42D25/328 , G03H1/0011 , G03H1/0248 , G03H1/26 , G03H2001/0027 , G03H2001/0415 , G03H2001/043 , G03H2001/186 , G03H2001/207 , G03H2001/2635
摘要： Es wird ein Verfahren zur Herstellung eines Mehrschichtkörpers, der ein Volumenhologramm mit mindestens zwei unterschiedlichen Bildinformationen aufweist, beschrieben, wobei eine photosensitive Schicht (46) des Mehrschichtkörpers unmittelbar oder unter Zwischenschaltung eines transparenten optischen Mediums (44s, 45) in Kontakt mit der Vorderseite eines Masters (44) gebracht wird, in die miteinander verschachtelte Bereiche mit unterschiedlichen asymmetrischen Oberflächenstrukturen oder Kinorform-Strukturen abgeformt sind, welche die mindestens zwei unterschiedlichen Bildinformationen verkörpern. Die photosensitive Schicht (46) und der Master werden mit einem kohärenten Lichtstrahl (47) belichtet, wodurch in der photosensitiven Schicht (46) ein Volumenhologramm ausgebildet wird. Weiter wird ein Master zur Herstellung des Mehrschichtkörpers beschrieben sowie ein Sicherheitselement mit dem besagten Mehrschichtkörper.
摘要翻译：描述了一种用于生产多层体，其具有与至少两个不同的图象信息，一个体积全息图，其中，所述多层体的感光层（46），直接或用一种透明的光学介质的插入（44S，45）在与主的前接触（44）放置，成形为与实施至少两个不同的图像的信息不同的非对称的表面结构或Kinorform结构交错区域。从而在感光层（46）上形成形成体积全息图中，光敏层（46）和主露出用相干光束（47）。接着，用于生产多层体的一个主进行说明，以及与安全元件，所述多层体。

8. 发明申请

WO2004113954A3 OPTISCHES SICHERHEITSELEMENT 审中-公开
公开(公告)号：WO2004113954A3
公开(公告)日：2004-12-29
申请号：PCT/EP2004/006467
申请日：2004-06-16
申请人： OVD KINEGRAM AG , SCHILLING, Andreas , TOMPKIN, Wayne, Robert , STAUB, René
发明人： SCHILLING, Andreas , TOMPKIN, Wayne, Robert , STAUB, René
IPC分类号： G06K19/16
摘要： Die Erfindung betrifft ein optisches Sicherheitselement mit einer Substratschicht, in die in einem Flächenbereich (2) bereichsweise eine erste Mikrostruktur zur Erzeugung eines ersten, optisch erkennbaren Effektes abgeformt ist. Der Flächenbereich (2) ist in mikroskopisch feine Musterbereiche (21 bis 40) und einen Hintergrundbereich (20) geteilt. Die erste Mikrostruktur ist in den Musterbereichen (21 bis 40) aber nicht in dem Hintergrundbereich (20) abgeformt. Die mikroskopisch feinen Musterbereiche (21 bis 40) in dem Flächenbereich (2) sind in Form eines Moiré-Musters angeordnet, in das eine mittels eines zugeordneten Verifizierungselements auswertbare versteckte Information als Sicherheitsmerkmal codiert ist. Die mikroskopisch feinen Musterbereiche (21 bis 40) sind weiter gemäss einer Substrukturierungs-Funktion substrukturiert, die eine als weiteres Sicherheitsmerkmal dienende mikroskopische Substrukturierung des Moiré-Musters beschreibt.

9. 发明申请

WO2004113954A2 OPTISCHES SICHERHEITSELEMENT 审中-公开
标题翻译：光学安全元件
公开(公告)号：WO2004113954A2
公开(公告)日：2004-12-29
申请号：PCT/EP2004/006467
申请日：2004-06-16
申请人： OVD KINEGRAM AG , SCHILLING, Andreas , TOMPKIN, Wayne, Robert , STAUB, René
发明人： SCHILLING, Andreas , TOMPKIN, Wayne, Robert , STAUB, René
IPC分类号： G02B
CPC分类号： B42D25/342 , B42D25/328 , G03H1/0011
摘要： Die Erfindung betrifft ein optisches Sicherheitselement mit einer Substratschicht, in die in einem Flächenbereich (2) bereichsweise eine erste Mikrostruktur zur Erzeugung eines ersten, optisch erkennbaren Effektes abgeformt ist. Der Flächenbereich (2) ist in mikroskopisch feine Musterbereiche (21 bis 40) und einen Hintergrundbereich (20) geteilt. Die erste Mikrostruktur ist in den Musterbereichen (21 bis 40) aber nicht in dem Hintergrundbereich (20) abgeformt. Die mikroskopisch feinen Musterbereiche (21 bis 40) in dem Flächenbereich (2) sind in Form eines Moiré-Musters angeordnet, in das eine mittels eines zugeordneten Verifizierungselements auswertbare versteckte Information als Sicherheitsmerkmal codiert ist. Die mikroskopisch feinen Musterbereiche (21 bis 40) sind weiter gemäss einer Substrukturierungs-Funktion substrukturiert, die eine als weiteres Sicherheitsmerkmal dienende mikroskopische Substrukturierung des Moiré-Musters beschreibt.

10. 发明申请

WO2003084766A3 SICHERHEITSELEMENT MIT MAKROSTRUKTUREN 审中-公开
公开(公告)号：WO2003084766A3
公开(公告)日：2003-10-16
申请号：PCT/EP2003/003483
申请日：2003-04-03
申请人： OVD KINEGRAM AG , STAUB, René , SCHILLING, Andreas , TOMPKIN, Wayne, Robert
发明人： STAUB, René , SCHILLING, Andreas , TOMPKIN, Wayne, Robert
IPC分类号： B42D15/00
摘要： Ein Sicherheitselement (2) zum Aufkleben auf ein Dokument (3) besteht aus einem Schichtverbund (1) aus Kunststoff und weist eingebettete, optisch wirksame Strukturen eines Musters (4) auf. Die optisch wirksamen Strukturen in Flächenteilen (13) des Musters (4) liegen in einer von Koordinatenachsen (x; y) aufgespannten Referenzebene des Schichtverbunds (1) und sind in eine reflektierende Grenzfläche abgeformt. Die Grenzfläche ist zwischen einer transparenten Abformschicht und einer Schutzschicht des Schichtverbunds (1) eingebettet. Wenigstens eine Teilfläche (13) weist eine Abmessung grösser als 0,4 mm auf und besitzt in der Grenzfläche wenigstens eine abgeformte Makrostruktur (M), die eine wenigstens stückweise stetige und differenzierbare Funktion der Koordinaten (x; y) ist. Die Makrostruktur (M) ist wenigstens in Teilbereichen gekrümmt und ist keine periodische Dreieck- oder Rechteckfunktion. In der Teilfläche (13) sind benachbarte Extremwerte der Makrostruktur (M) wenigstens 0.1 mm voneinander entfernt. Bei der Beleuchtung des Musters (4) mit Licht ist auf dem Sicherheitselement (2) beim Ändern der Blickrichtung ein optisch variables Muster von Lichtreflexionen sichtbar.

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式