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    • 1. 发明申请
    • LEUCHTDIODENCHIP UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES LEUCHTDIODENCHIPS
    • LEDS芯片和方法进行生产LEDS芯片
    • WO2012004112A1
    • 2012-01-12
    • PCT/EP2011/060158
    • 2011-06-17
    • OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBHMAYER, BerndSCHMID, Wolfgang
    • MAYER, BerndSCHMID, Wolfgang
    • H01L33/44H01L33/20H01L33/02
    • H01L33/26H01L33/025H01L33/20H01L33/44H01L2933/0025
    • Es wird ein Leuchtdiodenchip angegeben, mit - einer n-leitenden Halbleiterschicht (3), - einer p-leitenden Halbleiterschicht (4), - einem aktiven Bereich (2) zwischen der n-leitenden Halbleiterschicht (3) und der p-leitenden Halbeiterschicht (4), - einer Seitenfläche (14), welche die n-leitende Halbleiterschicht (3), die p-leitende Halbleiterschicht (4), und den aktiven Bereich (2) in einer lateralen Richtung begrenzt, und - einem Dotierbereich (1), in dem ein Dotierstoff in ein Halbleitermaterial des Leuchtdiodenchips eingebracht ist, und/oder - einem neutralisierten Bereich (1), wobei - der Dotierbereich (1) und/oder der neutralisierte Bereich (1) an der Seitenfläche (14) zumindest im Bereich des aktiven Bereichs ausgebildet ist, und - der Leuchtdiodenchip im Betrieb zur Abstrahlung von inkohärenter elektromagnetischer Strahlung vorgesehen ist.
    • 公开了一种发光二极管芯片,具有 - (活性区域(2)的n型半导体层(3)之间和p型半导体层 - 一个n型半导体层(3), - 一个p-型半导体层(4), 4), - 一个侧表面(14)的连接(3),p型半导体层(4)和所述有源区(2)在横向方向上界定的n型半导体层,以及 - 一个掺杂区(1), 在其中掺杂剂被引入到LED芯片的半导体材料,和/或 - 中和的区域(1),其中 - 所述掺杂区域(1)和/或在活动的区域中的至少所述侧表面(14)上的中和的区域(1) 形成区域,以及 - 所述LED芯片中的操作提供给发射非相干的电磁辐射。
    • 3. 发明申请
    • HALBLEITERLASERVORRICHTUNG
    • 半导体激光器件
    • WO2007098730A2
    • 2007-09-07
    • PCT/DE2007/000244
    • 2007-02-08
    • OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBHSCHMID, WolfgangMÜLLER, Martin
    • SCHMID, WolfgangMÜLLER, Martin
    • H01S5/183H01S5/026H01S5/041H01S5/22H01S5/4031
    • Die Erfindung betrifft eine Halbleiterlaservorrichtung mit einem optisch gepumpten oberflächenemittierenden Vertikalemitter (1), der in einer Vertikalhauptstrahlungsrichtung emittiert, und mindestens einer monolithisch integrierten Pumpstrahlungsquelle (2) zum optischen Pumpen des Vertikalemitters (1), wobei die Pumpstrahlungsquelle in einer Pumphauptstrahlungsrichtung, die quer zur Vertikalhauptstrahlungsrichtung verläuft, Pumpstrahlung emittiert. Die Halbleiterlaservorrichtung zeichnet sich gemäß einer ersten Ausführung dadurch aus, dass zumindest ein vertikaler Abschnitt der Pumpstrahlungsquelle (2) in einer Lateralrichtung quer zur Pumphauptstrahlungsrichtung und quer zur Vertikalhauptstrahlungsrichtung indexführend für Pumpstrahlung ausgeführt ist. In einer zweiten Ausführung ist die Halbleiterlaservorrichtung dadurch gekennzeichnet, dass die Pumpstrahlungsquelle (2) in zumindest einem vertikalen Abschnitt in einer Lateralrichtung quer zur Pumphauptstrahlungsrichtung eine geringere Breite aufweist als in einem weiteren vertikalen Abschnitt. Es wird auf diese Weise bei geeigneter Dimensionierung erreicht, dass Moden der Pumpstrahlung ganz oder zumindest teilweise in vertikaler Richtung aus diesem Abschnitt gedrängt wird, wodurch Absorptionsverluste der Pumpstrahlung an leitenden Schichten verringert werden können.
    • 本发明涉及一种半导体激光装置与光泵浦的表面发射垂直发射器(1)发射在竖直主辐射方向,以及至少一个单片集成泵浦辐射源(2),用于光学泵浦垂直发射器(1),其中,在泵主辐射方向横向泵浦辐射源到垂直主辐射方向 运行时,发射泵浦辐射。 的半导体激光装置是根据第一实施例的特征在于,泵浦辐射源的至少一个垂直部分,其特征在于(2)在横向方向上横向于所述泵主辐射方向和横向于用于泵浦辐射垂直主辐射方向索引前导进行。 在第二个实施例中,半导体激光装置的特征在于,在至少一个垂直部分泵浦辐射源(2)在横向方向上横向于更小的宽度的泵主辐射方向上比在另一个垂直截面。 它以这种方式实现的,具有合适的尺寸,使得泵辐射模式被部分地从该部分中,从而泵辐射的吸收损耗可以减小到导电层在垂直方向上完全敦促或至少。
    • 8. 发明申请
    • OPTISCH GEPUMPTE HALBLEITERVORRICHTUNG
    • 光泵半导体器件
    • WO2005107027A2
    • 2005-11-10
    • PCT/DE2005/000649
    • 2005-04-11
    • OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBHKARNUTSCH, ChristianLINDER, NorbertSCHMID, Wolfgang
    • KARNUTSCH, ChristianLINDER, NorbertSCHMID, Wolfgang
    • H01S5/183
    • H01S5/18305H01S5/026H01S5/041H01S5/141H01S5/18313H01S5/18327H01S5/18388H01S5/32341
    • Die vorliegende Erfindung betrifft eine Halbleitervorrichtung mit einem optisch gepumpten Vertikalemitter, der eine aktive Vertikalemitterschicht (3) aufweist, und einer Pumpstrahlungsquelle, mittels der ein in lateraler Richtung propagierendes Pumpstrahlungsfeld erzeugt wird, das die Vertikalemitterschicht (3) in einem Pumpbereich optisch pumpt, wobei die Wellenlänge des Pumpstrahlungsfeldes kleiner ist als die Wellenlänge des von dem Vertikalemitter generierten Strahlungsfeldes (12). Die Pumpstrahlungsquelle weist eine aktive Pumpschicht (2) auf, die der Vertikalemitterschicht (3) in vertikaler Richtung nachgeordnet ist und die in vertikaler Richtung gesehen zumindest teilweise mit der Vertikalemitterschicht überlappt, wobei die aktive Pumpschicht (2) so angeordnet ist, dass das im Betrieb erzeugte Pumpstrahlungsfeld eine höhere Leistung aufweist als ein parasitäres, von der Vertikalemitterschicht (3) erzeugtes, laterales propagierendes Strahlungsfeld, oder wobei eine Erzeugung eines parasitären, lateral propagierenden Strahlungsfeldes durch die Vertikalemitterschicht (3) unterdrückt wird.
    • 本发明涉及与具有活性垂直发射层(3)和泵辐射源,通过在泵辐射场的横向方向传播的方式的光学泵浦垂直发射的半导体器件中产生,其光学地泵的垂直发射极层(3)的泵区域,所述 泵浦辐射场的波长比所产生的辐射场的由垂直发射器(12)的波长小。 泵浦辐射源具有有源泵层(2),其在垂直发射层(3)的垂直方向的下游侧布置并且在垂直方向上观察至少部分地重叠的垂直发射层,有源泵层(2)被布置成使得在操作中 产生的泵浦辐射场具有比寄生更高的功率,由所述垂直发射层(3)产生的,横向传播的辐射场,或在其中产生的寄生的由垂直发射极层(3)被抑制横向传播辐射场。