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1. 发明申请

WO2009083001A3 STRAHLUNGSEMITTIERENDER KÖRPER UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES STRAHLUNGSEMITTIERENDEN KÖRPERS 审中-公开
公开(公告)号：WO2009083001A3
公开(公告)日：2009-07-09
申请号：PCT/DE2008/002136
申请日：2008-12-19
申请人： OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBH , EBERHARD, Franz , WINDISCH, Reiner , WALTER, Robert , SCHMAL, Michael , AHLSTEDT, Magnus
发明人： EBERHARD, Franz , WINDISCH, Reiner , WALTER, Robert , SCHMAL, Michael , AHLSTEDT, Magnus
IPC分类号： H01L33/00
摘要： Die Erfindung betrifft einen strahlungsemittierenden Körper umfassend eine Schichtenfolge, mit einer aktiven Schicht (10) zur Erzeugung von elektromagnetischer Strahlung, mit einer Reflexionsschicht (50), welche die erzeugte Strahlung reflektiert und mit zumindest einer Zwischenschicht (40), welche zwischen der aktiven Schicht (10) und der Reflexionsschicht (50) angeordnet ist. Dabei weist die aktive Schicht (10) auf einer zur Reflexionsschicht (50) gerichteten Grenzfläche (15) eine Aufrauung auf und die Reflexionsschicht (50) ist an einer zur aktiven Schicht (10) gerichteten Grenzfläche (45) im Wesentlichen planar. Die Erfindung betrifft auch ein Verfahren zur Herstellung eines strahlungsemittierenden Körpers, bei dem eine Schichtenfolge auf einem Substrat mit einer aktiven Schicht (10) zur Erzeugung von elektromagnetischer Strahlung, ausgebildet wird. Dabei erfolgt ein Aufrauen einer Grenzfläche (15) auf der aktiven Schicht (10) und ein Ausbilden zumindest einer Zwischenschicht (40) und einer Reflexionsschicht (50).

2. 发明申请

WO2010125028A3 OPTOELEKTRONISCHER HALBLEITERKÖRPER MIT EINEM REFLEKTIERENDEN SCHICHTSYSTEM 审中-公开
公开(公告)号：WO2010125028A3
公开(公告)日：2010-11-04
申请号：PCT/EP2010/055546
申请日：2010-04-26
申请人： OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBH , WALTER, Robert , GROLIER, Vincent , SCHMAL, Michael , PERZLMAIER, Korbinian , EBERHARD, Franz
发明人： WALTER, Robert , GROLIER, Vincent , SCHMAL, Michael , PERZLMAIER, Korbinian , EBERHARD, Franz
IPC分类号： H01L31/0232 , H01L31/0216 , G02B5/08
摘要： Es wird ein optoelektronischer Halbleiterkörper (1) mit einer aktiven Halbleiterschichtenfolge (10) und einem reflektierenden Schichtsystem (20) angegeben. Das reflektierende Schichtsystem (20) weist eine an die Halbleiterschichtenfolge (10) angrenzende erste strahlungsdurchlässige Schicht (21) und eine Metallschicht (23) an der von der Halbleiterschichtenfolge (10) abgewandten Seite der ersten strahlungsdurchlässigen Schicht (21) auf. Die erste strahlungsdurchlässige Schicht (21) enthält ein erstes dielektrisches Material. Zwischen der ersten strahlungsdurchlässigen Schicht (21) und der Metallschicht (23) ist eine zweite strahlungsdurchlässige Schicht (22) angeordnet, die ein haftverbesserndes Material enthält. Die Metallschicht (23) ist unmittelbar auf das haftverbessernde Material aufgebracht. Das haftverbessernde Material ist von dem ersten dielektrischen Material verschieden und derart ausgewählt, dass die Haftung der Metallschicht (23) im Vergleich zur Haftung auf dem ersten dielektrischen Material verbessert ist.

3. 发明申请

WO2019068534A1 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES OPTOELEKTRONISCHEN BAUELEMENTS UND OPTOELEKTRONISCHES BAUELEMENT 审中-公开
公开(公告)号：WO2019068534A1
公开(公告)日：2019-04-11
申请号：PCT/EP2018/076107
申请日：2018-09-26
申请人： OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBH
发明人： SCHWARZMAIER, Christoph , MANDL, Martin , WALTER, Robert , STIEGLMEIER, Roland , SCHMAL, Michael
IPC分类号： H01L33/40 , H01L33/42 , H01L33/00
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines optoelektronischen Bauelements (100) mit den Schritten: A) Bereitstellen einer Halbleiterschichtenfolge (1) auf einem Träger (7), wobei die Halbleiterschichtenfolge (1) zur Strahlungsemission eingerichtet ist, wobei die Halbleiterschichtenfolge (1) mindestens eine n-dotierte Halbleiterschicht (11), mindestens eine p-dotierte Halbleiterschicht (12) und eine zwischen den n- und p-dotierten Halbleiterschichten (11, 12) angeordnete aktive Schicht (13) aufweist, B) Aufbringen einer Kontaktschicht (3) direkt auf die Halbleiterschichtenfolge (1), die die Diffusion des Materials einer Spiegelschicht (4) verhindert oder vermindert, wobei die Kontaktschicht (3) eine Schichtdicke von maximal 10 nm aufweist, C) Aufbringen der Spiegelschicht (4) direkt auf die Kontaktschicht (3), und D) Aufbringen einer Barriereschicht (5) direkt auf die Spiegelschicht (4).

4. 发明申请

WO2016120460A1 VORRICHTUNG ZUR KONVERSION DER WELLENLÄNGE EINER ELEKTROMAGNETISCHEN STRAHLUNG 审中-公开
标题翻译：设备转换的电磁辐射的波长的
公开(公告)号：WO2016120460A1
公开(公告)日：2016-08-04
申请号：PCT/EP2016/051963
申请日：2016-01-29
申请人： OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBH
发明人： LIN, I-Hsin , STREITEL, Reinhard , HEINE, Urs , KEIDLER, Markus , LEFEBVRE, Eric , SCHMAL, Michael
IPC分类号： H01S5/00 , H01L33/50 , G02F1/35
CPC分类号： F21V9/30 , B32B7/12 , B32B15/04 , F21V7/05 , G02F2/02 , G02F2201/34 , G02F2201/346 , G02F2202/28 , H01L33/507 , H01L2933/0041 , H01S5/005
摘要： Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Konvertieren einer Wellenlänge einer elektromagnetischen Strahlung, mit einer Konversionsschicht, wobei die Konversionsschicht ausgebildet ist, um eine Wellenlänge einer einfallenden elektromagnetischen Strahlung wenigstens teilweise zu konvertieren, wobei die Konversionsschicht über eine Zwischenschicht mit einem Träger verbunden ist, wobei die Zwischenschicht wenigstens in Teilbereichen eine Festkörperschicht und eine Verbindungsschicht aufweist.
摘要翻译：本发明涉及一种装置，用于将电磁辐射的波长，包括转换层，其中所述转换层被形成于入射的电磁辐射的波长至少部分地转换，其中所述转换层经由中间层连接与载体，其中，所述中间层具有至少在部分区域的固体层和化合物层。

5. 发明申请

WO2015189344A1 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER BESCHICHTUNG SOWIE OPTOELEKTRONISCHES HALBLEITERBAUTEIL MIT EINER BESCHICHTUNG 审中-公开
标题翻译：方法用于生产具有涂料涂层和光电半导体器件
公开(公告)号：WO2015189344A1
公开(公告)日：2015-12-17
申请号：PCT/EP2015/063089
申请日：2015-06-11
申请人： OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBH
发明人： LEMBERGER, Martin , SCHMAL, Michael , IKONOMOV, Julian
IPC分类号： C23C14/22 , C23C14/50
CPC分类号： C23C14/225 , C23C14/505 , H01L31/022408 , H01L31/02327 , H01L31/035281 , H01L33/20 , H01L33/38 , H01L33/46 , H01L2933/0025
摘要： Es wird ein Verfahren zur Herstellung einer Beschichtung angegeben, umfassend die folgenden Schritte: - Bereitstellen einer Materialquelle (4) mit einer Deckfläche (4a) und einer Hauptbeschichtungsrichtung (Z), - Bereitstellen eines Substrathalters (1) mit einer Deckfläche (1a), - Bereitstellen zumindest einer Grundschicht (2) mit einer dem Substrathalter (1) abgewandten Beschichtungsfläche (2a) auf der Deckfläche (1a) des Substrats, - Anbringen des Substrathalters (1) an einem Dreharm (3), der entlang einer Haupterstreckungsrichtung des Dreharms (3) eine Länge (3L) aufweist, - Einstellen der Länge (3L) des Dreharms (3) derart, dass ein Normalenwinkel (φ) während des gesamten Verfahrens wenigstens 30° und höchstens 75° beträgt, - Aufbringen zumindest einer Beschichtung (22) an der die Beschichtungsfläche (2a) aufweisenden Seite der Grundschicht (2) mittels der Materialquelle (4), wobei - der Substrathalter (1) während des Beschichtungsvorgangs der Beschichtung (22) um eine Substratdrehachse, die entlang der Haupterstreckungsrichtung des Dreharms (3) verläuft, rotiert wird.
摘要翻译：提供了一种用于制备涂层的方法，包括以下步骤的方法： - 提供材料源（4），其具有顶表面（4a）和一个主涂层方向（Z）， - 提供衬底保持器具有一个顶面（1a）中，（1） - 提供具有（1）的朝向从涂层表面（2a）的所述衬底的所述顶面（1a）的上离开的衬底保持器的至少一个基极层（2）， - 将所述衬底保持器（1）上的旋转臂（3），其（沿着旋转臂3的主延伸方向）具有长度（3L）， - 上施加至少一个涂层（22）， - 调节所述旋转臂（3），使得在正常角度（φ）在整个过程中为至少30°且至多75°，长度（3L）由材料源的装置中的基极层（2）的涂层表面（2a）的轴承侧（4），其特征在于， - 所述衬底保持器（1）中所述涂层（22）的方式的涂覆工艺沿着旋转臂（3）的主延伸方向上延伸的旋转电子基板轴线旋转。

6. 发明申请

WO2015124549A1 HALBLEITERVORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUM AUFBRINGEN EINER BESCHICHTUNG AUF MEHRERE HALBLEITERVORRICHTUNGEN 审中-公开
标题翻译：半导体器件和方法施加涂层对几种半导体器件
公开(公告)号：WO2015124549A1
公开(公告)日：2015-08-27
申请号：PCT/EP2015/053275
申请日：2015-02-17
申请人： OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBH
发明人： STOCKMEIER, Michael , SCHMAL, Michael , VEIT, Thomas , SWIETLIK, Tomasz
IPC分类号： H01S5/02 , H01S5/028 , H01S5/042 , H01L33/20 , H01L33/38 , H01L33/46
CPC分类号： H01L25/0756 , H01L33/20 , H01L33/465 , H01L2924/0002 , H01L2933/0025 , H01S5/0207 , H01S5/028 , H01S5/0425 , H01L2924/00
摘要： Es wird eine Halbleitervorrichtung (10) beschrieben, mit einem Halbleiterkörper (3), der eine erste Kontaktschicht (1) an einer ersten Hauptfläche (11) und eine zweite Kontaktschicht (2) an einer zweiten Hauptfläche (12) aufweist. Der Halbleiterkörper (3) weist an der ersten Hauptfläche (11) eine Vertiefung (4) auf, die von zwei einander gegenüberliegenden Seitenflächen (5, 6) des Halbleiterkörpers (3) jeweils einen Abstand aufweist, wobei die erste Kontaktschicht (1) vollständig in der Vertiefung (4) angeordnet ist. Die zweite Kontaktschicht (2) weist von den einander gegenüberliegenden Seitenflächen (5, 6) einen gleich großen oder größeren Abstand als die Vertiefung (4) auf. Weiterhin wird ein Verfahren zum Aufbringen einer Beschichtung (7, 8) auf mehrere Halbleitervorrichtungen (10a, 10b, 10c, 10d) beschrieben.
摘要翻译：公开的是，其具有：第一主表面上的第一接触层（1）（11）和在第二主表面（12）的第二接触层（2）的半导体主体（3）的半导体器件（10）。所述的半导体主体（3）具有在所述第一主表面（11）A（4）由两个相对的侧表面延伸的凹部（5,6）的半导体主体（3）的每一个以一定距离，其中，所述第一接触层（1）完全所述凹部（4）被布置。背离相对的侧表面离开所述第二接触层（2）（5,6）具有相等或更大的距离比所述凹部（4）。此外，描述了用于对多个半导体器件（10A，10B，10C，10D）的涂覆涂层（7,8）的方法。

7. 发明公开

EP2225782A2 STRAHLUNGSEMITTIERENDER KÖRPER UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES STRAHLUNGSEMITTIERENDEN KÖRPERS 失效转让
标题翻译：辐射体和方法用于产生辐射发光体
公开(公告)号：EP2225782A2
公开(公告)日：2010-09-08
申请号：EP08868217.4
申请日：2008-12-19
申请人： OSRAM Opto Semiconductors GmbH
发明人： EBERHARD, Franz , WINDISCH, Reiner , WALTER, Robert , SCHMAL, Michael , AHLSTEDT, Magnus
IPC分类号： H01L33/00
CPC分类号： H01L33/22 , H01L33/46 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要： The invention relates to a radiation-emitting body, comprising a layer sequence, having an active layer (10) for producing electromagnetic radiation, a reflection layer (50), which reflects the radiation produced, and at least one intermediate layer (40), which is disposed between the active layer (10) and the reflection layer (50). To this end, the active layer (10) on an interface (15) directed toward the reflection layer (50) comprises a rough region, and the reflection layer (50) is substantially planar on an interface (45) directed toward the active layer (10). The invention further relates to a method for producing a radiation-emitting body, wherein a layer sequence is configured on a substrate having an active layer (10) for producing electromagnetic radiation. To this end, an interface (15) is roughened on the active layer (10) and at least one intermediate layer (40) and a reflection layer (50) are configured.
摘要翻译：活性之间设置所述的发光体，其包括一个层序列，在用于产生电磁辐射的活性层（10），其具有，具有一反射所产生的辐射的反射层（50），以及具有至少一个中间层（40）层（10）和反射层（50）。在这种情况下，活性层（10）具有在朝向所述反射层（50）引导接口（15）粗糙化上，并且反射层（50）在基本上是平面的，在朝向有源层引导接口（45）（ 10）。所以圆盘游离缺失是制造具有辐射发射体，其涉及形成在具有有源层（10）上，用于产生电磁辐射的基板的层序列的方法。在这种情况下，该方法包括在有源层（10）上的接口（15）的粗糙化，并形成至少一个中间层（40）和反射层（50）。

8. 发明授权

EP2225782B1 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES STRAHLUNGSEMITTIERENDEN KÖRPERS 失效转让
公开(公告)号：EP2225782B1
公开(公告)日：2019-07-03
申请号：EP08868217.4
申请日：2008-12-19
申请人： OSRAM Opto Semiconductors GmbH
发明人： EBERHARD, Franz , WINDISCH, Reiner , WALTER, Robert , SCHMAL, Michael , AHLSTEDT, Magnus
IPC分类号： H01L33/22 , H01L33/40 , H01L33/46

9. 发明公开

EP3155139A1 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER BESCHICHTUNG SOWIE OPTOELEKTRONISCHES HALBLEITERBAUTEIL MIT EINER BESCHICHTUNG 审中-实审转让
标题翻译：方法用于生产具有涂料涂层和光电半导体器件
公开(公告)号：EP3155139A1
公开(公告)日：2017-04-19
申请号：EP15728842.4
申请日：2015-06-11
申请人： OSRAM Opto Semiconductors GmbH
发明人： LEMBERGER, Martin , SCHMAL, Michael , IKONOMOV, Julian
IPC分类号： C23C14/22 , C23C14/50
CPC分类号： C23C14/225 , C23C14/505 , H01L31/022408 , H01L31/02327 , H01L31/035281 , H01L33/20 , H01L33/38 , H01L33/46 , H01L2933/0025
摘要： What is specified is a method for producing a coating comprising the following steps: - providing a material source (4) having a top surface (4a) and a main coating direction (Z), - providing a substrate holder (1) having a top surface (1a), - providing at least one base layer (2), having a coating surface (2a) remote from the substrate holder (1), on the top surface (1a) of the substrate, - attaching the substrate holder (1) to a rotating arm (3), which has a length (3L) along a main direction of extent of the rotating arm (3), - setting the length (3L) of the rotating arm (3) in such a manner that a normal angle (φ) throughout the method is at least 30° and at most 75°, - applying at least one coating (22) to that side of the base layer (2) which has the coating surface (2a) by means of the material source (4), wherein - during the coating process with the coating (22), the substrate holder (1) is rotated about a substrate axis of rotation running along the main direction of extent of the rotating arm (3).
摘要翻译：什么被指定是用于制造涂层，包括以下步骤的方法：掌握情况 - 提供具有顶表面和一个主涂层方向的材料源，掌握情况 - 提供具有顶表面的支架底物，提供至少一个基极层，具有从基板保持器涂层表面远程，基板的顶表面上，在基板保持器-attaching到旋转臂，其具有沿着所述旋转臂的程度的一个主方向上的长度，-setting旋转臂的长度在求的方式没有正常角（φ）在整个所述的方法，是在至少30°且至多75°，-applying至少一个涂层确实具有由材料源的装置中的涂层表面的基体层的一侧，worin -during涂覆过程与涂层，衬底支架绕转动的沿着旋转臂的延伸范围的主方向延伸的基板轴线。

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