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    • 1. 发明申请
    • VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES OPTOELEKTRONISCHEN HALBLEITERBAUTEILS UND OPTOELEKTRONISCHES HALBLEITERBAUTEIL
    • 方法用于制造光电半导体器件和光电半导体器件
    • WO2016050608A1
    • 2016-04-07
    • PCT/EP2015/072013
    • 2015-09-24
    • OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBHOSRAM GMBH
    • BÖHM, BerndZASPEL, DanielHARTAUER, StefanHOXHOLD, Björn
    • H01L33/48H01L33/00H01L33/64
    • H01L33/0095H01L33/486H01L33/642H01L2933/005
    • Es wird ein optoelektronisches Halbleiterbauteil und ein Verfahren zur Herstellung eines optoelektronischen Halbleiterbauteils (10) angegeben, umfassend die Schritte:• A) Anordnen zumindest eines Halbleiterchips (2) an einem Träger (1), • B) Aufbringen eines elektrisch isolierenden Fotolacks (3) auf eine Oberseite (la) des Trägers (1) und auf den Halbleiterchip (2),• C) Aushärten des Fotolacks (3) mit einem Ausheizschritt, • D) Strukturieren des Fotolacks (3) durch Belichtung, • F) Entwicklung des Fotolacks (3), wobei der Fotolack (3) zumindest von einer Strahlungsdurchtrittsfläche (2b) des Halbleiterchips (2) entfernt wird, • G) weiteres Aushärten des Fotolacks (3) mit einem Ausheizschritt, und • H) Aufbringen einer elektrisch leitenden Kontaktschicht (4) auf den Fotolack (3), wobei die elektrisch leitende Kontaktschicht (4) stellenweise einen Abstand (A) zu einer Randfläche (3a) des Fotolacks (3) aufweist, die dem Halbleiterchip (2) zugewandt ist, wobei die dem Halbleiterchip (2) zugewandte Randfläche (3a) stellenweise freiliegt.
    • 本发明提供一种光电子半导体器件和用于制造光电子半导体器件(10),包括以下步骤的方法:•A)定位的至少一个上的支架(1),•B)将半导体芯片(2)的电绝缘抗蚀剂(3) 所述支撑件的上表面(Ia)的(1)和半导体芯片(2),•C)固化(3)的烘烤工序,•D)图案化所述光致抗蚀剂(3)曝光的光致抗蚀剂上,•F)显影光刻胶 (3),所述光致抗蚀剂(3)至少由一个辐射穿透表面(2b)的半导体芯片(2)被除去,•G)进一步固化抗蚀剂(3)的烘烤工序,和•1H)施加导电接触层(4 )(在光致抗蚀剂3),其中,在所述光致抗蚀剂的一个距离(a)(一个周表面3a)的地方,导电接触层(4)(3),面向所述半导体芯片(2),所述的哈 在暴露的部位面向lbleiterchip(2)外周面(3a)。
    • 4. 发明申请
    • OPTOELEKTRONISCHER HALBLEITERCHIP, HALBLEITERBAUELEMENT UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON OPTOELEKTRONISCHEN HALBLEITERCHIPS
    • 光电子半导体芯片,半导体元件及其制造方法的光电子半导体芯片
    • WO2015011028A1
    • 2015-01-29
    • PCT/EP2014/065445
    • 2014-07-17
    • OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBH
    • WAGNER, RalphVEIT, ThomasHOXHOLD, BjörnSCHLOSSER, Philipp
    • H01L33/00H01L33/38H01L33/44
    • H01L33/62H01L31/02005H01L31/0203H01L33/385H01L33/44H01L33/52H01L2933/0025H01L2933/0066
    • Es wird ein optoelektronischer Halbleiterchip (1) angegeben, der einen Träger (5) und einen Halbleiterkörper (2) mit einem zur Erzeugung und/oder zum Empfangen von Strahlung vorgesehenen aktiven Bereich (20) aufweist, wobei - der Halbleiterkörper mit einer Verbindungsschicht (6) an dem Träger befestigt ist; - der Träger sich in einer vertikalen Richtung zwischen einer dem Halbleiterkörper zugewandten ersten Hauptfläche (53) und einer dem Halbleiterkörper abgewandten zweiten Hauptfläche (54) erstreckt, wobei eine Seitenfläche (51) die erste Hauptfläche und die zweite Hauptfläche miteinander verbindet; - ein erster Bereich (511) der Seitenfläche des Trägers eine Einbuchtung (55) aufweist; - ein zweiter Bereich der Seitenfläche in vertikaler Richtung zwischen der Einbuchtung und der zweiten Hauptfläche verläuft; - der Halbleiterchip eine Isolationsschicht (4) aufweist, die den Halbleiterkörper und den ersten Bereich jeweils zumindest teilweise bedeckt; und - der zweite Bereich frei von der Isolationsschicht ist. Weiterhin werden ein Halbleiterbauelement und ein Verfahren zur Herstellung von optoelektronischen Halbleiterchips angegeben.
    • 提供了一种具有一个支撑件(5)和半导体本体的光电子半导体芯片(1)(2)与所提供的用于产生和/或用于接收辐射激活区(20),其特征在于 - 与连接层的半导体主体(6 )附连到所述支撑; - 在朝向半导体本体的第一主表面(53)和从该半导体本体的第二主表面(54),其特征在于,侧表面(51)连接所述第一主表面和第二主表面彼此背离的一侧上的侧之间的垂直方向上的载体; - 第一区(511)具有所述载体的所述侧面的凹部(55); - 通过在所述凹槽和所述第二主表面之间的垂直方向上的侧表面的第二部分; - 具有对应于半导体主体和在每种情况下所述第一区域至少部分地覆盖的绝缘层(4)的半导体芯片; 和 - 所述第二区域是从绝缘层自由。 此外,半导体器件和用于制造的光电子半导体芯片的方法中指定的。
    • 6. 发明申请
    • VERFAHREN ZUM AUFBRINGEN EINES MATERIALS AUF EINER OBERFLÄCHE
    • 方法将材料应用上的表面
    • WO2016071097A1
    • 2016-05-12
    • PCT/EP2015/074043
    • 2015-10-16
    • OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBH
    • HOXHOLD, BjörnKISSLING, MatthiasSPERL, Matthias
    • H01L33/50
    • H01L33/505H01L33/56H01L33/60H01L2933/0041H01L2933/005H01L2933/0058
    • Es wird ein Verfahren zum Aufbringen eines ersten Materials (5) auf einer Oberfläche (1) in einer Mehrzahl von voneinander getrennten Beschichtungsbereichen (2) angegeben mit den Schritten: A) Bereitstellen der Oberfläche (1) mit den Beschichtungsbereichen (2), B) Herstellen einer ersten Maskenschicht (3) auf der Oberfläche (1) mittels eines fotolithografischen Verfahrens, wobei die erste Maskenschicht (3) eine Mehrzahl von ersten Öffnungen (31) aufweist, die über den Beschichtungsbereichen (2) angeordnet sind, C) Bereitstellen einer selbsttragenden zweiten Maskenschicht (4) und anschließendes Aufbringen der zweiten Maskenschicht (4) auf der ersten Maskenschicht (3), wobei die zweite Maskenschicht (4) eine Mehrzahl von zweiten Öffnungen (41) aufweist, die über den ersten Öffnungen (31) angeordnet sind und die eine Größe aufweisen, die kleiner oder gleich einer Größe der ersten Öffnungen (31) ist, D) Aufbringen des ersten Materials (5) auf der Oberfläche (1) in den Beschichtungsbereichen (2) durch die ersten und zweiten Öffnungen (31, 41) der ersten und zweiten Maskenschicht (3, 4) hindurch.
    • 有间隔开的多个的表面(1)上施加第一材料(5)的方法涂敷区域(2)设置有如下步骤:a)提供所述表面(1)与所述涂层区域(2),B) 通过光刻法形成的表面(1)上的第一掩模层(3),所述第一掩模层(3)包括多个第一开口(31),其被布置在所述涂层的区域(2),C以上)提供一种自支撑 第二掩模层(4),然后将所述第二掩模层(4)在第一掩模层(3)上,所述具有多个第二开口(41)的第二掩模层(4)设置成穿过所述第一开口(31)和 具有尺寸小于或等于一个尺寸的第一开口(31)中,d)在Beschi表面(1)上施加第一材料(5)的 chtungsbereichen(2)通过所述第一和第二掩模层(3,4)通过其中的第一和第二开口(31,41)。