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1. 发明专利

TW201716609A 硬質被膜及硬質被膜被覆構件审中-公开
简体标题：硬质被膜及硬质被膜被覆构件
公开(公告)号：TW201716609A
公开(公告)日：2017-05-16
申请号：TW105125614
申请日：2016-08-11
申请人： OSG股份有限公司 , OSG CORPORATION
发明人：櫻井正俊 , SAKURAI, MASATOSHI , 王媺 , WANG, MEI
IPC分类号： C23C14/24 , C23C14/06 , C23C14/34 , C23C14/48 , C23C14/54
CPC分类号： B23B27/14 , B23B51/00 , B23C5/16 , C23C14/06
摘要：一種用以被覆在工具母材表面之硬質被膜，其係藉由物理蒸鍍法而構成A層與奈米薄膜交替層交替層積且形成0.5~20μm之總膜厚，其中該奈米薄膜交替層係由B層及C層以奈米等級厚度交替層積而成；A層係以組成式為Al1-W-XCrW(SiC)X]N且原子比W為0.20~0.80、原子比X為0.01~0.20表示之AlCr(SiC)氮化物，而且具有50~1000nm的厚度；B層係以組成式為[Ti1-YAlY]N且原子比Y為0.30~0.85表示之TiAl氮化物，而且具有1~100nm的厚度；C層係以組成式為[Ti1-Z(SiC)Z]N且原子比Z為0.05~0.45表示之Ti(SiC)氮化物，而且具有1~100nm的厚度；奈米薄膜交替層係具有50~1000nm的厚度。
简体摘要：一种用以被覆在工具母材表面之硬质被膜，其系借由物理蒸镀法而构成A层与奈米薄膜交替层交替层积且形成0.5~20μm之总膜厚，其中该奈米薄膜交替层系由B层及C层以奈米等级厚度交替层积而成；A层系以组成式为Al1-W-XCrW(SiC)X]N且原子比W为0.20~0.80、原子比X为0.01~0.20表示之AlCr(SiC)氮化物，而且具有50~1000nm的厚度；B层系以组成式为[Ti1-YAlY]N且原子比Y为0.30~0.85表示之TiAl氮化物，而且具有1~100nm的厚度；C层系以组成式为[Ti1-Z(SiC)Z]N且原子比Z为0.05~0.45表示之Ti(SiC)氮化物，而且具有1~100nm的厚度；奈米薄膜交替层系具有50~1000nm的厚度。

2. 发明专利

TW201716602A 硬質被膜及硬質被膜被覆構件审中-公开
简体标题：硬质被膜及硬质被膜被覆构件
公开(公告)号：TW201716602A
公开(公告)日：2017-05-16
申请号：TW105125613
申请日：2016-08-11
申请人： OSG股份有限公司 , OSG CORPORATION
发明人：櫻井正俊 , SAKURAI, MASATOSHI , 王媺 , WANG, MEI , 杉田博昭 , SUGITA, HIROAKI
IPC分类号： C23C14/06 , C23C14/32 , C23C14/14 , C23C14/34
CPC分类号： B23B27/14 , B23B51/00 , B23C5/16 , C23C14/06
摘要：一種用以被覆在工具母材表面之硬質被膜，其係藉由物理蒸鍍法而構成A層與奈米薄膜交替層交替層積且形成0.5~20μm之總膜厚，其中該奈米薄膜交替層係由B層及C層以奈米等級厚度交替層積而成；A層係以組成式為[Al1-UCrU]N且原子比U為0.20~0.80表示之AlCr氮化物，而且具有50~1000nm的厚度；B層係以組成式為[Ti1-WAlW]N且原子比W為0.30~0.85表示之TiAl氮化物，而且具有1~100nm的厚度；C層係以組成式為[Ti1-YSiY]N且原子比Y為0.05~0.45表示之TiSi氮化物，而且具有1~100nm的厚度；奈米薄膜交替層係具有50~1000nm的厚度。
简体摘要：一种用以被覆在工具母材表面之硬质被膜，其系借由物理蒸镀法而构成A层与奈米薄膜交替层交替层积且形成0.5~20μm之总膜厚，其中该奈米薄膜交替层系由B层及C层以奈米等级厚度交替层积而成；A层系以组成式为[Al1-UCrU]N且原子比U为0.20~0.80表示之AlCr氮化物，而且具有50~1000nm的厚度；B层系以组成式为[Ti1-WAlW]N且原子比W为0.30~0.85表示之TiAl氮化物，而且具有1~100nm的厚度；C层系以组成式为[Ti1-YSiY]N且原子比Y为0.05~0.45表示之TiSi氮化物，而且具有1~100nm的厚度；奈米薄膜交替层系具有50~1000nm的厚度。

3. 发明专利

TW201823489A 硬質被膜及硬質被膜被覆構件审中-公开
简体标题：硬质被膜及硬质被膜被覆构件
公开(公告)号：TW201823489A
公开(公告)日：2018-07-01
申请号：TW106135512
申请日：2017-10-17
申请人：日商OSG股份有限公司 , OSG CORPORATION
发明人：櫻井正俊 , SAKURAI, MASATOSHI , 王媺 , WANG, MEI
IPC分类号： C23C14/06 , B82Y30/00 , B23C5/00
摘要：一種被覆在工具母材表面的硬質被膜係利用物理蒸鍍法將A層、B層及奈米薄膜交替層交替積層而成並構成為膜厚0.5~20μm，該奈米薄膜交替層係奈米薄膜A層或奈米薄膜B層及C層以奈米等級厚度交替積層而成，且奈米薄膜A層或奈米薄膜B層與A層或B層具有相同組成；A層係組成式為(AlaTibCrcαd)N且具有0.5~1000nm之厚度；B層係組成式為(AleTifCrgβh)CXN1-X且具有0.5~1000nm之厚度，奈米薄膜交替層具有1~1000nm之厚度；C層係組成式為[AliCrj(SiC)kγl]CYN1-Y；且奈米薄膜A層或奈米薄膜B層及C層具有0.5~500nm之厚度。
简体摘要：一种被覆在工具母材表面的硬质被膜系利用物理蒸镀法将A层、B层及奈米薄膜交替层交替积层而成并构成为膜厚0.5~20μm，该奈米薄膜交替层系奈米薄膜A层或奈米薄膜B层及C层以奈米等级厚度交替积层而成，且奈米薄膜A层或奈米薄膜B层与A层或B层具有相同组成；A层系组成式为(AlaTibCrcαd)N且具有0.5~1000nm之厚度；B层系组成式为(AleTifCrgβh)CXN1-X且具有0.5~1000nm之厚度，奈米薄膜交替层具有1~1000nm之厚度；C层系组成式为[AliCrj(SiC)kγl]CYN1-Y；且奈米薄膜A层或奈米薄膜B层及C层具有0.5~500nm之厚度。

4. 发明专利

TWI625405B 硬質被膜及硬質被膜被覆構件有权
简体标题：硬质被膜及硬质被膜被覆构件
公开(公告)号：TWI625405B
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：TW105125614
申请日：2016-08-11
申请人： OSG股份有限公司 , OSG CORPORATION
发明人：櫻井正俊 , SAKURAI, MASATOSHI , 王媺 , WANG, MEI
IPC分类号： C23C14/24 , C23C14/06 , C23C14/34 , C23C14/48 , C23C14/54

5. 发明专利

TWI597374B 硬質被膜及硬質被膜被覆構件有权
简体标题：硬质被膜及硬质被膜被覆构件
公开(公告)号：TWI597374B
公开(公告)日：2017-09-01
申请号：TW105125613
申请日：2016-08-11
申请人： OSG股份有限公司 , OSG CORPORATION
发明人：櫻井正俊 , SAKURAI, MASATOSHI , 王媺 , WANG, MEI , 杉田博昭 , SUGITA, HIROAKI
IPC分类号： C23C14/06 , C23C14/32 , C23C14/14 , C23C14/34
CPC分类号： B23B27/14 , B23B51/00 , B23C5/16 , C23C14/06

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