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1. 发明申请

WO2012143091A1 VERFAHREN ZUR BEREISTELLUNG SEQUENZIELLER LEISTUNGSPULSE 审中-公开
标题翻译：方法准备位置连续功率脉冲
公开(公告)号：WO2012143091A1
公开(公告)日：2012-10-26
申请号：PCT/EP2012/001484
申请日：2012-04-04
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH , KRASSNITZER, Siegfried , LENDI, Daniel , LECHTHALER, Markus , RUHM, Kurt
发明人： KRASSNITZER, Siegfried , LENDI, Daniel , LECHTHALER, Markus , RUHM, Kurt
IPC分类号： H01J37/34 , C23C14/34
CPC分类号： C23C14/3485 , C23C14/3407 , C23C14/3492 , C23C14/352 , H01J37/3467
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Bereitstellung von Leistungspulsen für PVD-Zerstäubungskathoden welche in Teilkathoden unterteilt sind, wobei die an den Teilkathoden wirksamen Leistungspulsintervalle so gewählt werden, dass sie überlappen, wodurch erreicht wird, dass die Leistungsentnahme vom die Leistung bereitstellenden Generator nicht unterbrochen werden muss.
摘要翻译：本发明涉及一种方法，用于PVD溅射阴极，其被划分成部分阴极，其中，所述有效部分阴极功率脉冲间隔提供功率脉冲被选择为使得它们重叠，从而实现了动力输出将不会通过电源提供发电机被中断需要。

2. 发明申请

WO2012143087A1 HOCHLEISTUNGSZERSTÄUBUNGSQUELLE 审中-公开
公开(公告)号：WO2012143087A1
公开(公告)日：2012-10-26
申请号：PCT/EP2012/001414
申请日：2012-03-30
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH , KRASSNITZER, Siegfried , RUHM, Kurt
发明人： KRASSNITZER, Siegfried , RUHM, Kurt
IPC分类号： H01J37/34 , C23C14/34
CPC分类号： C23C14/35 , C23C14/352 , H01J37/3405 , H01J37/3444 , H01J37/3464 , H01J37/3467 , H01J37/3497
摘要： Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Magnetronsputter Verfahren mit dem es möglich ist Material von einer Targetoberfläche zu zerstäuben derart, dass das zerstäubte Material zu einem hohen Prozentsatz in Form von Ionen vorliegt. Erfindungsgemäss wird dies mittels eines einfachen Generators erreicht, dessen Leistung in Zeitintervallen verteilt in mehrere Magnetron-Sputterquellen eingespeist wird, d.h. eine Sputterquelle zu einem Zeitintervall mit maximaler Leistung versorgt wird und die nächste Sputterquelle im sich anschliessenden Zeitintervall mit maximaler Leistung versorgt wird. Auf diese Weise werden Entladungsstromdichten grösser 0.2A/cm 2 realisiert. Während der abgeschalteten Zeit hat das Sputtertarget die Möglichkeit abzukühlen, so dass das Temperaturlimit nicht überschritten wird.
摘要翻译：本发明涉及到与它有可能从目标表面例如雾化材料雾化的材料存在于离子的形式的高百分比的磁控溅射方法。根据本发明，这是通过一个简单的发电机，其功率在时间间隔被分配供给到多个磁控管溅射源，即来实现被提供给时间间隔具有最大功率溅射源，并在随后的时间间隔在最大功率被供给下一溅射。以这种方式，放电电流密度更大实现0.2A /厘米2。在关闭期间，溅射靶具有冷却，使温度限制不超过方式。

3. 发明申请

WO2012139707A1 KOHLENSTOFFFUNKENVERDAMPFUNG 审中-公开
标题翻译：碳无线电扩展
公开(公告)号：WO2012139707A1
公开(公告)日：2012-10-18
申请号：PCT/EP2012/001322
申请日：2012-03-26
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH , RAMM, Jürgen , WIDRIG, Bruno , RUHM, Kurt
发明人： RAMM, Jürgen , WIDRIG, Bruno , RUHM, Kurt
IPC分类号： H01J37/32
CPC分类号： H01J37/32055 , C23C14/325 , H01J37/32064 , H05B7/148 , H05B7/20 , H05H2001/4682
摘要： Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Betreiben einer gepulsten diskontinuierlichen Funkenentladung. Der Funken wird über einen Kondensator gespiesen. Es gibt zwischen den Pulsen abgeschaltete Zeitintervalle, während denen kein Funkenstrom fliesst. Innerhalb der Pulse, also während der zugeschalteten Zeitintervalle wird die Ladungszufuhr bei erreichen einer Stromschwelle abgestellt und erneut angestellt, so dass es zu Subpulsen innerhalb der Pulse kommt. Die Zeitintervalle und Subpulse sind erfindungsgemäss so gewählt, dass bei erneutem Zuschalten des Kondensators die Funkenentladung ohne weiteres erneut zündet.
摘要翻译：本发明涉及一种操作脉冲间歇火花放电的方法。火花通过电容器供给。有在这期间流过无火花电流脉冲的时间间隔之间关闭。内的脉冲，在期间被激活的时间间隔即在电荷供给将实现电流阈值断开并再次接通，从而将有脉冲内的子脉冲。的时间间隔和子脉冲被创造性地选择，使得当所述电容器的一个新的连接时，火花放电再次容易点燃。

4. 发明授权

EP2697817B1 KOHLENSTOFFFUNKENVERDAMPFUNG 有权转让
标题翻译：碳无线电扩展
公开(公告)号：EP2697817B1
公开(公告)日：2015-03-11
申请号：EP12718058.6
申请日：2012-03-26
申请人： Oerlikon Trading AG, Trübbach
发明人： RAMM, Jürgen , WIDRIG, Beno , RUHM, Kurt
IPC分类号： H01J37/32
CPC分类号： H01J37/32055 , C23C14/325 , H01J37/32064 , H05B7/148 , H05B7/20 , H05H2001/4682

5. 发明公开

EP2697817A1 KOHLENSTOFFFUNKENVERDAMPFUNG 有权转让
标题翻译：碳无线电扩展
公开(公告)号：EP2697817A1
公开(公告)日：2014-02-19
申请号：EP12718058.6
申请日：2012-03-26
申请人： Oerlikon Trading AG, Trübbach
发明人： RAMM, Jürgen , WIDRIG, Beno , RUHM, Kurt
IPC分类号： H01J37/32
CPC分类号： H01J37/32055 , C23C14/325 , H01J37/32064 , H05B7/148 , H05B7/20 , H05H2001/4682
摘要： The invention relates to a method for operating a pulsed discontinuous spark discharge. The spark is fed via a capacitor. Between the pulses there are switched-off time intervals during which no spark current flows. Within the pulses, that is to say during the switched-on time intervals, the supply of charge is stopped upon a current threshold being reached and is restarted, with the result that subpulses occur within the pulses. The time intervals and subpulses are chosen according to the invention such that when the capacitor is switched on again, the spark discharge readily ignites again.

6. 发明公开

EP2700083A1 VERFAHREN ZUR BEREISTELLUNG SEQUENZIELLER LEISTUNGSPULSE 有权转让
标题翻译：方法准备位置连续功率脉冲
公开(公告)号：EP2700083A1
公开(公告)日：2014-02-26
申请号：EP12720091.3
申请日：2012-04-04
申请人： Oerlikon Trading AG, Trübbach
发明人： KRASSNITZER, Siegfried , LENDI, Daniel , LECHTHALER, Markus , RUHM, Kurt
IPC分类号： H01J37/34 , C23C14/34
CPC分类号： C23C14/3485 , C23C14/3407 , C23C14/3492 , C23C14/352 , H01J37/3467
摘要： The invention relates to a method for supplying power impulses for PVD sputtering cathodes subdivided into partial cathodes. In said method, the power impulse intervals acting on the partial cathodes are selected in such a way as to overlap, thereby dispensing with the need to interrupt the drawing of power supplied by the generator.

7. 发明公开

EP2700082A1 HOCHLEISTUNGSZERSTÄUBUNGSQUELLE 有权转让
公开(公告)号：EP2700082A1
公开(公告)日：2014-02-26
申请号：EP12714576.1
申请日：2012-03-30
申请人： Oerlikon Trading AG, Trübbach
发明人： KRASSNITZER, Siegfried , RUHM, Kurt
IPC分类号： H01J37/34 , C23C14/34
CPC分类号： C23C14/35 , C23C14/352 , H01J37/3405 , H01J37/3444 , H01J37/3464 , H01J37/3467 , H01J37/3497
摘要： The invention relates to a magnetron sputtering process that allows material to be sputtered from a target surface in such a way that a high percentage of the sputtered material is provided in the form of ions. According to the invention, said aim is achieved using a simple generator, the power of which is fed to multiple magnetron sputtering sources spread out over several time intervals, i.e. the maximum power is supplied to one sputtering source during one time interval, and the maximum power is supplied to the following sputtering source in the subsequent time interval, such that discharge current densities of more than 0.2A/cm
2 are obtained. The sputtering target can cool down during the off time, thus preventing the temperature limit from being exceeded.
摘要翻译：本发明涉及一种磁控溅射工艺，该工艺允许从靶表面溅射材料，使得高比例的溅射材料以离子形式提供。根据本发明，所述目标是通过使用简单的发生器实现的，其发射功率被馈送到分布在多个时间间隔上的多个磁控溅射源，即，在一个时间间隔期间将最大功率提供给一个溅射源，并且最大值在随后的时间间隔内将功率提供给下一个溅射源，使得获得大于0.2A / cm 2的放电电流密度。在关闭时间期间，溅射靶可以冷却，从而防止超过温度限制。

8. 发明申请

WO2010125002A1 REACTIVE SPUTTERING WITH MULTIPLE SPUTTER SOURCES 审中-公开
标题翻译：具有多个溅射源的反应溅射
公开(公告)号：WO2010125002A1
公开(公告)日：2010-11-04
申请号：PCT/EP2010/055453
申请日：2010-04-23
申请人： OC OERLIKON BALZERS AG , DUBS, Martin , RUHM, Kurt , ROHRMANN, Hartmut
发明人： DUBS, Martin , RUHM, Kurt , ROHRMANN, Hartmut
IPC分类号： C23C14/35 , C23C14/50
CPC分类号： C23C14/0036 , C23C14/0094 , C23C14/352 , C23C14/505 , H01J37/3405 , H01J37/3426 , H01J37/3438 , H01J37/3444
摘要： The apparatus (1) for coating a substrate (14) by reactive sputtering comprises an axis (8), at least two targets (11, 12) in an arrangement symmetrically to said axis (8) and a power supply connected to the targets (11, 12), wherein the targets are alternatively operable as cathode and anode. The method is a method for manufacturing a coated substrate (14) by coating a substrate (14) by reactive sputtering in an apparatus (1) comprising an axis (8). The method comprises a) providing a substrate (14) to be coated; b) providing at least two targets (11, 12) in an arrangement symmetrically to said axis (8); c) alternatively operating said targets (11, 12) as cathode and anode during coating. Preferably, the targets (11, 12) are rotated during sputtering and/or the targets are arranged concentrically, with an innermost circular target surrounded by at least one ring-shaped outer target.
摘要翻译：用于通过反应溅射涂覆衬底（14）的装置（1）包括轴线（8），至少两个与所述轴线（8）对称布置的靶子（11,12）和连接到靶材 11,12），其中靶可替代地可操作为阴极和阳极。该方法是通过在包括轴线（8）的装置（1）中通过反应溅射涂覆基板（14）来制造涂覆的基板（14）的方法。该方法包括：a）提供待涂覆的基底（14）; b）以与所述轴线（8）对称的布置提供至少两个目标（11,12）; c）在涂覆期间可替代地操作所述靶（11,12）作为阴极和阳极。优选地，靶（11,12）在溅射期间旋转和/或靶被同心地布置，其中最内圆的圆形靶被至少一个环形外靶围绕。

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