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1. 发明专利

JP2008207223A Smoothing method of diamond film 审中-公开
标题翻译：金刚石薄膜的平滑方法
公开(公告)号：JP2008207223A
公开(公告)日：2008-09-11
申请号：JP2007047682
申请日：2007-02-27
申请人： Nachi Fujikoshi Corp , Kiyoshi Suzuki , Nobuo Yasunaga , 暢男安永 , 株式会社不二越 , 清鈴木
发明人： SUZUKI KIYOSHI , YASUNAGA NOBUO , NOJI TOSHIYUKI , HAMAZAKI HIROSHI , TAKANO SHIGETO , KANDA KAZUTAKA , HORI ISAO
IPC分类号： B23K26/00 , B23K26/04 , B23K26/12 , C23C16/27 , C23C16/56 , C30B29/04
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a technology capable of more stably smoothing a diamond film synthesized on the surface of a substrate by a CVD process by using laser beams than heretofore. SOLUTION: Laser beams 4 are emitted at the angle of ≥80° and COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够通过使用比迄今为止的激光束通过CVD工艺更加稳定地平滑在基板的表面上合成的金刚石膜的技术。解决方案：激光束4相对于加工点附近的金刚石膜12的表面的法线15以≥80°和<90°的角度发射，并且金刚石膜的表面通过使用激光束4的反射效果稳定地平滑.YAG激光的五次谐波用于激光束4.此外，激光束以减压状态施加。在激光束4的光束直径由扩束器2扩展之后，通过光圈3切出均匀强度的一部分激光束，并且具有优异均匀性的激光束在金刚石的表面上被冷凝电影。此外，通过检测在金刚石膜12上反射的激光束来确定加工的完成。版权所有（C）2008，JPO＆INPIT

2. 发明专利

JP2005081485A High temperature mechano-chemical polishing method and device 审中-公开
标题翻译：高温机械化学抛光方法与装置
公开(公告)号：JP2005081485A
公开(公告)日：2005-03-31
申请号：JP2003315668
申请日：2003-09-08
申请人： Tube Systems:Kk , Nobuo Yasunaga , 暢男安永 , 有限会社チューブシステムズ
发明人： YASUNAGA NOBUO , YAMAMOTO KOJI
IPC分类号： B24B1/00
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a high temperature mechano-chemical polishing method and a device, mechano-chemically polishing a work piece at a high temperature in an open atmosphere, facilitating approach to a work piece in the process of polishing, a polishing plate and abrasive grains, having high workability, and remarkably heightening the machining efficiency.
SOLUTION: The work piece 1 is held by two flat plates (a polishing plate 12 and a work holding plate 16), one or both of the flat plates are heated to raise the temperature of the work piece, and while fine particles 2 causing mechano-chemical action are supplied between the work piece and at least one flat plate, the work piece is mechano-chemically polished at a high temperatures.
COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI
摘要翻译：要解决的问题：为了提供高温机械化学抛光方法和装置，在开放气氛中在高温下对工件进行机械化学抛光，便于在抛光过程中对工件的接近，抛光板和磨粒，加工性高，显着提高了加工效率。
解决方案：工件1由两个平板（抛光板12和工件保持板16）保持，一个或两个平板被加热以升高工件的温度，而微粒 2在工件与至少一个平板之间提供机械化学作用，工件在高温下机械化学抛光。版权所有（C）2005，JPO＆NCIPI

3. 发明专利

JPS5166943A Nainenkikanno tenkahoshiki 失效
标题翻译： NAINENKIKANNO TENKAHOSHIKI
公开(公告)号：JPS5166943A
公开(公告)日：1976-06-10
申请号：JP14022674
申请日：1974-12-05
申请人： Nobuo Yasunaga
发明人： YASUNAGA NOBUO
IPC分类号： F02P15/10 , F02P3/04

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