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    • 4. 发明申请
    • OPTICAL MATERIALS WITH SELECTED INDEX-OF-REFRACTION
    • 具有选择的折射率的光学材料
    • WO02057812A2
    • 2002-07-25
    • PCT/US0201702
    • 2002-01-17
    • NANOGRAM CORPBRYAN MICHAEL AKAMBE NOBUYUKI
    • BRYAN MICHAEL AKAMBE NOBUYUKI
    • G02B6/124G02B6/125G02B6/13G02B
    • G02B6/13G02B6/124G02B6/125Y10T428/25
    • Photosensitive optical materials are used for establishing more versatile approaches for optical device formation. In some embodiments, unpatterned light (404) is used to shift the index-of-refraction of planar optical structures (400) to shift the index-of-refraction of the photosensitive material (402) to a desired value. This approach can be effective to produce cladding material with a selected index-of-refraction. In additional embodiments gradients in index-of-refraction are formed using photosensitive materials. In additional embodiments gradient in index-of-refraction are formed using photosensitive materials. In further embodiments, the photosensitive materials are patterned within the planar optical structure. Irradiation of the photosensitive material can selectively shift the index-of-refraction of the patterned photosensitive material. By patterning the light used used to irradiate the patterned photosensitive material, different optical devices can be selectively activated within the optical structure.
    • 光敏光学材料用于建立用于光学器件形成的更通用的方法。 在一些实施例中,未图案化的光(404)用于移动平面光学结构(400)的折射率以将感光材料(402)的折射率偏移到期望值。 这种方法可以有效地生产具有选定的折射率的包层材料。 在另外的实施例中,使用光敏材料形成折射率折射率。 在另外的实施例中,使用光敏材料形成折射率梯度。 在另外的实施例中,感光材料在平面光学结构内图案化。 感光材料的照射可以选择性地移动图案化感光材料的折射率。 通过图案化用于照射图案化感光材料的光,可以在光学结构内选择性地激活不同的光学器件。