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    • 7. 发明申请
    • THERMAL CONTACT ARRANGEMENT
    • 热接触布置
    • US20090044407A1
    • 2009-02-19
    • US12244192
    • 2008-10-02
    • Richard Lidio Blanco, JR.
    • Richard Lidio Blanco, JR.
    • B21D53/02
    • H01L23/433H01L23/42H01L2924/0002H01L2924/10158Y10T29/49126Y10T29/49128Y10T29/49169Y10T29/4935H01L2924/00
    • A thermal contact arrangement. The thermal contact arrangement may mitigate or reduce migration over time of a thermal interface material positioned between a chip and a heat sink. The thermal contact arrangement may include a first zone formed on a first area of the heat sink and a second zone formed on a second area of the heat sink. The processor may overlap or overlie the first zone, with the second zone generally outside the footprint of the processor and optionally surrounding the processor's footprint. The first zone may have a generally smooth surface, while the second zone may have a surface rougher than the first zone. The first zone may be finished to a specific smoothness while the second zone may be finished to second particular smoothness that is generally less than the first zone.
    • 热接触布置。 热接触布置可以减轻或减少位于芯片和散热器之间的热界面材料随时间的迁移。 热接触装置可以包括形成在散热器的第一区域上的第一区域和形成在散热器的第二区域上的第二区域。 处理器可以与第一区域重叠或覆盖,其中第二区域通常在处理器的占位面积之外,并且可选地围绕处理器的占用面积。 第一区域可以具有大致平滑的表面,而第二区域可以具有比第一区域更粗糙的表面。 第一区域可以完成到特定的平滑度,而第二区域可以被完成为通常小于第一区域的第二特定平滑度。