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1. 发明授权

US5783336A Mask for exposure 失效
标题翻译：面具曝光
公开(公告)号：US5783336A
公开(公告)日：1998-07-21
申请号：US729281
申请日：1996-10-10
申请人： Masami Aoki , Yusuke Kohyama , Soichi Inoue , Akiko Nikki
发明人： Masami Aoki , Yusuke Kohyama , Soichi Inoue , Akiko Nikki
IPC分类号： G03F1/00 , G03F9/00
CPC分类号： G03F1/30 , G03F1/26
摘要： A mask for exposure includes a light transmitting substrate, a plurality of substantially oblong, island-like light transmitting sections arranged periodically on the substrate, an opaque section formed on the substrate except where the light transmitting sections are arranged, and a plurality of phase shifter layers selectively formed in the light transmitting sections. The light transmitting sections include paired light transmitting sections opposed to each other at one end portion, and one of the phase shifter layers is formed in one of the paired light transmitting sections. An interval between the paired light transmitting sections at one end portion is smaller than an interval between adjacent ones of the light transmitting sections at portions other than the one end portion.
摘要翻译：用于曝光的掩模包括透光基板，在基板周期性地布置的多个基本上长方形的岛状光透射部分，形成在基板上的不透明部分，除了布置有透光部分之外的多个移相器在透光部中选择性地形成层。光透射部分包括在一个端部处彼此相对的成对的光透射部分，并且一个移相器层形成在一个光发射部分之一中。在一个端部的一对光传输部之间的间隔小于在一个端部以外的部分的相邻的透光部之间的间隔。

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