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    • 2. 发明专利
    • Leistungsmodul
    • DE112016005219B4
    • 2021-08-26
    • DE112016005219
    • 2016-11-01
    • MITSUBISHI ELECTRIC CORP
    • HARADA KOZOHARADA HIROYUKIHATANAKA YASUMICHINISHIMURA TAKASHITAYA MASAKI
    • H01L25/07H01L23/28H01L25/18
    • Leistungsmodul, das Folgendes aufweist:- ein Isoliersubstrat (2) mit einer oberen Fläche, auf welcher ein Halbleiterelement (3) montiert ist,- eine Basisplatte (1), die mit einer unteren Fläche des Isoliersubstrats (2) verbunden ist,- ein Gehäuseelement (6), das das Isoliersubstrat (2) umgibt und an der Basisplatte (1) anhaftend angebracht ist;- ein Dichtungsharz, das in einem Bereich ausgebildet ist, der von der Basisplatte (1) und dem Gehäuseelement (6) umgeben ist, so dass das Isoliersubstrat (2) abgedichtet ist, und- eine Halteplatte (9), die von einer Innenwand des Gehäuseelements (6) zu einem Ort oberhalb eines äußeren peripheren Bereichs des Isoliersubstrats (2) vorsteht, wobei die Halteplatte (9) an der Innenwand fixiert ist, wobei die Halteplatte (9) mit dem Dichtungsharz (8) in Kontakt ist,dadurch gekennzeichnet,dass die Halteplatte (9) von einer inneren Seitenwand des Gehäuseelements (6) in Richtung der Innenseite des Gehäuseelements (6) vorsteht, unddass eine Auslöseschicht an einer Fläche der Halteplatte (9) ausgebildet ist, die dem Isoliersubstrat (2) zugewandt ist,wobei die Adhäsion zwischen der Halteplatte (9) und dem Dichtungsharz (8) niedriger ist als die Adhäsion zwischen dem Dichtungsharz (8) und jedem von dem Isoliersubstrat (2) und dem Halbleiterelement (3).
    • 3. 发明专利
    • LEISTUNGS-HALBLEITEREINRICHTUNG
    • DE112016005409T5
    • 2018-08-09
    • DE112016005409
    • 2016-07-01
    • MITSUBISHI ELECTRIC CORP
    • HATANAKA YASUMICHIHARADA KOZOHARADA HIROYUKINISHIMURA TAKASHIMAFUNE MASAYUKIYAMADA KOJI
    • H01L23/29H01L23/31H01L25/07H01L25/18
    • Es wird eine wärmewiderstandsfähige und zuverlässige Leistungs-Halbleitereinrichtung angegeben, bei welcher ein Reißen eines Silikongels bei Temperaturzyklen und bei Hochtemperatur-Lagerung der Leistungs-Halbleitereinrichtung unterbunden wird. Die Leistungs-Halbleitereinrichtung weist Folgendes auf:ein Isoliersubstrat (2) mit einer Metallschicht (22), die auf einer oberen Fläche des Isoliersubstrats (2) ausgebildet ist; ein Halbleiterelement (3) und eine Hauptelektrode (5),die jeweils an eine obere Fläche der Metallschicht (22) gebondet sind; einen Metalldraht (4), der die Metallschicht (22) mit dem Halbleiterelement (3) verbindet; ein Metallelement (1), das an die untere Flächenseite des Isoliersubstrats 2 gebondet ist; ein Gehäuseelement (6), das das Isoliersubstrat (2) umgibt und in Kontakt mit einer Fläche des Metallelements (1) ist, das an das Isoliersubstrat (2) gebondet ist; und ein Dichtungsharz (8), das in einen Bereich gefüllt ist, der von dem Metallelement (1) und dem Gehäuseelement (6) umgeben ist. Das Dichtungsharz (8) hat eine Harzfestigkeit von 0,12 MPa oder höher bei Raumtemperatur, eine Mikrokristallisationstemperatur von -55 °C oder niedriger, und eine Nadel-Eindringung von 30 bis 50 nach Lagerung bei 175 °C für 1000 Stunden. Das Dichtungsharz (8) dichtet das Isoliersubstrat (2), die Metallschicht (22), das Halbleiterelement (3), den Metalldraht (4) und die Hauptelektrode (5) ab.
    • 5. 发明专利
    • HALBLEITEREINRICHTUNG UND VERFAHREN ZUM HERSTELLEN DERSELBEN
    • DE112016006433T5
    • 2018-11-15
    • DE112016006433
    • 2016-12-14
    • MITSUBISHI ELECTRIC CORP
    • HARADA HIROYUKIHARADA KOZOHATANAKA YASUMICHINISHIMURA TAKASHITAYA MASAKI
    • H01L25/07H01L23/28H01L25/18
    • Eine Halbleitereinrichtung wird erhalten, die dazu imstande ist, zu verhindern, dass das Isoliervermögen durch einen Wärmezyklus verschlechtert wird, und das Isoliervermögen zu gewährleisten, indem sie das Auftreten von Blasen und die Ablösung eines Silikongels von einem einem Isoliersubstrat verhindert, wenn die Temperatur hoch oder niedrig ist und wenn eine hohe Spannung verwendet wird. Die Halbleitereinrichtung weist Folgendes auf: ein Isoliersubstrat (5) mit einer oberen Fläche, auf welcher ein Halbleiterelement (4) montiert ist; eine Basisplatte (1), die mit einer unteren Fläche des Isoliersubstrats (5) verbunden ist; ein Gehäuseelement (2), das das Isoliersubstrat (5) umgibt und das in Kontakt mit einer Fläche der Basisplatte (1) ist, mit welcher das Isoliersubstrat (5) verbunden ist; ein Dichtungsharz (8), das in einem Bereich bereitgestellt ist, der von der Basisplatte (1) und dem Gehäuseelement (2) umgeben ist, so dass das Isoliersubstrat (5) abgedichtet ist; ein Abdeckteil (9), das einer Fläche des Dichtungsharzes (8) zugewandt ist und am Gehäuseteil (2) fixiert ist; und eine Halteplatte (10), wobei eine untere Fläche der Halteplatte und ein Bereich einer Seitenfläche der Halteplatte in engem Kontakt mit der Fläche des Dichtungsharzes (8) sind, wobei eine obere Fläche der Halteplatte an einer Fläche des Abdeckteils (9), die der Fläche des Dichtungsharzes (8) zugewandt ist, fixiert ist und von dieser vorsteht.
    • 6. 发明专利
    • Leistungsmodul
    • DE112016005219T5
    • 2018-07-19
    • DE112016005219
    • 2016-11-01
    • MITSUBISHI ELECTRIC CORP
    • HARADA KOZOHARADA HIROYUKIHATANAKA YASUMICHINISHIMURA TAKASHITAYA MASAKI
    • H01L25/07H01L23/28H01L25/18
    • Es wird ein Leistungsmodul angegeben, das dazu imstande ist, zu verhindern, dass das Isolationsvermögen durch einen Wärmezyklus verschlechtert wird, und das das Isolationsvermögen gewährleistet, indem es das Auftreten von Blasen und das Ablösen eines Silikongels von einem Isoliersubstrat unterbindet, wenn die Temperatur hoch oder niedrig ist und wenn eine hohe Spannung verwendet wird. Das Leistungsmodul weist Folgendes auf: ein Isoliersubstrat (2) mit einer oberen Fläche, auf welcher ein Halbleiterelement (3) montiert ist; eine Basisplatte (1), die mit einer unteren Fläche des Isoliersubstrats (2) verbunden ist; ein Gehäuseelement (6), das das Isoliersubstrat (2) umgibt und an der Basisplatte (1) anhaftend angebracht ist; ein Dichtungsharz (8), das in einem Bereich ausgebildet ist, der von der Basisplatte (1) und dem Gehäuseelement (6) umgeben ist, so dass das Isoliersubstrat (2) abgedichtet ist; und eine Halteplatte (9), die von einer Innenwand des Gehäuseelements (6) zu einem Ort oberhalb eines äußeren peripheren Bereichs des Isoliersubstrats (2) vorsteht, wobei die Halteplatte (9) an der Innenwand fixiert ist, wobei die Halteplatte (9) in Kontakt mit dem Dichtungsharz (8) ist.