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    • 8. 发明申请
    • OPTISCHES SYSTEM FÜR DIE MIKROLITHOGRAPHIE
    • 光学系统,微光刻
    • WO2009141033A1
    • 2009-11-26
    • PCT/EP2009/002544
    • 2009-04-07
    • CARL ZEISS SMT AGKRAEMER, DanielULRICH, WilhelmMANGER, MatthiasGELLRICH, Bernhard
    • KRAEMER, DanielULRICH, WilhelmMANGER, MatthiasGELLRICH, Bernhard
    • G03F7/20
    • G03F7/70308
    • Ein optisches System (10), insbesondere Projektionsobjektiv (12), für die Mikrolithographie weist eine optische Achse und zumindest eine optische Korrekturanordnung (44) auf, die ein erstes optisches Korrekturelement und zumindest ein zweites optisches Korrekturelement aufweist, wobei das erste Korrekturelement mit einer ersten asphärischen Oberflächenkontur versehen ist, und wobei das zweite Korrekturelement mit einer zweiten asphärischen Oberflächenkontur versehen ist, wobei sich die erste Oberflächenkontur und die zweite Oberflächenkontur zumindest näherungsweise zu null addieren, wobei die Korrekturanordnung (44) zumindest einen Antrieb zum Bewegen zumindest eines der beiden Korrekturelemente aufweist. Dabei ist zumindest eines der beiden Korrekturelemente um eine Drehachse drehbar, die zumindest näherungsweise parallel zur optischen Achse ist, und der zumindest eine Antrieb ist ein Drehantrieb zum Drehen des einen oder beider Korrekturelemente um die Drehachse.
    • 用于微光刻的光学系统(10),尤其是投影透镜(12)包括具有第一校正光学元件和至少一个第二光学校正元件,光轴和至少一个光学校正阵列(44),其中所述第一校正元件首先用 非球面表面轮廓被提供,并且其中所述第二校正元件设置有第二非球面表面轮廓,所述第一表面轮廓和所述的至少大约第二表面轮廓加起来为零,其特征在于,所述校正组件(44)包括用于移动所述两个校正元件中的至少一个上的至少一个驱动 , 在这种情况下,两个校正元件中的至少一个可绕一个旋转轴,其至少近似平行于光轴,并且所述至少一个驱动器用于转动围绕旋转轴线的修正元件的一方或双方的旋转驱动。