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1. 发明授权

US06230720B1 Single-operation method of cleaning semiconductors after final polishing 失效
标题翻译：最终抛光后清洗半导体的单次操作方法
公开(公告)号：US06230720B1
公开(公告)日：2001-05-15
申请号：US09606728
申请日：2000-06-29
申请人： M. Rao Yalamanchili , Kari B. Myli , Larry W. Shive
发明人： M. Rao Yalamanchili , Kari B. Myli , Larry W. Shive
IPC分类号： C23G102
CPC分类号： H01L21/02052 , Y10S134/902
摘要： A process for cleaning a final polished semiconductor wafer in a single operation (i.e., following final polishing, a process or action is directed at the wafer which includes drying the wafer only once, thereby yielding a polished wafer surface substantially free of contaminants). The process comprising contacting the polished wafer with an aqueous solution comprising an oxidizing agent to oxidize organic carbon on the surface of the polished wafer. After oxidizing the organic carbon, immersing the polished wafer in an megasonically agitated alkaline cleaning solution to reduce the surface concentration of contaminant particles exceeding 0.2 &mgr;m in diameter. Withdrawing the polished wafer from the alkaline cleaning solution and rinsing it with deionized water. After rinsing, immersing the polished wafer in an acidic cleaning solution to reduce the surface concentration of contaminant metal atoms. Withdrawing the polished wafer from the acidic cleaning solution and immersing it in an ozonated aqueous bath. Withdrawing the polished wafer from the aqueous bath and drying the wafer. The process is further characterized by the absence of a step in which the surface of the polished wafer is dried between oxidizing organic carbon on the surface and immersing the wafer in the ozonated aqueous bath.
摘要翻译：用于在单次操作中清洁最终抛光的半导体晶片的方法（即，在最终抛光之后，将晶片进行直接干燥，从而产生基本上没有污染物的抛光晶片表面）。该方法包括使抛光的晶片与包含氧化剂的水溶液接触以氧化抛光晶片的表面上的有机碳。氧化有机碳后，将经抛光的晶片浸入经过搅拌的碱性清洗溶液中，以减少直径超过0.2μm的污染物颗粒的表面浓度。从碱性清洁溶液中取出抛光的晶片，并用去离子水冲洗。冲洗后，将抛光的晶片浸入酸性清洗溶液中以降低污染金属原子的表面浓度。将抛光的晶片从酸性清洁溶液中取出并将其浸入臭氧水浴中。从水浴中取出抛光的晶片并干燥晶片。该方法的特征还在于不存在在表面上氧化有机碳并将晶片浸入臭氧水浴中之后干燥抛光晶片的表面的步骤。

2. 发明授权

US08506768B2 Low-maintenance coatings, and methods for producing low-maintenance coatings 有权
标题翻译：低维护性涂料以及生产低维护性涂料的方法
公开(公告)号：US08506768B2
公开(公告)日：2013-08-13
申请号：US12875221
申请日：2010-09-03
申请人： Kari B. Myli , Annette J. Krisko , James E. Brownlee , Gary L. Pfaff
发明人： Kari B. Myli , Annette J. Krisko , James E. Brownlee , Gary L. Pfaff
IPC分类号： C23C14/34
CPC分类号： C03C17/2456 , C03C17/002 , C03C17/3411 , C03C2217/212 , C03C2217/219 , C03C2217/23 , C03C2217/71 , C03C2217/91 , C03C2218/154 , C23C14/024 , C23C14/083 , C23C14/3464 , C23C14/352 , Y10T428/261 , Y10T428/265 , Y10T428/31678
摘要： The invention provides a substrate bearing a low-maintenance coating. In some embodiments, the coating includes a low-maintenance film that includes both titanium oxide and tungsten oxide. The invention also provides methods and equipment for depositing such coatings.
摘要翻译：本发明提供一种具有低维护性涂层的基材。在一些实施方案中，涂层包括包含氧化钛和氧化钨的低维护性膜。本发明还提供了沉积这种涂层的方法和设备。

3. 发明授权

US07862910B2 Photocatalytic coatings having improved low-maintenance properties 有权
标题翻译：具有改进的低维护性能的光催化涂料
公开(公告)号：US07862910B2
公开(公告)日：2011-01-04
申请号：US11733979
申请日：2007-04-11
申请人： Annette J. Krisko , Kari B. Myli , Keith J. Burrows
发明人： Annette J. Krisko , Kari B. Myli , Keith J. Burrows
IPC分类号： B32B17/06
CPC分类号： C03C17/3417 , B01J23/30 , B01J35/004 , B01J37/0244 , C03C17/3435 , C03C2217/71 , C23C14/08 , C23C14/083 , Y10T428/265
摘要： The invention provides a substrate bearing a photocatalytic coating. In some embodiments, the coating includes a photocatalytic film comprising titania deposited over a layer comprising tungsten oxide, aluminum oxide, niobium oxide or zirconium oxide. Additionally or alternatively, the photocatalytic film can include both titania and a material selected from the group consisting of nitrogen, tantalum, copper and silica. The invention also provides methods of depositing such coatings.
摘要翻译：本发明提供一种带有光催化涂层的基底。在一些实施方案中，涂层包括包含沉积在包含氧化钨，氧化铝，氧化铌或氧化锆的层上的二氧化钛的光催化膜。另外或替代地，光催化膜可以包括二氧化钛和选自氮，钽，铜和二氧化硅的材料。本发明还提供沉积这种涂层的方法。

4. 发明申请

US20100326816A1 LOW-MAINTENANCE COATING TECHNOLOGY 有权
标题翻译：低维护涂料技术
公开(公告)号：US20100326816A1
公开(公告)日：2010-12-30
申请号：US12875208
申请日：2010-09-03
申请人： Kari B. Myli , Annette J. Krisko , John German , Klaus Hartig
发明人： Kari B. Myli , Annette J. Krisko , John German , Klaus Hartig
IPC分类号： C23C14/34
CPC分类号： C03C17/2456 , C03C17/002 , C03C17/3411 , C03C2217/212 , C03C2217/219 , C03C2217/23 , C03C2217/71 , C03C2217/91 , C03C2218/154 , C23C14/024 , C23C14/083 , C23C14/3464 , C23C14/352 , Y10T428/261 , Y10T428/265 , Y10T428/31678
摘要： The invention provides methods and equipment for depositing a low-maintenance coating.
摘要翻译：本发明提供了用于沉积低维护涂层的方法和设备。

5. 发明授权

US07820309B2 Low-maintenance coatings, and methods for producing low-maintenance coatings 有权
标题翻译：低维护性涂料以及生产低维护性涂料的方法
公开(公告)号：US07820309B2
公开(公告)日：2010-10-26
申请号：US12209679
申请日：2008-09-12
申请人： Kari B. Myli , Annette J. Krisko , James Eugene Brownlee , Gary L. Pfaff
发明人： Kari B. Myli , Annette J. Krisko , James Eugene Brownlee , Gary L. Pfaff
IPC分类号： B32B9/00
CPC分类号： C03C17/2456 , C03C17/002 , C03C17/3411 , C03C2217/212 , C03C2217/219 , C03C2217/23 , C03C2217/71 , C03C2217/91 , C03C2218/154 , C23C14/024 , C23C14/083 , C23C14/3464 , C23C14/352 , Y10T428/261 , Y10T428/265 , Y10T428/31678
摘要： The invention provides a substrate bearing a low-maintenance coating. In some embodiments, the coating includes a low-maintenance film that includes both titanium oxide and tungsten oxide. The invention also provides methods and equipment for depositing such coatings.
摘要翻译：本发明提供一种具有低维护性涂层的基材。在一些实施方案中，涂层包括包含氧化钛和氧化钨的低维护性膜。本发明还提供了沉积这种涂层的方法和设备。

6. 发明授权

US07820296B2 Low-maintenance coating technology 有权
标题翻译：低维护涂层技术
公开(公告)号：US07820296B2
公开(公告)日：2010-10-26
申请号：US12209788
申请日：2008-09-12
申请人： Kari B. Myli , Annette J. Krisko , John German , Klaus Hartig
发明人： Kari B. Myli , Annette J. Krisko , John German , Klaus Hartig
IPC分类号： B32B17/06
CPC分类号： C03C17/2456 , C03C17/002 , C03C17/3411 , C03C2217/212 , C03C2217/219 , C03C2217/23 , C03C2217/71 , C03C2217/91 , C03C2218/154 , C23C14/024 , C23C14/083 , C23C14/3464 , C23C14/352 , Y10T428/261 , Y10T428/265 , Y10T428/31678
摘要： The invention provides a substrate bearing a low-maintenance coating. In some embodiments, the coating includes a low-maintenance film that includes a thickness of film comprising titania, wherein only part of that thickness includes tungsten. The thickness includes an inner portion and an outer portion, the outer portion being the part that includes tungsten. The invention also provides methods and equipment for depositing such coatings.
摘要翻译：本发明提供一种具有低维护性涂层的基材。在一些实施方案中，涂层包括低维护性膜，其包括包含二氧化钛的膜的厚度，其中仅一部分厚度包括钨。厚度包括内部部分和外部部分，外部部分是包括钨的部分。本发明还提供了沉积这种涂层的方法和设备。

7. 发明授权

US08696879B2 Low-maintenance coating technology 有权
标题翻译：低维护涂层技术
公开(公告)号：US08696879B2
公开(公告)日：2014-04-15
申请号：US12875208
申请日：2010-09-03
申请人： Kari B. Myli , Annette J. Krisko , John R. German , Klaus Hartig
发明人： Kari B. Myli , Annette J. Krisko , John R. German , Klaus Hartig
IPC分类号： C23C14/34
CPC分类号： C03C17/2456 , C03C17/002 , C03C17/3411 , C03C2217/212 , C03C2217/219 , C03C2217/23 , C03C2217/71 , C03C2217/91 , C03C2218/154 , C23C14/024 , C23C14/083 , C23C14/3464 , C23C14/352 , Y10T428/261 , Y10T428/265 , Y10T428/31678
摘要： The invention provides methods and equipment for depositing a low-maintenance coating.
摘要翻译：本发明提供了用于沉积低维护涂层的方法和设备。

8. 再颁专利

USRE43817E1 Low-maintenance coatings 有权
标题翻译：低维护性涂料
公开(公告)号：USRE43817E1
公开(公告)日：2012-11-20
申请号：US13271794
申请日：2011-10-12
申请人： Annette J. Krisko , Kari B. Myli , Gary L. Pfaff , James E. Brownlee
发明人： Annette J. Krisko , Kari B. Myli , Gary L. Pfaff , James E. Brownlee
IPC分类号： B32B9/00
CPC分类号： C03C17/3417 , C03C17/3423 , C03C2217/212 , C03C2217/213 , C03C2217/71 , C03C2218/155 , C03C2218/156
摘要： The invention provides a substrate bearing a low-maintenance coating. The coating includes two films: a first film comprising silica (e.g., silicon dioxide) and a second film comprising titania (e.g., titanium dioxide). Preferably, both films are provided within particular thickness ranges. The invention also provides methods of depositing such coatings.
摘要翻译：本发明提供一种具有低维护性涂层的基材。该涂层包括两个膜：包含二氧化硅（例如二氧化硅）的第一膜和包含二氧化钛（例如二氧化钛）的第二膜。优选地，两个膜都设置在特定的厚度范围内。本发明还提供沉积这种涂层的方法。

9. 发明申请

US20100326817A1 LOW-MAINTENANCE COATINGS, AND METHODS FOR PRODUCING LOW-MAINTENANCE COATINGS 有权
标题翻译：低维护涂料，以及生产低维护涂料的方法
公开(公告)号：US20100326817A1
公开(公告)日：2010-12-30
申请号：US12875221
申请日：2010-09-03
申请人： Kari B. Myli , Annette J. Krisko , James Eugene Brownlee , Gary L. Pfaff
发明人： Kari B. Myli , Annette J. Krisko , James Eugene Brownlee , Gary L. Pfaff
IPC分类号： C23C14/34
CPC分类号： C03C17/2456 , C03C17/002 , C03C17/3411 , C03C2217/212 , C03C2217/219 , C03C2217/23 , C03C2217/71 , C03C2217/91 , C03C2218/154 , C23C14/024 , C23C14/083 , C23C14/3464 , C23C14/352 , Y10T428/261 , Y10T428/265 , Y10T428/31678
摘要： The invention provides a substrate bearing a low-maintenance coating. In some embodiments, the coating includes a low-maintenance film that includes both titanium oxide and tungsten oxide. The invention also provides methods and equipment for depositing such coatings.
摘要翻译：本发明提供一种具有低维护性涂层的基材。在一些实施方案中，涂层包括包含氧化钛和氧化钨的低维护性膜。本发明还提供了沉积这种涂层的方法和设备。

10. 发明申请

US20090075069A1 Low-Maintenance Coatings, and Methods for Producing Low-Maintenance Coatings 有权
标题翻译：低维护涂料以及生产低维护涂料的方法
公开(公告)号：US20090075069A1
公开(公告)日：2009-03-19
申请号：US12209679
申请日：2008-09-12
申请人： Kari B. Myli , Annette J. Krisko , James Eugene Brownlee , Gary L. Pfaff
发明人： Kari B. Myli , Annette J. Krisko , James Eugene Brownlee , Gary L. Pfaff
IPC分类号： B32B5/00 , C23C14/34 , B32B15/00 , B32B15/04
CPC分类号： C03C17/2456 , C03C17/002 , C03C17/3411 , C03C2217/212 , C03C2217/219 , C03C2217/23 , C03C2217/71 , C03C2217/91 , C03C2218/154 , C23C14/024 , C23C14/083 , C23C14/3464 , C23C14/352 , Y10T428/261 , Y10T428/265 , Y10T428/31678
摘要： The invention provides a substrate bearing a low-maintenance coating. In some embodiments, the coating includes a low-maintenance film that includes both titanium oxide and tungsten oxide. The invention also provides methods and equipment for depositing such coatings.
摘要翻译：本发明提供一种具有低维护性涂层的基材。在一些实施方案中，涂层包括包含氧化钛和氧化钨的低维护性膜。本发明还提供了沉积这种涂层的方法和设备。

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