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    • 4. 发明专利
    • Low stress hard coatings and applications thereof
    • GB2519840A
    • 2015-05-06
    • GB201414590
    • 2014-08-15
    • KENNAMETAL INC
    • KUMAR VINEETPENICH RONALD MLIU YIXIONGLEICHT PETER
    • C23C14/06C23C14/02C23C14/32C23C28/04C23C30/00
    • A coated cutting tool 20 comprises a substrate 21 and a coating 22 comprising a refractory layer deposited by physical vapour deposition (PVD) adhered to the substrate, the refractory layer comprising M1-xAlxN, wherein M is Ti, Cr or Zr. In a first aspect, x ≥ 0.68, and the refractory layer includes a cubic crystalline phase and has a hardness of at least 25 GPa. In a second aspect, x ≥ 0.55, and the refractory layer has a thickness greater than 5 µm, a hardness of at least 25 GPa and a compressive stress less than 2.5 GPa. In a third aspect, a method of making the tool is disclosed, wherein x ≥ 0.64, the refractory layer has a cubic crystalline phase and a hardness of at least 25 GPa, and wherein the coating is deposited with a cathodic arc deposition apparatus comprising at least one anode (44, fig 4) having an annular extension. The coating 22 is formed of a refractory layer 23 which may comprise a single layer of M1-xAlxN, or may have a plurality of sublayers 24 which may be stacked in an alternating pattern (as shown). In one arrangement an intermediate layer (37, fig 3) may be provided between the substrate (31, fig 3) and the refractory layer (33, fig 3), the intermediate layer comprising either a single layer or multiple layers and improving adhesion of the refractory layer to the substrate.
    • 9. 发明专利
    • PVD-beschichtete Schneidwerkzeuge und Verfahren zu ihrer Herstellung
    • DE102016104087A1
    • 2016-09-15
    • DE102016104087
    • 2016-03-07
    • KENNAMETAL INC
    • KUMAR VINEETPENICH RONALD MLEICHT PETER RUDOLFLIU YIXIONGGREENFIELD MARK S
    • C23C28/00B23B27/14
    • Ein beschichteter Schneideinsatz (20) schließt ein Substrat (22) ein, das entweder ein Keramiksubstrat oder polykristallines kubisches Bornitrid enthaltendes Substrat ist und eine Substratoberfläche (23) hat. Ein Basisbeschichtungsschema (28) wird durch chemische Gasphasenabscheidung auf der Substratoberfläche (23) aufgebracht, wobei das Basisbeschichtungsschema die folgenden Beschichtungsschichten einschließt: eine innere Beschichtungsschicht (34) benachbart zu der Substratoberfläche (23), wobei die innere Beschichtungsschicht (34) ein Nitrid i ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Titannitrid, Zirkoniumnitrid und Hafniumnitrid ist; eine innere Zwischen-Beschichtungsschicht (36), die auf der inneren Beschichtungsschicht (34) abgeschieden ist, wobei die innere Zwischen-Beschichtungsschicht (36) ein Carbonitrid ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Titancarbonitrid, Zirkoniumcarbonitrid und Hafniumcarbonitrid ist; eine äußere Zwischen-Beschichtungsschicht (38), die auf der inneren Zwischen-Beschichtungsschicht (36) abgeschieden ist und wobei die äußere Zwischen-Beschichtungsschicht (38) ein Carbonitrid ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Titancarbonitrid, Zirkoniumcarbonitrid und Hafniumcarbonitrid ist; und eine äußere Beschichtungsschicht (40), die auf der äußeren Zwischen-Beschichtungsschicht (38) abgeschieden ist, wobei die äußere Beschichtungsschicht (40) ein Carbid ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Titancarbid, Zirkoniumcarbid und Hafniumcarbid ist. Ein äußeres Beschichtungsschema (43) ist auf dem Basisbeschichtungsschema (28) durch physikalische Gasphasenabscheidung abgeschieden.