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1. 发明申请

US20120108063A1 BEAM DOSE COMPUTING METHOD AND WRITING METHOD AND RECORD CARRIER BODY AND WRITING APPARATUS 有权
标题翻译：光束剂量计算方法和书写方法和记录载体体系和书写装置
公开(公告)号：US20120108063A1
公开(公告)日：2012-05-03
申请号：US13323986
申请日：2011-12-13
申请人： Keiko EMI , Junichi SUZUKI , Takayuki ABE , Tomohiro IIJIMA , Jun YASHIMA
发明人： Keiko EMI , Junichi SUZUKI , Takayuki ABE , Tomohiro IIJIMA , Jun YASHIMA
IPC分类号： H01L21/306
CPC分类号： H01J37/3174 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J2237/31764 , H01J2237/31769
摘要： A beam dose computing method includes dividing a surface area of a target object into include first, second and third regions of different sizes, the third regions being less in size than the first and second regions, determining first corrected doses of a charged particle beam for correcting fogging effects in the first regions, determining corrected size values for correcting pattern line width deviations occurring due to loading effects in the second regions to create a map of base doses of the beam in respective of said second regions and to prepare a map of proximity effect correction coefficients in respective of said second regions, using the maps to determine second corrected doses of the beam for proximity effect correction in the third regions, and using the first and second corrected doses to determine an actual beam dose at each position on the surface of said object.
摘要翻译：射束剂量计算方法包括将目标物体的表面积分成包括不同尺寸的第一，第二和第三区域，第三区域的尺寸小于第一和第二区域，确定带电粒子束的第一校正剂量，以便校正第一区域中的雾化效果，确定用于校正由于第二区域中的负载效应而发生的图案线宽度偏差的校正大小值，以在所述第二区域的各自中创建所述光束的基本剂量图，并且准备接近的图在所述第二区域的各个区域中的效应校正系数，使用该图确定在第三区域中用于邻近效应校正的光束的第二校正剂量，并且使用第一和第二校正剂量来确定表面上每个位置处的实际光束剂量的所述物体。

2. 发明申请

US20100015537A1 BEAM DOSE COMPUTING METHOD AND WRITING METHOD AND RECORD CARRIER BODY AND WRITING APPARATUS 有权
标题翻译：光束剂量计算方法和书写方法和记录载体体系和书写装置
公开(公告)号：US20100015537A1
公开(公告)日：2010-01-21
申请号：US12566525
申请日：2009-09-24
申请人： Keiko EMI , Junichi Suzuki , Takayuki Abe , Tomohiro Iljima , Jun Yashima
发明人： Keiko EMI , Junichi Suzuki , Takayuki Abe , Tomohiro Iljima , Jun Yashima
IPC分类号： G03F7/20 , H01J37/317 , H01J3/26
CPC分类号： H01J37/3174 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J2237/31764 , H01J2237/31769
摘要： A beam dose computing method includes specifying a matrix of rows and columns of regions as divided from a surface area of a target object to include first, second and third regions of different sizes, the third regions being less in size than the first and second regions, determining first corrected doses of a charged particle beam for correcting fogging effects in the first regions, determining corrected size values for correcting pattern line width deviations occurring due to loading effects in the second regions, using said corrected size values in said second regions to create a map of base doses of the beam in respective ones of said second regions, using said corrected size values to prepare a map of proximity effect correction coefficients in respective ones of said second regions, using the maps to determine second corrected doses of said beam for correction of proximity effects in said third regions, and using the first and second corrected doses to determine an actual beam dose at each position on the surface of said object.
摘要翻译：光束剂量计算方法包括：从目标对象的表面区域划分出区域的行和列的矩阵，以包括不同大小的第一，第二和第三区域，第三区域的尺寸小于第一和第二区域确定用于校正所述第一区域中的雾化效应的带电粒子束的第一校正剂量，确定用于校正由于所述第二区域中的负载效应而导致的图案线宽度偏差的校正大小值，使用所述第二区域中的所述校正大小值来创建使用所述校正的大小值，在所述第二区域的各个区域中的所述光束的基本剂量的映射，以使用所述映射来确定所述第二区域中的相应的所述第二区域中的邻近效应校正系数的映射，以确定所述光束的第二校正剂量校正所述第三区域中的邻近效应，并且使用第一和第二校正剂量来确定实际波束d 在所述对象的表面上的每个位置上。

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