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    • 7. 发明申请
    • VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR HERSTELLUNG EINES LEICHTMETALLBAUTEILS DURCH KIPPGIEßEN
    • 方法和设备用于生产LEICHTMETALLBAU份tiltabe铸造
    • WO2013017371A1
    • 2013-02-07
    • PCT/EP2012/063146
    • 2012-07-05
    • KS ALUMINIUM-TECHNOLOGIE GMBHBEER, StephanSTANCHEV, StanislavLUDESCHER, FranzBIHLMAYER, Steffen
    • BEER, StephanSTANCHEV, StanislavLUDESCHER, FranzBIHLMAYER, Steffen
    • B22D23/00B22D39/00B22D21/04
    • B22D23/006B22D21/04B22D39/00
    • Zur Herstellung qualitativ hochwertiger Gussstücke wird ein Verfahren zum Kippgießen vorgeschlagen, bei dem eine Gießform (2) mit einem Formhohlraum (10) sowie mit an der Gießform (2) angebrachtem Gießtümpel (12), Gießlauf (14) und Anschnitten (16) aus einer Ausgangsstellung in eine Maximalkippstellung gekippt wird, der Gießtümpels (12) zu Beginn mit flüssigem Leichtmetall befüllt wird, wobei der Gießtümpel (12) in dieser gekippten Stellung so weit gefüllt wird, dass die Anschnitte (16) geodätisch oberhalb einer Oberfläche (28) des Leichtmetalls im Gießtümpel (12) liegen und anschließend die Gießform (2) unter kontinuierlicher Weiterfüllung des Gießtümpels (12) zurückgekippt wird, die Füllung des Gießtümpels vor Erreichen der Ausgangsstellung gestoppt wird und im Folgenden die rückwärtige Kippbewegung in der Ausgangsstellung gestoppt wird, wobei erfindungsgemäß die Gießform (2) im ersten Schritt so weit gekippt wird, bis die Anschnitte (16) geodätisch in der Maximalkippstellung unterhalb des Formhohlraums (10) angeordnet sind.
    • 为生产高品质的铸件,tiltabe铸件的方法提出了在从模具(2),其具有一个模腔(10)和与连接到所述模具(2)浇注熔池(12),流道(14)和闸(16) 起始位置是在Maximalkippstellung,铸池倾斜(12)与液体轻金属,其特征在于,浇注熔池(12)在该倾斜位置到目前为止填充初始填充,该门(16)测地学上面的轻金属的表面(28) 在浇注熔池(12)位于,然后在模具(2)根据所述浇注熔池的连续宽履行(12)向后倾斜,铸池的填充到达起始位置和向后倾斜运动停止在以下的初始位置之前停止,根据本发明的铸模 (2)在第一步骤中到目前为止倾斜,大地测量到的栅极(16)我 布置n个Maximalkippstellung下方的模腔(10)。
    • 9. 发明申请
    • ELECTRICAL CIRCUIT, APPARATUS AND METHOD FOR THE DEMODULATION OF AN INTENSITY-MODULATED SIGNAL
    • 用于解调强度调制信号的电路,装置和方法
    • WO2004082131A1
    • 2004-09-23
    • PCT/CH2004/000122
    • 2004-03-03
    • CSEM CENTRE SUISSE D'ELECTRONIQUE ET DE MICROTECHNIQUE SABEER, StephanSEITZ, Peter
    • BEER, StephanSEITZ, Peter
    • H03D3/00
    • H03D7/02
    • A modulated optical radiation field (I) whose modulation amplitude and temporal phase depend on the local position can be detected with a plurality of pixels 1. Each pixel 1 consists of a transducing stage (T) that converts incoming light (I) into a proportional electric signal, a sampling stage (S), two subtraction/summation stages (SUB1, SUM1; SUB2, SUM2), and an output stage. Each pixel can be addressed individually. The optical radiation field (I) is locally sensed and sampled at a frequency that is four times the wavefield's modulation frequency. The subtraction/summation stages (SUB1, SUM1; SUB2, SUM2) accumulate differences of two samples per modulation period, separated by half the period, during several averaging periods; the two stages are time shifted with respect to each other by a quarter period. The resulting two output signals are employed for the determination of the local envelope amplitude and the temporal phase. These pixels 1 can be realized with circuits that consume very little electric power and require small areas, enabling the realization of large numbers of pixels in linear or two-dimensional array sensors.
    • 可以用多个像素1来检测其调制幅度和时间相位取决于本地位置的调制光辐射场(I)。每个像素1由将输入光(I)转换成比例的转换级(T) 电信号,采样级(S),两个减法/求和级(SUB1,SUM1; SUB2,SUM2)和输出级。 每个像素可以单独寻址。 光辐射场(I)以波场调制频率的四倍的频率进行局部感测和采样。 减法/求和级(SUB1,SUM1; SUB2,SUM2)在几个平均周期内累积每个调制周期的两个样本的差值,分隔一半周期; 两个阶段相对于四分之一时间相对时间偏移。 所得到的两个输出信号用于确定局部包络幅度和时间相位。 这些像素1可以用消耗很少电力并且需要小面积的电路来实现,从而能够实现线性或二维阵列传感器中的大量像素。