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1. 发明专利

JP2011047951A Device and objective optical system for inspecting sample 有权
标题翻译：用于检测样品的器件和目标光学系统
公开(公告)号：JP2011047951A
公开(公告)日：2011-03-10
申请号：JP2010244939
申请日：2010-11-01
申请人： Kla-Tencor Corp , ケーエルエー−テンカーコーポレイション
发明人： SHAFFER DAVID R , CHUANG YUNG-HO , ARMSTRONG J JOSEPH
IPC分类号： G01B11/30 , G01N21/956 , G02B13/14 , G02B13/24 , G02B17/08 , G02B21/00 , G02B21/04 , G02B21/06 , G02B21/16 , G03F1/84 , G03F7/20 , H01L21/027 , H01L21/66
CPC分类号： G03F7/70225 , G02B17/08 , G02B17/0812 , G02B17/0856 , G02B17/0892 , G02B17/0896 , G02B21/04 , G02B21/16 , G03F1/84 , G03F7/70275 , G03F7/70483 , G03F7/70616 , G03F7/7065
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a design for inspecting specimens, such as photomasks, for unwanted particles and features such as pattern defects.
SOLUTION: The system provides no external pupil for aperture (diaphragm) and Fourier filtering, provides relatively relaxed manufacturing tolerances, and is suited for both broad-band bright-field and laser dark field imaging and inspection at wavelengths below 365 nm. The lenses used are formed or constituted using a single material. This system includes at least one small fold mirror (304) and a Mangin mirror (306). The system is constituted off axis so that the returning second image is displaced laterally from the first image. This allows the lateral separation permitting optical receipt and manipulation of each image separately.
COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供用于检查样品的设计，例如光掩模，用于不想要的颗粒和诸如图案缺陷的特征。
解决方案：该系统不提供孔径（膜片）和傅立叶滤波的外部光瞳，提供相对宽松的制造公差，适用于波长低于365 nm的宽带亮场和激光暗场成像和检测。使用的透镜使用单一材料形成或构成。该系统包括至少一个小折叠镜（304）和芒果镜（306）。系统构成离轴，使得返回的第二图像从第一图像横向移位。这允许横向分离允许分别对每个图像进行光学接收和操纵。版权所有（C）2011，JPO＆INPIT

2. 发明专利

DE112013003486T5 Reduzierung der spektralen Bandbreite von Lasern 未知
公开(公告)号：DE112013003486T5
公开(公告)日：2015-03-26
申请号：DE112013003486
申请日：2013-07-11
申请人： KLA TENCOR CORP
发明人： ARMSTRONG J JOSEPH
IPC分类号： H01S3/10
摘要： Lasersystem zur Inspektion von Halbleitern mit einer faserbasierten Grundlichtquelle zum Erzeugen von Grundlicht, das von einem Modul zur Frequenzumwandlung umgewandelt/gemischt wird, um UV-DUV-Laserlicht zu erzeugen. Die Grundlichtquelle umfasst ein nichtlineares Chirp-Element (z. B. ein Bragg-Gitter oder einen elektrooptischen Modulator), das einen nichtlinearen Chirp zum Lasersystem des Seed-Lichts vor der Verstärkung durch die Faserverstärker (z. B. dotierter Faserverstärker oder Raman-Verstärker) addiert. Der nichtlineare Chirp hat eine Nichtlinearität in der Größenordnung von x2 oder höher und ist zum Kompensieren der Selbstphasenmodulation (SPM) des Faser-Verstärkers derart konfiguriert, dass Grundlicht erzeugt wird, das eine spektrale E95 Bandbreite besitzt, die fünfmal der des Seed-Lichts entspricht. Wenn mehrere in Reihe geschaltete Verstärker verwendet werden, wird entweder ein einzelnes nichtlineares Chirp-Element vor der Verstärkerkette vorgesehen, oder Chirp-Elemente sind vor jedem Verstärker eingebracht.

3. 发明专利

AU4679199A A system and method for analyzing topological features on a surface 未知
公开(公告)号：AU4679199A
公开(公告)日：2000-01-17
申请号：AU4679199
申请日：1999-06-10
申请人： KLA TENCOR CORP
发明人： CHUANG YUNG-HO , ARMSTRONG J JOSEPH , BROWN DAVID L , LIN JASON Z , TSAI BIN-MING BENJAMIN
IPC分类号： G01B11/30 , G01N21/95 , G01N21/956 , H01L21/66 , G01N21/00
摘要： Disclosed is a method and apparatus for using far field scattered and diffracted light to determine whether a collection of topological features on a surface (e.g., a semiconductor wafer) conforms to an expected condition or quality. This determination is made by comparing the far field diffraction pattern of a surface under consideration with a corresponding diffraction pattern (a "baseline"). If the baseline diffraction pattern and far field diffraction pattern varies by more than a prescribed amount or in characteristic ways, it is inferred that the surface features are defective. The method may be implemented as a die-to-die comparison of far field diffraction patterns of two dies on a semiconductor wafer. The portion of the far field scattered and diffracted light sensitive to a relevant condition or quality can also be reimaged to obtain an improved signal-to-noise ratio.

4. 发明专利

DE112013004424T5 Festkörper-Beleuchtungsquelle und Inspektionssystem 未知
公开(公告)号：DE112013004424T5
公开(公告)日：2015-06-03
申请号：DE112013004424
申请日：2013-09-10
申请人： KLA TENCOR CORP
发明人： ARMSTRONG J JOSEPH
IPC分类号： H01S3/02
摘要： Eine beispielhafte Beleuchtungsquelle für ein Inspektionssystem beinhaltet einen gepulsten Seedlaser mit einer Wellenlänge von ungefähr 1104 nm und einen Dauerstrich-Raman-Seedlaser mit einer Wellenlänge von ungefähr 1160 nm. Ein optischer Koppler kann Ausgangssignale des gepulsten Seedlasers und des Dauerstrich-Raman-Seedlasers kombinieren. Vorverstärkungsstufen können ein Ausgangssignal des optischen Kopplers empfangen. Ein Leistungsverstärker kann ein Ausgangssignal der Vorverstärkungsstufen empfangen. Eine sechste Harmonische kann unter Verwendung der verstärkten kombinierten Wellenlänge erzeugt werden. Systeme zur Inspektion einer Probe, etwa eines Retikels, einer Photomaske, oder eines Wafers können eine der hierin beschriebenen Beleuchtungsquellen beinhalten.

5. 发明专利

DE112015004544T5 183-nm-LASER- UND INSPEKTIONSSYSTEM 未知
公开(公告)号：DE112015004544T5
公开(公告)日：2017-08-17
申请号：DE112015004544
申请日：2015-10-02
申请人： KLA TENCOR CORP
发明人： CHUANG YUNG-HO ALEX , DRIBINSKI VLADIMIR , DENG YUJUN , FIELDEN JOHN , ARMSTRONG J JOSEPH
IPC分类号： H01S3/067 , H01S3/098 , H01S3/127
摘要： Eine Laseranordnung zur Erzeugung von Laserausgangslicht bei einer Ausgangswellenlänge von ungefähr 183 nm beinhaltet einen Basislaser, ein Optisch-Parametrisches-System (OPS), einen Erzeuger einer fünften Harmonischen und ein Frequenzmischungsmodul. Der Basislaser erzeugt Basislicht bei einer Basisfrequenz. Das OPS erzeugt ein frequenzkonvertiertes Signal bei einer herabgesetzten Frequenz. Der Erzeuger einer fünften Harmonischen erzeugt eine fünfte Harmonische des Basislichts. Das Frequenzmischungsmodul mischt das frequenzkonvertierte Signal und die fünfte Harmonische, um das Laserausgangslicht bei einer Frequenz zu erzeugen, die gleich einer Summe der Frequenz der fünften Harmonischen und der herabgesetzten Frequenz ist. Das OPS erzeugt das frequenzkonvertierte Signal, indem es ein frequenzkonvertiertes Leitsignal bei der herabgesetzten Frequenz erzeugt und dann das frequenzkonvertierte Leitsignal mit einem Teil des Basislichts mischt. Zumindest einer der Schritte Frequenzmischung, Frequenzkonversion, Erzeugung der Harmonischen verwendet einen getemperten, mit Deuterium oder mit Wasserstoff behandelten CLBO-Kristall.

6. 发明专利

DE112015004394T5 LASERANORDNUNG UND INSPEKTIONSSYSTEM UNTER VERWENDUNG EINER MONOLITISCHEN APPARATUR ZUM VERRINGERN DER BANDBREITE 未知
公开(公告)号：DE112015004394T5
公开(公告)日：2017-06-14
申请号：DE112015004394
申请日：2015-09-22
申请人： KLA TENCOR CORP
发明人： DENG YUJUN , CHUANG YUNG-HO ALEX , FIELDEN JOHN , ARMSTRONG J JOSEPH , DRIBINSKI VLADIMIR
IPC分类号： H01S3/137 , G01N21/39
摘要： Eine gepulste UV-Laseranordnung umfasst einen Teilreflektor oder Strahlteiler, der jeden Grundpuls in zwei Teilpulse unterteilt. Dabei wird ein Teilpuls zu einem Ende eines Bragg-Gitters und der andere Teilpuls zu dem anderen Ende des Bragg-Gitters (oder ein anderes Bragg-Gitter) geleitet, so dass die beiden Teilpulse gestreckt werden und entgegensetzte (positive und negative) Frequenz-Chirps erhalten. Die beiden gestreckten Teilpulse werden kombiniert, um ein Summenfrequenzlicht mit einer schmaleren Bandbreite zu erhalten, als man dies vom Grundpuls direkt durch Erzeugung der zweiten Oberschwingung erhalten würde. UV-Wellenlängen können direkt vom Summenfrequenzlicht oder von einem harmonischen Umwandlungsschema erzeugt werden, welches das Summenfrequenzlicht beinhaltet. Der UV-Laser kann weiterhin andere die Bandbreite reduzierende Schemata umfassen. Der gepulste UV-Laser kann in einem Inspektions- oder Metrologiesystem verwendet werden.

7. 发明专利

DE60017566T2 未知
公开(公告)号：DE60017566T2
公开(公告)日：2005-12-29
申请号：DE60017566
申请日：2000-06-22
申请人： KLA TENCOR CORP
发明人： SHAFFER DAVID R , CHUANG YUNG-HO , ARMSTRONG J JOSEPH
IPC分类号： G01B11/30 , G01N21/956 , G02B17/08 , G02B21/00 , G02B21/04 , G02B21/16 , G03F1/84 , G03F7/20 , H01L21/027 , H01L21/66
摘要： A design for inspecting specimens, such as photomasks, for unwanted particles and features such as pattern defects is provided. The system provides no central obscuration, an external pupil for aperturing and Fourier filtering, and relatively relaxed manufacturing tolerances, and is suited for both broad-band bright-field and laser dark field imaging and inspection at wavelengths below 365 nm. In many instances, the lenses used may be fashioned or fabricated using a single material. Multiple embodiments of the objective lensing arrangement are disclosed, all including at least one small fold mirror and a Mangin mirror. The system is implemented off axis such that the returning second image is displaced laterally from the first image so that the lateral separation permits optical receipt and manipulation of each image separately. The objective designs presented have the optical axis of the Mangin mirror image relay at ninety degrees to the optical axis defined by the focusing lenses, or an in-line or straight objective having one ninety degree bend of light rays.

8. 发明专利

DE60017566D1 未知
公开(公告)号：DE60017566D1
公开(公告)日：2005-02-24
申请号：DE60017566
申请日：2000-06-22
申请人： KLA TENCOR CORP
发明人： SHAFFER DAVID R , CHUANG YUNG-HO , ARMSTRONG J JOSEPH
IPC分类号： G01B11/30 , G01N21/956 , G02B17/08 , G02B21/00 , G02B21/04 , G02B21/16 , G03F1/84 , G03F7/20 , H01L21/027 , H01L21/66
摘要： A design for inspecting specimens, such as photomasks, for unwanted particles and features such as pattern defects is provided. The system provides no central obscuration, an external pupil for aperturing and Fourier filtering, and relatively relaxed manufacturing tolerances, and is suited for both broad-band bright-field and laser dark field imaging and inspection at wavelengths below 365 nm. In many instances, the lenses used may be fashioned or fabricated using a single material. Multiple embodiments of the objective lensing arrangement are disclosed, all including at least one small fold mirror and a Mangin mirror. The system is implemented off axis such that the returning second image is displaced laterally from the first image so that the lateral separation permits optical receipt and manipulation of each image separately. The objective designs presented have the optical axis of the Mangin mirror image relay at ninety degrees to the optical axis defined by the focusing lenses, or an in-line or straight objective having one ninety degree bend of light rays.

9. 发明申请

WO2012021311A3 DYNAMIC WAVEFRONT CONTROL OF A FREQUENCY CONVERTED LASER SYSTEM 审中-公开
标题翻译：一种频率转换激光系统的动态波前控制
公开(公告)号：WO2012021311A3
公开(公告)日：2012-06-28
申请号：PCT/US2011045974
申请日：2011-07-29
申请人： KLA TENCOR CORP , ARMSTRONG J JOSEPH
发明人： ARMSTRONG J JOSEPH
IPC分类号： H01S3/10 , H01S3/13
CPC分类号： G01J1/4257 , G01J9/00 , G02B27/0955 , G02B27/0966 , G02B27/108
摘要： The present invention is directed to a laser system in which a current laser wavefront performance of the laser system may be monitored. Further, the laser system embodiments disclosed herein may be configured for correcting the laser wavefront internally via correction system(s) within the laser system. Still further, the correction system(s) disclosed herein may provide a long lifetime of performance and may be configured for having a minimal impact on photocontamination.
摘要翻译：本发明涉及一种激光系统，其中可以监测激光系统的当前激光波阵面性能。此外，本文公开的激光系统实施例可以被配置用于经由激光系统内的校正系统内部校正激光波前。此外，本文公开的校正系统可以提供长寿命的性能，并且可以被配置为对光污染具有最小的影响。

10. 发明申请

WO2012064791A2 MEASURING CRYSTAL SITE LIFETIME IN A NON-LINEAR OPTICAL CRYSTAL 审中-公开
标题翻译：测量非线性光学晶体中的晶体场寿命
公开(公告)号：WO2012064791A2
公开(公告)日：2012-05-18
申请号：PCT/US2011059841
申请日：2011-11-08
申请人： KLA TENCOR CORP , ARMSTRONG J JOSEPH
发明人： ARMSTRONG J JOSEPH
IPC分类号： H01L21/66 , G01N21/00 , H01L21/027
CPC分类号： G02F1/353 , G02F1/3525
摘要： The present invention includes a fundamental laser light source configured to generate fundamental wavelength laser light, an optical crystal configured to receive fundamental laser light from the fundamental laser light source, the optical crystal configured to generate alternate wavelength light by frequency converting a portion of the received fundamental laser light to alternate wavelength light, an auxiliary light source configured to generate auxiliary wavelength light, the auxiliary wavelength light having a wavelength different from the fundamental wavelength laser light and the alternate wavelength light, the fundamental laser light source and the auxiliary light source oriented such that the fundamental laser light copropagates with the auxiliary light through a surface of the optical crystal, and a detector configured to detect at least one of fundamental wavelength laser light scattered by the optical crystal, alternate wavelength light scattered by the optical crystal, or auxiliary light scattered by the optical crystal.
摘要翻译：本发明包括：基本激光光源，其被配置为生成基波波长激光;光学晶体，其被配置为接收来自基本激光光源的基本激光，所述光学晶体被配置为通过对接收的一部分进行频率转换来生成交替波长光将基波激光输出到交变波长的光;辅助光源，其被配置为产生辅助波长的光，所述辅助波长的光具有与所述基波激光和所述交变波长的光不同的波长，所述基本激光光源和所述辅助光源被定向使得基本激光通过光学晶体的表面与辅助光共同传播，以及检测器，被配置为检测由光学晶体散射的基波波长激光，由光学晶体散射的交变波长光中的至少一种，或者由光学晶体散射的辅助光。

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