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1. 发明申请

WO2009041556A1 感放射線性組成物审中-公开
标题翻译：辐射敏感组合物
公开(公告)号：WO2009041556A1
公开(公告)日：2009-04-02
申请号：PCT/JP2008/067386
申请日：2008-09-26
申请人： JSR株式会社 , 西村幸生 , 宮田拡
发明人：西村幸生 , 宮田拡
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/0045 , G03F7/2041
摘要：　本発明の感放射線性組成物は、下記一般式（１）で表される繰り返し単位（１）及び下記一般式（２）で表される繰り返し単位（２）を有する重合体（Ａ）と、感放射線性酸発生剤（Ｂ）とを含有するものであり、解像性能に優れるだけでなく、ＬＷＲが小さく、ＰＥＢ温度依存性が良好で、パターン倒れ耐性に優れ、且つ、欠陥性にも優れたレジスト膜を形成可能な感放射線性組成物である。（一般式（１）及び一般式（２）において、Ｒ１は互いに独立して、メチル基等を示し、Ｒ２は炭素数１～１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基等を示し、Ｒ３は炭素数１～４の直鎖状又は分岐状アルキル基を示し、ｎは１～５の整数を示す。）
摘要翻译：公开了含有具有下述通式（1）表示的重复单元（1）的聚合物（A）和下述通式（2）表示的重复单元（2）的辐射敏感性组合物，敏感酸发生器（B）。该辐射敏感性组合物能够形成抗蚀剂膜，其不仅在分辨率方面优异，而且在抗折叠性和缺陷性方面优异，同时具有低LWR和良好的PEB温度依赖性。（通式（1）和通式（2）中，R 1独立地表示甲基等; R 2表示具有1-12个碳原子的直链或支链烷基等; R 3表示直链或支链的具有1-4个碳原子的烷基; n表示1-5的整数。）

2. 发明申请

WO2009044668A1 感放射線性組成物审中-公开
标题翻译：辐射敏感组合物
公开(公告)号：WO2009044668A1
公开(公告)日：2009-04-09
申请号：PCT/JP2008/067391
申请日：2008-09-26
申请人： JSR株式会社 , 西村幸生 , 宮田拡
发明人：西村幸生 , 宮田拡
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , Y10S430/108 , Y10S430/111
摘要：　本発明の感放射線性組成物は、酸の作用によりアルカリ可溶性となり、且つフッ素原子を含まない第一の重合体（Ａ）と、下記一般式（１）で表される繰り返し単位（ｂ１）及びフッ素原子を含有する繰り返し単位（ｂ２）を含む第二の重合体（Ｂ）と、感放射線性酸発生剤（Ｃ）とを含有し、第二の重合体（Ｂ）を、第一の重合体（Ａ）１００質量部に対して０．１～２０質量部含有するものであり、液浸露光由来の欠陥であるウォーターマーク欠陥やバブル欠陥の発生を良好に抑制することができるレジスト膜を形成可能な感放射線性組成物である。（一般式（１）において、Ｒ１はメチル基等を示し、Ｒ２は炭素数１～１２の直鎖状又は分岐状のアルキル基等を示す。）
摘要翻译：公开了含有不含氟原子的第一聚合物（A），通过酸作为碱溶性的辐射敏感性组合物，具有由通式（b1）表示的重复单元（b1）的第二聚合物（B） 1）和含有氟原子的重复单元（b2）和辐射敏感性酸产生剂（C）。该辐射敏感性组合物每100质量份第一聚合物（A）含有0.1-20质量份的第二聚合物（B），并且能够形成能有效抑制水痕缺陷或泡沫的产生的抗蚀剂膜由液浸暴露引起的缺陷。（通式（1）中，R 1表示甲基等，R 2表示具有1-12个碳原子的直链或支链烷基等。）

3. 发明专利

JP6064990B2 フォトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法有权
公开(公告)号：JP6064990B2
公开(公告)日：2017-01-25
申请号：JP2014506257
申请日：2013-03-19
申请人： JSR株式会社
发明人：宮田拡
IPC分类号： G03F7/039 , C08F20/10 , C08F20/54 , G03F7/004
CPC分类号： C08F220/28 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041

4. 发明专利

JP5928347B2 パターン形成方法有权
公开(公告)号：JP5928347B2
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：JP2012555828
申请日：2012-01-26
申请人： JSR株式会社
发明人：榊原宏和 , 宮田拡 , 古川泰一 , 伊藤亘史
IPC分类号： G03F7/039 , C08F20/18 , C08F220/22 , G03F7/038
CPC分类号： G03F7/038 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F224/00 , G03F7/004 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/325 , C08F2220/283 , C08F2220/382

5. 发明专利

JP5771905B2 液浸露光用感放射線性樹脂組成物、硬化パターン形成方法及び硬化パターン有权
标题翻译：用于液浸曝光的辐射敏感树脂组合物，固化所述图案形成方法和固化图案
公开(公告)号：JP5771905B2
公开(公告)日：2015-09-02
申请号：JP2010110575
申请日：2010-05-12
申请人： JSR株式会社
发明人：長谷川公一 , 宮田拡 , 保田慶友
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/38 , G03F7/40 , C08G77/04 , C08G77/50 , C08F220/22 , C08F212/14 , C08F232/02 , G03F7/075
CPC分类号： C08F212/14 , C08G77/04 , C08G77/50 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/0757 , G03F7/2041 , G03F7/40 , H01L21/02123

6. 发明专利

JP6507853B2 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法有权
公开(公告)号：JP6507853B2
公开(公告)日：2019-05-08
申请号：JP2015107790
申请日：2015-05-27
申请人： JSR株式会社
发明人：宮田拡
IPC分类号： G03F7/075 , G03F7/038 , G03F7/004 , G03F7/20 , C08F20/26 , G03F7/039

7. 发明专利

JP6028732B2 フォトレジスト組成物有权
公开(公告)号：JP6028732B2
公开(公告)日：2016-11-16
申请号：JP2013528980
申请日：2012-08-07
申请人： JSR株式会社
发明人：宮田拡 , 丸山研 , 中島浩光
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041

8. 发明专利

JP5803805B2 レジストパターン形成方法有权
公开(公告)号：JP5803805B2
公开(公告)日：2015-11-04
申请号：JP2012115092
申请日：2012-05-18
申请人： JSR株式会社
发明人：榊原宏和 , 宮田拡 , 伊藤亘史 , 古川泰一
IPC分类号： G03F7/004 , H01L21/027 , C08F220/10 , G03F7/32 , G03F7/039

9. 发明专利

JP6959538B2 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法有权
公开(公告)号：JP6959538B2
公开(公告)日：2021-11-02
申请号：JP2018527602
申请日：2017-07-10
申请人： JSR株式会社
发明人：白谷宗大 , 宮田拡 , 成岡岳彦
IPC分类号： G03F7/038 , G03F7/20 , C08F220/10 , C08F212/08 , G03F7/039

10. 发明专利

JP6255906B2 感放射線性樹脂組成物及びネガ型レジストパターン形成方法有权
公开(公告)号：JP6255906B2
公开(公告)日：2018-01-10
申请号：JP2013227511
申请日：2013-10-31
申请人： JSR株式会社
发明人：宮田拡 , 高梨和憲 , 庵野祐亮
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/038

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