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    • 3. 发明专利
    • Mikroelektronische Baugruppe
    • DE112010004254B4
    • 2021-04-29
    • DE112010004254
    • 2010-09-20
    • INTEL CORP
    • GUZEK JOHN SSURVAKUMAR MAHADEVANAZIMI HAMID R
    • H01L23/12H01L23/48H01L23/485
    • Mikroelektronische Baugruppe (100), umfassend:ein erstes Substrat (120) mit einem ersten Flächenbereich (125) und einer ersten Vielzahl von elektrisch leitfähigen Leiterzügen (152), die jeweils voneinander durch einen ersten Abstand (153) getrennt sind und jeweils eine Dicke von nicht mehr als 15 Mikrometern aufweisen und wobei der erste Abstand (153) nicht größer als 15 Mikrometer ist, wobei das erste Substrat (120) an einer ersten Fläche (121) einen ersten Satz von Zwischenverbindungen (226) mit einer ersten Beabstandung (227) und an einer zweiten Fläche (222) einen zweiten Satz von Zwischenverbindungen (228) mit einer zweiten Beabstandung (229) umfasst; undein zweites Substrat (130) mit einem zweiten Flächenbereich (135) und einer zweiten Vielzahl elektrisch leitfähiger Leiterzüge (162) wobei jeder Leiterzug der zweiten Vielzahl von elektrisch leitfähigen Leiterzügen (162) jeweils eine Dicke von nicht mehr als 75 Mikrometer aufweist und jeweils voneinander durch einen zweiten Abstand (163) getrennt sind, wobei der zweite Abstand (163) nicht größer als 75 Mikrometer ist,wobei das zweite Substrat (130) unter Verwendung des zweiten Satzes von Zwischenverbindungen (228) mit dem ersten Substrat (120) gekoppelt ist undeinen dritten Satz von Zwischenverbindungen (236) mit einer dritten Beabstandung (237); undeine erste und eine zweite innere elektrisch leitfähige Schicht (233, 234), die miteinander durch ein Mikrovia (240) verbunden sind, umfasst, wobei die erste Beabstandung (227) kleiner als diezweite Beabstandung (229) ist;die zweite Beabstandung (229) kleiner als die dritte Beabstandung (237) ist; undder erste Flächenbereich (125) kleiner als der zweite Flächenbereich (135)ist.