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1. 发明专利

JP2011199279A Method for multibeam exposure on target 审中-公开
标题翻译：目标多孔接触方法
公开(公告)号：JP2011199279A
公开(公告)日：2011-10-06
申请号：JP2011045349
申请日：2011-03-02
申请人： Ims Nanofabrication Ag , アイエムエスナノファブリケーションアーゲー
发明人： PLATZGUMMER ELMAR
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： B82Y40/00 , B82Y10/00 , H01J37/3177
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electron beam lithographic method containing a plurality of beamlets which improves dose the accuracy, in an adjacent stripe boundary region where exposure is done in an overlapping manner.SOLUTION: Since stripes (s1, s2) which are rows of image pixels consisting of exposure stripes have edges (m12, m21) mutually superimposed and overlapped in the boundaries to the adjacent stripe, the position of image pixel of nominally overlapped edge (m12) overlaps or essentially coincides with the image pixel of the corresponding overlapped edge (m21). During the exposures of the overlapped edges (m21), the first subset (n) of the image pixel of overlapped edge is exposed, while that of the second subset (n), which is a complementary subset to the desired pattern, is not exposed; and in contrast, during the exposures of the corresponding overlapped edge (m12), the image pixel corresponding to image pixel of the first subset is not exposed, while the image pixel corresponding to the image pixel of the second subset is exposed.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种包含多个子束的电子束光刻方法，其在以重叠的方式进行曝光的相邻条纹边界区域中提高剂量的准确度。解决方案：由于条纹（s1，s2）是行由曝光条纹构成的图像像素具有在相邻条纹的边界中相互叠加并重叠的边缘（m12，m21），标称重叠边缘（m12）的图像像素的位置与相应重叠的边缘（m12）的图像像素重叠或基本上重合边（m21）。在重叠边缘（m21）的曝光期间，重叠边缘的图像像素的第一子集（n）被曝光，而作为期望图案的互补子集的第二子集（n）的第一子集（n）不被暴露 ; 相反，在对应的重叠边缘（m12）的曝光期间，对应于第一子集的图像像素的图像像素不被曝光，而与第二子集的图像像素对应的图像像素被曝光。

2. 发明专利

JP2008252095A Method for maskless particle beam exposure 有权
标题翻译：无障碍颗粒光束曝光方法
公开(公告)号：JP2008252095A
公开(公告)日：2008-10-16
申请号：JP2008078357
申请日：2008-03-25
申请人： Ims Nanofabrication Ag , イーエムエスナノファブリカツィオンアーゲー
发明人： FRAGNER HEINRICH , PLATZGUMMER ELMAR
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： H01J37/3174 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/302 , H01J2237/30483
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for achieving a high throughput rate by using an easily implementable PD structure. SOLUTION: The method for forming an aperture image includes the steps of radiating charged particle beam, without using a mask onto a target (40) by a pattern determination means, having a plurality of apertures, and forming an aperture image of the patter determination means on a target (v) that moves relatively, in a direction lateral to a predetermined axis. In the method, the image position is moved along the target during the pixel exposure period, wherein the relative moving distance of the target is more than a multiple of the image width (w) to be measured on the target, after the pixel exposure period, the beam image position is changed, and this position change results in substantially compensating the move of the beam image position. COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供一种通过使用易于实施的PD结构来实现高吞吐量的方法。解决方案：用于形成孔径图像的方法包括以下步骤：不用通过具有多个孔的图案确定装置在目标（40）上使用掩模来放射带电粒子束，并且形成孔径图像图案确定装置在相对于沿预定轴线的方向相对移动的目标（v）上。在该方法中，在像素曝光期间，图像位置沿着目标移动，其中，在像素曝光期间，目标的相对移动距离大于要在目标上测量的图像宽度（w）的倍数，光束图像位置被改变，并且该位置变化导致基本上补偿光束图像位置的移动。版权所有（C）2009，JPO＆INPIT

3. 发明专利

JP2015023286A 複数のブランキングアレイを有するパターン画定装置审中-公开
标题翻译：具有多个空白区域的图案定义装置
公开(公告)号：JP2015023286A
公开(公告)日：2015-02-02
申请号：JP2014142308
申请日：2014-07-10
申请人：アイエムエスナノファブリケーションアーゲー , Ims Nanofabrication Ag , アイエムエスナノファブリケーションアーゲー
发明人： PLATZGUMMER ELMAR
IPC分类号： H01L21/027 , H01J37/305
CPC分类号： H01J37/045 , H01J37/147 , H01J37/3177 , H01J2237/0435 , H01J2237/0437
摘要：【課題】1台の偏向アレイ装置内で処理されるデータ量を高めることなく、プログラム可能ビームの数を高める荷電粒子マルチビーム装置を提供する。【解決手段】パターン画定(PD)装置500が、スタックした配置の少なくとも2台の偏向アレイ装置512、522を含み、粒子ビームlbが、偏向されるかまたはブランキングされる。各偏向アレイ装置512、522が、複数のブランキング開口部513、523、および複数の偏向装置であって、各々が、それぞれのブランキング開口部513、523と関連していてかつ少なくとも1本の静電電極510、511、520、521を備える。偏向装置は、選択的に活性化可能であり、ビームレットのそれぞれのサブセットA、Bに対応し、選択的に偏向させてそれぞれのサブセットA、Bに属するビームレットだけに働き、一方、残りのビームレットB、Aは偏向しない。【選択図】図11D
摘要翻译：要解决的问题：提供一种增加可编程光束数量的带电粒子多光束装置，而不增加在一个偏转阵列装置内要处理的数据量。解码：图案定义（PD）装置500包括至少两个偏转定位在堆叠布置中的阵列器件512,522和粒子束Ib被偏转或消隐。偏转阵列装置512,522中的每一个包括多个消隐开口513,523和多个偏转装置，每个偏转装置与相应的消隐开口513,523相关联并且包括至少一个静电电极510,511,520 偏转装置可选择性地激活，对应于子束的相应子集A，B，并且仅通过选择性地使它们偏转而作用于属于相应子集A，B的子束，同时允许其他子束B，A不偏转。

4. 发明专利

JP2010267962A Multi-beam deflector array means with bonded electrodes 有权
标题翻译：多光束偏转器阵列与粘结电极相同
公开(公告)号：JP2010267962A
公开(公告)日：2010-11-25
申请号：JP2010107571
申请日：2010-05-07
申请人： Ims Nanofabrication Ag , アイエムエスナノファブリケーションアーゲー
发明人： PLATZGUMMER ELMAR
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , H01J37/147 , H01J37/305
CPC分类号： H01J37/3174 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/045 , H01J2237/0437
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a multi-beam deflector array means for a particle beam exposure apparatus using a beam of charged particles.
SOLUTION: The multi-beam deflector array means has an overall plate-like shape with a membrane region and a buried CMOS layer, the membrane region includes a first side facing an incoming particle beam and a second side opposite to the first side, and the array means includes an aperture array comprising each aperture allowing passage of a corresponding beam element formed out of the particle beam and an electrode array comprising each aperture associated with at least one of electrodes and the electrodes controlled through the CMOS layer. The electrodes are columnar and erected completely independent of the body of the multi-beam deflector array means, and the electrodes are connected to one side of the body of the multi-beam deflector array means by a bonding connection part.
COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于使用带电粒子束的粒子束曝光装置的多光束偏转器阵列装置。解决方案：多光束偏转器阵列装置具有膜状区域和掩埋CMOS层的总体板状形状，膜区域包括面向入射粒子束的第一侧和与第一侧相对的第二侧并且阵列装置包括孔阵列，其包括允许通过由粒子束形成的对应的光束元件的每个孔，以及包括与至少一个电极相关联的每个孔和通过CMOS层控制的电极的电极阵列。电极是柱状的并且完全独立于多光束偏转器阵列装置的主体，并且电极通过接合连接部分连接到多光束偏转器阵列装置的主体的一侧。版权所有（C）2011，JPO＆INPIT

5. 发明专利

JP2010123966A Constant current multibeam patterning 有权
标题翻译：恒定电流多模式
公开(公告)号：JP2010123966A
公开(公告)日：2010-06-03
申请号：JP2009262585
申请日：2009-11-18
申请人： Ims Nanofabrication Ag , アイエムエスナノファブリケーションアーゲー
发明人： FRAGNER HEINRICH , PLATZGUMMER ELMAR , BUERLI ADRIAN
IPC分类号： H01L21/027 , H01J37/305
CPC分类号： H01J37/3177 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , Y10S430/143
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To allow appropriate light-exposure of an image to be patterned onto a target. SOLUTION: The invention relates to a method for forming a pattern on a surface of a substrate as the target by utilizing beams of charged particles in a plurality of exposure steps. The beam is split into patterned beams and relative movement is generated between the substrate and a pattern defining means. As a result, the patterned particle beams effectively move from one end to the other end over the entire surface of the substrate to expose image elements on the substrate surface in each exposing step. The image elements on the target are exposed to beamlets a plurality of times, namely several times during the plurality of exposure steps in accordance with a specific sequence. During exposing the pattern, the sequence of image element exposure steps is arranged non-linearly according to a specific rule from one exposure step to the subsequent exposure step in order to reduce the current variation in the optical column of the multibeam exposure apparatus. COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：允许将图像适当地曝光到目标上。解决方案：本发明涉及通过利用多个曝光步骤中的带电粒子束在作为靶的基板的表面上形成图案的方法。光束被分裂为图案化的光束，并且在衬底和图案限定装置之间产生相对运动。结果，图案化的粒子束在衬底的整个表面上有效地从一端移动到另一端，以在每个暴露步骤中露出衬底表面上的图像元素。目标上的图像元素多次暴露于子束，即根据特定序列在多个曝光步骤期间多次。在曝光图案期间，根据从一个曝光步骤到随后的曝光步骤的特定规则，图像元素曝光步骤的顺序被非线性排列，以便减少多光束曝光设备的光学柱中的电流变化。版权所有（C）2010，JPO＆INPIT

6. 发明专利

JP2010041055A Correction of irradiation nonuniformity and image distortion 审中-公开
标题翻译：辐射非均匀性和图像失真的校正
公开(公告)号：JP2010041055A
公开(公告)日：2010-02-18
申请号：JP2009181392
申请日：2009-08-04
申请人： Ims Nanofabrication Ag , アイエムエスナノファブリケーションエージー
发明人： PLATZGUMMER ELMAR , FRAGNER HEINRICH , CERNUSCA STEFAN
IPC分类号： H01L21/027 , H01J37/305
CPC分类号： B82Y40/00 , B82Y10/00 , G03F1/20 , G03F7/70433 , H01J37/3174
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an improved aperture arrangement in a particle beam exposure device, the aperture arrangement being irradiated with a charged particle beam and allowing the beam to pass only through multiple apertures to form a pattern on a target. SOLUTION: The exposure device has: an aperture array with multiple apertures of a same shape which define shapes and relative arrangement of beamls passing through the apertures; and a blanking means for switching off the travel of beamlets that have passed through the apertures to be defined and selected by them. The apertures are arranged on an aperture arraying means in accordance with an arrangement shifted from the regular arrangement by slight deviations, thereby correcting distortion caused by the particle beam exposure device, wherein aperture sizes of the aperture array differ all over the aperture array in order to correct currents radiated on the target thorough the apertures and corresponding openings. COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：为了在粒子束曝光装置中提供改进的孔布置，孔布置被带电粒子束照射并且允许光束仅通过多个孔以在靶上形成图案。曝光装置具有：具有相同形状的多个孔的孔径阵列，其限定穿过孔的光束的形状和相对布置; 以及用于切断通过要由其限定和选择的孔的小射束的行程的消隐装置。根据从正规布置偏移的布置稍微偏离的孔布置在孔阵列装置上，从而校正由粒子束曝光装置引起的变形，其中孔径阵列的孔径尺寸在孔阵列上不同，以便通过孔和对应的开口正确地辐射在目标上的电流。版权所有（C）2010，JPO＆INPIT

7. 发明专利

JP2015056668A 補正プレートを有する荷電粒子多重ビーム装置审中-公开
标题翻译：具有校正板的充电颗粒多光束装置
公开(公告)号：JP2015056668A
公开(公告)日：2015-03-23
申请号：JP2014183985
申请日：2014-09-10
申请人：アイエムエスナノファブリケーションアーゲー , Ims Nanofabrication Ag , アイエムエスナノファブリケーションアーゲー
发明人： PLATZGUMMER ELMAR
IPC分类号： H01L21/027 , H01J37/305
CPC分类号： H01J37/3177 , H01J37/045 , H01J37/1472 , H01J2237/0435 , H01J2237/1501 , H01J2237/30455
摘要：【課題】荷電粒子多重ビーム処理又は検査装置用パターン画定デバイス(7)の提供。【解決手段】本デバイス(7)は、ビームレットをブランキングさせる開口アレイフィールドを有する偏向アレイデバイス(52)を備える。偏向アレイデバイスは、各開口部(520)に対応し、作動時に、開口部を通過するビームレットを公称経路から偏向させる静電電極(522、523、502)を有する偏向デバイス(521、501)を備える。一以上の偏向デバイス(501)に欠陥がありビームレット(b’)を偏向できない。非偏向ビームレット(b’)を補正するため、本デバイス(7)は、機能している偏向デバイス(521)からビームレットを通過させる開口部(70)と、偏向ビームレット(b’)の公称経路に沿ったデバイス(7)の下流への伝播を防止する妨害デバイス(71、74)とを有するフィルタリングデバイス(53)を備える。【選択図】図6B
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于带电粒子多光束处理或检查装置的图案定义装置（7）。解决方案：图案定义装置（7）包括具有孔径阵列场的偏转阵列装置（52）消隐子束。偏转阵列装置包括偏转装置（521和501），每个偏转装置分别与相应的开口520相关联，并且包括静电电极522,523和502，用于当被激活时偏转来自它们的标称路径的开口的子束。如果一个或多个偏转装置（501）有缺陷，则小梁（b'）不能被偏转。为了校正非偏转小梁（b'），图案定义装置（7）包括过滤装置（53），其具有允许来自操作偏转装置（521）和阻塞装置（52）的子束通过的开口（70） 71和74），用于防止未偏转的子束（b'）沿其标称路径传播到图案定义装置（7）的下游。

8. 发明专利

JP2008235266A Multi-beam deflector array device for maskless particle beam processing 有权
标题翻译：用于无障碍颗粒光束处理的多光束偏转器阵列装置
公开(公告)号：JP2008235266A
公开(公告)日：2008-10-02
申请号：JP2008046062
申请日：2008-02-27
申请人： Ims Nanofabrication Ag , Inst Fuer Mikroelektronik Stuttgart , アイエムエスナノファブリカツィオンアーゲー , インスティテゥートフューアミクロエレクトロニックシュトュットガルト
发明人： PLATZGUMMER ELMAR , LOSCHNER HANS , KVASNICA SAMUEL , SPRINGER REINHARD , IRMSCHER MATHIAS , LETZKUS FLORIAN , BUTSCHKE JOERG
IPC分类号： H01J37/147 , H01J37/305 , H01L21/027
CPC分类号： G03F1/20 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/045 , H01J37/3174 , H01J37/3177 , H01J2237/0437
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To improve the layout of a pattern definition device in a particle-beam exposure apparatus to become a layout which lends itself to a production by inexpensive state-of-the-art processes. SOLUTION: In a multi-beam deflector array device for use in a particle-beam exposure apparatus employing a beam lb of charged particles, the multi-beam deflector array device having a plate-like shape with a membrane region, the membrane region includes a first side 504 facing towards the incoming beam of particles, an array of apertures, each aperture allowing passage of a corresponding beamlet formed out of the beam of particles, a plurality of depressions 512, each depression being associated with at least one aperture, and an array of electrodes 511, each aperture being associated with at least one electrode 511 and each electrode 511 being located in a depression 512, the electrodes being configured to realize a non-deflecting state, wherein the particles that pass through the apertures are allowed to travel along a desired path, and a deflecting state, wherein the particles are deflected off the desired path. COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：为了改善粒子束曝光装置中的图案定义装置的布局，以便成为通过廉价的最先进的工艺来生产的布局。解决方案：在用于使用一束带电粒子的粒子束曝光装置的多光束偏转器阵列装置中，多束偏转器阵列装置具有带有膜区域的板状形状，膜区域包括面向入射入射束的第一侧504，孔阵列，每个孔允许通过由颗粒束形成的相应小梁，多个凹陷512，每个凹陷与至少一个孔和电极阵列511，每个孔与至少一个电极511相关联，每个电极511位于凹陷512中，电极构造成实现非偏转状态，其中穿过孔的颗粒是允许沿期望的路径行进，并且偏转状态，其中颗粒偏离期望的路径。版权所有（C）2009，JPO＆INPIT

9. 发明专利

JP2008159584A Particle-beam apparatus with improved wien-type filter 有权
标题翻译：具有改进的WIEN型过滤器的颗粒光束装置
公开(公告)号：JP2008159584A
公开(公告)日：2008-07-10
申请号：JP2007320692
申请日：2007-12-12
申请人： Ims Nanofabrication Ag , アイエムエスナノファブリケーションエイジー
发明人： PLATZGUMMER ELMAR
IPC分类号： H01J37/05 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/05 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/3174 , H01J2237/0435 , H01J2237/057
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To improve a particle filter apparatus to specifically select the desired particle species (the "nominal species") with reduced overall complexity and improved life time of each beam absorbing element.
SOLUTION: A pattern is projected onto a target through a projection system by a beam of highly energetic charged particles of largely a species of a nominal mass having a nominal kinetic energy. To generate the beam, a particle source 11, a velocity-dependent deflector 32 and an illumination optical system are provided. The velocity-dependent deflecting means 32 comprises a transversal dipole electrical field and/or a transversal dipole magnetic field acting on the particles to cause the deviation of a particle path with respect to the path of the nominal species which is dependent on the velocity of the particles.
COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：为了改进颗粒过滤装置以特别选择期望的颗粒物种（“标称物种”），降低总体复杂性并改善每个光束吸收元件的使用寿命。解决方案：通过投影系统将图案投射到目标物上，该束通过大量具有标称质量的具有标称动能的物质的高能带电粒子束。为了产生光束，提供了粒子源11，与速度相关的偏转器32和照明光学系统。速度依赖偏转装置32包括横向偶极电场和/或作用在颗粒上的横向偶极子磁场，以引起相对于标称物质的路径的粒子路径的偏离，这取决于速度粒子。版权所有（C）2008，JPO＆INPIT

10. 发明专利

JP2015029096A 荷電粒子マルチビーム露光のための方法有权
标题翻译：充电颗粒多波束曝光方法
公开(公告)号：JP2015029096A
公开(公告)日：2015-02-12
申请号：JP2014150242
申请日：2014-07-23
申请人：アイエムエスナノファブリケーションアーゲー , Ims Nanofabrication Ag , アイエムエスナノファブリケーションアーゲー
发明人： PLATZGUMMER ELMAR
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , H01J37/305
CPC分类号： H01J37/3026 , H01J37/3175 , H01J37/3177 , H01J2237/31754 , H01J2237/31764 , H01J2237/31766 , H01J2237/31774
摘要：【課題】画素のアドレッシングの改良、トロッティングモード書込みストラテジの改良、さらには、光学結像誤差の影響を減少させるストラテジ技術を提供する。【解決手段】パターン像は、露光される領域にわたってターゲット上の経路に沿って移動され、この移動は、いくかのストライプs11、s21を定義し、ストライプs11、s21は、領域を順次露光でカバーし、主方向を横切って測定されるそれぞれの幅を有する。いくつかのストライプs11、s21が、少なくとも2つの連続するパスで書き込まれ、したがって、各パスに関して、1つのパスのストライプの幅が組み合わさって、露光される領域の全幅をカバーする。各パスは、それぞれのパス中に露光可能なパターン画素のいくつかの部分グリッドG1、G2の1つに関連付けられる。互いに異なる部分グリッドG1、G2が、露光される領域を構成する複数のパターン画素全体に組み合わさる。【選択図】図6C
摘要翻译：要解决的问题：提供改进像素寻址的策略技术，改进小跑模式写入的策略，减少光学成像误差的影响。解决方案：沿着要暴露的区域的目标上的路径移动图案图像，并且这个运动定义了多个条纹s11，s21。条纹s11，s21以顺序曝光覆盖区域，并且在主方向上测量各自的宽度。多个条纹s11，s21被写入至少两个后续通行证; 并且在每次通过中，一次通过的条纹的宽度被组合以覆盖要暴露的区域的整个宽度; 并且每个通道与在通过期间可曝光的图案像素的多个局部网格G1，G2中的一个相关联。相互不同的部分网格G1，G2在构成要曝光的区域的多个图案像素的全部中组合。

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