会员体验
专利管家(专利管理)
工作空间(专利管理)
风险监控(情报监控)
数据分析(专利分析)
侵权分析(诉讼无效)
联系我们
交流群
官方交流:
QQ群: 891211   
微信请扫码    >>>
现在联系顾问~
热词
    • 6. 发明专利
    • Micromatrices de planos múltiples
    • ES2861350T3
    • 2021-10-06
    • ES17776477
    • 2017-03-28
    • ILLUMINA INC
    • BOWEN M SHANEGRAIGE MICHAELHONG STANLEY SMOON JOHN ASIU MEREK
    • B01L3/00B01J19/00C12Q1/6837C12Q1/6844C12Q1/6874
    • Un sistema que comprende: una matriz que comprende un soporte sólido que tiene una superficie exterior que comprende un primer conjunto de pocillos intercalados con un segundo conjunto de pocillos, el primer conjunto de pocillos comprende un patrón de repetición de pocillos y el segundo conjunto de pocillos comprende un patrón de repetición de pocillos; en donde el primer conjunto de pocillos se yuxtapone al segundo conjunto de pocillos, teniendo cada pocillo del primer conjunto un primer fondo a una primera elevación, z1, con respecto al soporte sólido, teniendo cada pocillo del segundo conjunto un segundo fondo a una segunda elevación, z2, con respecto al soporte sólido; en donde la altura de la primera elevación, z1, y la segunda elevación, z2, a lo largo del eje z es diferente; y en donde cada pocillo del primer conjunto de pocillos y el segundo conjunto de pocillos comprende puntos de anclaje para anclar analitos mediante unión directa o indirecta al soporte sólido, por medio de lo cual los primeros pocillos están configurados para anclar analitos a una elevación diferente con respecto a los analitos anclados al segundo conjunto de pocillos; el sistema está caracterizado porque un paso entre un pocillo del primer conjunto de pocillos y cada pocillo vecino del segundo conjunto de pocillos en la matriz es menor de 500 nm y porque el sistema comprende adicionalmente una guía de ondas acoplada ópticamente de forma selectiva al primer conjunto de pocillos y no acoplada ópticamente al segundo conjunto de pocillos.