会员体验
专利管家(专利管理)
工作空间(专利管理)
风险监控(情报监控)
数据分析(专利分析)
侵权分析(诉讼无效)
联系我们
交流群
官方交流:
QQ群: 891211   
微信请扫码    >>>
现在联系顾问~
热词
    • 3. 发明授权
    • X-ray image processing system and method thereof
    • X射线图像处理系统及其方法
    • US07995812B2
    • 2011-08-09
    • US11574409
    • 2006-08-30
    • Hiroshi Ohtsuka
    • Hiroshi Ohtsuka
    • G06K9/00G01N23/06
    • G06T5/003A61B6/505G06T5/009G06T7/0012G06T2207/10116G06T2207/30008
    • System is provided for having more instinct image of an orthopedics disease and an oral surgery disease by applying a series of image processing on a X-ray image and diagnosing more exactly an orthopedics disease and an oral surgery disease. This system comprising means for capturing simple X-ray image in a computer, applying a contrast process on X-ray image taken in a computer, applying an embossing (raising) process on X-ray image which a contrast process was made or not made on, applying a light irradiation process in the embossed (raising) X-ray image, storing and controlling its data and X-rays image provided by a series of image processing, printing X-rays image provided by a series of processes on the monitor or on the paper.
    • 通过在X射线图像上应用一系列图像处理并更精确地诊断整形外科疾病和口腔外科疾病,提供了用于具有矫形外科疾病和口腔外科疾病的更直观的图像的系统。 该系统包括用于在计算机中捕获简单X射线图像的装置,对计算机中拍摄的X射线图像应用对比度处理,对进行对比度处理的X射线图像应用压花(提升)处理 在浮雕(升高)X射线图像中施加光照射处理,存储和控制其数据和通过一系列图像处理提供的X射线图像,在监视器上打印由一系列处理提供的X射线图像 或在纸上。
    • 7. 发明授权
    • Phase shifting mask
    • 相移掩模
    • US5342713A
    • 1994-08-30
    • US949824
    • 1992-12-18
    • Hiroshi OhtsukaKazutoshi AbeTakashi Taguchi
    • Hiroshi OhtsukaKazutoshi AbeTakashi Taguchi
    • G03F1/00G03F9/00
    • G03F1/30
    • The present invention relates to a phase shifting mask for use in a photolithographic process of forming a wiring pattern. The phase shifting mask comprises a transparent base plate (11), shading layers (12) formed selectively on the transparent base plate (11), and two kinds of phase shifting layers (13a, 13b) formed on transparent portions of the transparent base plate between the adjacent shading layers, respectively. The phase difference of the two kinds of phase shifting layers (13a, 13b) relative to the transparent base plate (11) is 90.degree., and the phase difference between the phase shifting layers is 180.degree.. The transfer of an unnecessary pattern in the shifter edge portion can be obviated by using the shading layers having a phase difference of 90.degree. relative to the transparent base plate.
    • PCT No.PCT / JP91 / 00817 Sec。 371日期1992年12月18日 102(e)日期1992年12月18日PCT Filed 1991年6月19日PCT Pub。 WO91 / 20018 PCT出版物 日期1991年12月26日。本发明涉及用于形成布线图案的光刻工艺中的相移掩模。 相移掩模包括透明基板(11),选择性地形成在透明基板(11)上的遮光层(12)和形成在透明基板的透明部分上的两种相移层(13a,13b) 在相邻的遮光层之间。 两种相移层(13a,13b)相对于透明基板(11)的相位差为90°,相移层之间的相位差为180°。 可以通过使用相对于透明基板的相位差为90°的遮光层来消除移位器边缘部分中不需要的图案的转印。