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1. 发明申请

WO2013149831A1 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG SYNTHETISCHER QUARZGLASKÖRNUNG 审中-公开
标题翻译：方法生产合成石英玻璃砂
公开(公告)号：WO2013149831A1
公开(公告)日：2013-10-10
申请号：PCT/EP2013/055772
申请日：2013-03-20
申请人： HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG , SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD.
发明人： LEHMANN, Walter , KAYSER, Thomas
IPC分类号： C03B19/10 , C03B20/00 , C03B19/09
CPC分类号： C03B20/00 , C03B19/095 , C03B19/1005 , C03B19/107 , C03B19/1095 , C03B2201/02 , C03B2201/03 , C03C23/0075
摘要： Die Herstellung von Quarzglaskörnung umfasst die Granulation pyrogen hergestellter Kieselsäure und Bildung eines SiO 2 -Granulats (9), Trocknen und Reinigen des SiO 2 -Granulats (9) durch Erhitzen in einer halogenhaltigen Atmosphäre, und Verglasen des SiO 2 -Granulats (9) unter einem Behandlungsgas, das mindestens 30 Vol.-% Helium und/oder Wasserstoff enthält. Dieser Prozess ist zeit- und kostenaufwändig. Um ein Verfahren anzugeben, das ausgehend von porösem SiO 2 -Granulats (9) eine preisgünstige Herstellung dichter, synthetischer Quarzglaskörnung ermöglicht, die zum Einschmelzen blasenfreier Bauteile aus Quarzglas geeignet ist, wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, dass das Reinigen und Verglasen des SiO 2 -Granulats (9) sowie eine Nachbehandlung der verglasten Quarzglaskörnung jeweils in einem um eine Mittelachse (7) rotierenden Drehrohr (6) eines Drehrohrofens (1) erfolgen, wobei das Drehrohr (6) beim Verglasen eine Innenwandung aus einem keramischen Werkstoff aufweist, und wobei die verglaste Quarzglaskörnung einer Nachbehandlung in einer Atmosphäre, die weniger als 20 % Helium oder Wasserstoff enthält bei einer Behandlungstemperatur von 300 °C oder mehr und während einer Behandlungsdauer von mindestens 10 Minuten unterzogen wird.
摘要翻译：石英玻璃造粒的处理气体下的制剂，其包含在造粒热解制备的硅酸和形成的SiO 2颗粒（9），干燥并在含卤素的气氛中通过加热纯化二氧化硅颗粒（9），和玻璃化的二氧化硅颗粒（9）的，含有至少30体积百分比的氦和/或氢的％。这个过程是费时又费钱。为了提供一种方法，其允许，从多孔的SiO 2颗粒（9）的低成本生产致密，合成二氧化硅颗粒的适合于熔化石英玻璃的无气泡的部件开始，它是根据本发明提出，在SiO 2颗粒的清洗和玻璃化（9）和玻璃化二氧化硅颗粒的后处理在一个绕中心轴转动（7）每个旋转管（6）的旋转窑（1）的发生，其中，所述旋转管（6）具有玻璃化过程中由陶瓷材料制成的内壁，并且其中所述玻璃化二氧化硅颗粒到后处理进行其中包含少于20％氦和氢在300℃以上的处理温度，并在至少10分钟的治疗期间的气氛。

2. 发明申请

WO2011101327A1 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES QUARZGLASTIEGELS 审中-公开
标题翻译：用于生产石英玻璃坩埚
公开(公告)号：WO2011101327A1
公开(公告)日：2011-08-25
申请号：PCT/EP2011/052177
申请日：2011-02-15
申请人： HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG , LEHMANN, Walter , KAYSER, Thomas , HUENERMANN, Michael , NASAROW, Christian
发明人： LEHMANN, Walter , KAYSER, Thomas , HUENERMANN, Michael , NASAROW, Christian
IPC分类号： C03B19/09 , C03B19/06
CPC分类号： C03B19/095 , C03B19/066
摘要： Es wird ausgegangen von einem bekannten Verfahren für die Herstellung eines Quarzglastiegels zum Ziehen eines Einkristalls, indem in einer Schmelzform eine Körnungsschicht ausgeformt und diese unter Bildung des Quarzglastiegels gesintert oder geschmolzen wird. Um eine kostengünstige Herstellung von Quarzglas für einen Quarzglastiegel anzugeben, das sich durch hohe Reinheit auszeichnet und das sowohl die die reproduzierbare Einstellung von Blasenfreiheit als auch einer definierten und homogenen Feinporosität ermöglicht, wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, dass mindestens ein Teil der Körnungsschicht aus einem Kieselglasgranulat erzeugt wird, dessen Herstellung folgende Verfahrensschritte umfasst: mechanisches Verdichten von Kieselsäurepulver mittels eines Walzenbrikettierverfahrens unter Bildung von Formpresslingen mit im Wesentlichen einheitlicher, sphäroidischer Morphologie, und thermisches Verdichten der Formpresslinge oder von Fragmenten derselben zu dem Kieselglasgranulat.
摘要翻译：它是由公知的方法生产用于通过在熔融成型形成层晶粒单晶提拉的石英玻璃坩埚的理解，而这是烧结或熔化，以形成石英玻璃坩埚。要指定具有成本效益的生产的石英玻璃坩埚，其特征是高纯度的石英玻璃构成，既为膀胱自由的可再现的设置以及定义的和均匀的细孔隙率，本发明提出，至少所述谷物层的一部分是从二氧化硅玻璃颗粒产生其制备方法包括以下步骤：通过具有成形粒料基本上均匀的球体形态，并热压缩形式压块或其片段的二氧化硅玻璃颗粒一个Walzenbrikettierverfahrens形式的手段二氧化硅粉末的机械压缩。

3. 发明申请

WO2014048791A1 ZIEHEN EINES HALBLEITER-EINKRISTALLS NACH DEM CZOCHRALSKI-VERFAHREN UND DAFÜR GEEIGNETER QUARZGLASTIEGEL 审中-公开
标题翻译：的半导体单晶后拉直拉工艺并确保获得适当QUARZGLAS坩埚
公开(公告)号：WO2014048791A1
公开(公告)日：2014-04-03
申请号：PCT/EP2013/069234
申请日：2013-09-17
申请人： HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG , SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD.
发明人： HÜNERMANN, Michael , KAYSER, Thomas , LEHMANN, Walter
IPC分类号： C30B15/10 , C30B30/06
CPC分类号： C30B15/10 , C30B29/06 , Y10T117/1032
摘要： Bei einem bekannten Verfahren zum Ziehen eines Halbleiter-Einkristalls nach dem Czochralski-Verfahren wird eine Halbleiter-Schmelze in einem Quarzglas-Tiegel erzeugt und daraus der Halbleiter-Einkristall gezogen. Die Innenwandung des Quarzglas-Tiegels und die freie Schmelzoberfläche stehen dabei im Bereich einer radial an der Tiegel-Innenwandung umlaufenden Kontaktzone miteinander und jeweils mit einer Schmelzatmosphäre in Kontakt, wobei von der Kontaktzone ausgehende Primärschwingungen der Schmelze ausgelöst werden. Um hiervon ausgehend ein Verfahren anzugeben, das sich durch verminderte Schmelzvibrationen und insbesondere durch einen einfachen und kurzen Ansetzprozess auszeichnet, wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, dass Primärschwingungen ausgelöst werden, die sich in ihrer Frequenz voneinander unterscheiden.
摘要翻译：在通过切克劳斯基法提拉的半导体单晶的已知方法，半导体熔体中的石英玻璃坩埚制造和拉动其半导体单晶。石英玻璃坩埚与所述自由熔体表面的内壁是在径向环绕上彼此坩埚内壁接触区域和每个具有接触熔融气氛中，从熔融的初级振动的接触区域延伸被升高的范围内。为了此基础上提供，其特征在于降低的方法通过简单且短Ansetzprozess熔融振动，特别是，本发明提出的是，主振动被触发，这在频率彼此不同。

4. 发明申请

WO2011147860A1 QUARZGLASTIEGEL UND VERFAHREN FÜR DESSEN HERSTELLUNG 审中-公开
标题翻译：石英玻璃坩埚和方法生产同样
公开(公告)号：WO2011147860A1
公开(公告)日：2011-12-01
申请号：PCT/EP2011/058530
申请日：2011-05-25
申请人： HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG , LEHMANN, Walter , KAYSER, Thomas
发明人： LEHMANN, Walter , KAYSER, Thomas
IPC分类号： C03B19/09 , C30B15/10
CPC分类号： C03B19/095 , C30B11/002 , C30B15/10 , C30B35/002
摘要： Bei einem bekannten Verfahren zur Herstellung eines Quarzglastiegels wird eine Vakuum-Schmelzform bereitgestellt, an deren Innenseite eine tiegeiförmige Körnungsschicht aus SiO 2 -Körnung ausgeformt wird, die einen Bodenbereich und einen Seitenwandbereich hat. Auf mindestens einem Teil der porösen Körnungsschicht wird eine Hautschicht aus blasenarmem Quarzglas ausgebildet. Durch Anlegen eines Unterdrucks werden gasförmige Komponenten mindestens aus einem Teil der an die Hautschicht angrenzenden Körnungsschicht entfernt, und die Körnungsschicht wird unter Bildung des Quarzglastiegels mit einer Tiegelhöhe H verglast. Um hiervon ausgehend einen Quarzglastiegel herzustellen, der den Ansetzprozess erleichtert und bei dem die Gefahr des Eintrags von Verunreinigungen in die Siliziumschmelze gering ist, wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, dass in einem oberen Bereich der Körnungsschicht, der sich an den unteren Bereich anschließend bis zur vollen Höhe H erstreckt, beim Verglasen unterhalb der Hautschicht und an diese angrenzend eine Blasenzone erzeugt wird, die gasgefüllte Blasen mit einem spezifischen Blasenvolumen enthält, das mindestens doppelt so groß ist wie das spezifische Volumen gasgefüllter Blasen im blasenarmen Quarzglas, indem der Unterdruck nur oder überwiegend in einem unteren Bereich der Körnungsschicht angelegt wird, der sich vom Bodenbereich bis maximal dem 0,8-fachen der Tiegelhöhe H erstreckt.
摘要翻译：在用于制造石英玻璃坩埚中的公知的方法，在真空熔融形式被设置在其内部的SiO 2tiegeiförmige颗粒砂砾的层被形成，其具有底部和侧壁部。上的多孔层砂砾的至少一部分被形成blasenarmem石英玻璃制成的表层。通过施加负压气体组分从至少相邻的至皮肤层晶粒层的部分移除，且粒面层进行玻璃化，以形成具有高度坩H.石英玻璃坩埚为了产生此基础上的石英玻璃坩埚，这有利于Ansetzprozess并且其中杂质的条目的危险是在硅熔体中低，本发明提出的是，在粒面层的上部区域，其随后以较低的区域到满高度H 延伸的相邻的气泡区表皮层下面玻璃化和与特定的泡沫体积较大，为通过负压在气泡贫石英玻璃填充气体的气泡的特定体积的至少两倍下仅在这些含充有气体的气泡时产生的主要或施加粒面层的面积从底部区域延伸至最大0.8倍坩埚的高度H的。

5. 发明申请

WO2022157107A1 QUARZGLASKÖRPER 审中-公开
公开(公告)号：WO2022157107A1
公开(公告)日：2022-07-28
申请号：PCT/EP2022/050858
申请日：2022-01-17
申请人： HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG
发明人： GROMANN, Boris , KAYSER, Thomas , SÖHN, Matthias , GÖBEL, Marcus Constantin , WEISENSEEL, Bastian , WISSEL-STOLL, Kathrin , WITTRIN, Mirko , WHIPPEY, Nigel R. , SCHEICH, Gerrit , WILDE, Markus
IPC分类号： C03B1/02 , C03B20/00 , C03C3/06 , C03B5/425 , C03C4/12
摘要： Ein Verfahren zum Herstellen eines Quarzglaskörpers beinhaltend: Bilden einer Aufschlämmung aus einem Pulver aus Siliziumdioxidpartikeln und einer Flüssigkeit; Behandeln der Aufschlämmung mit Ultraschall zum Deagglomerieren von in der Aufschlämmung gebildeten Agglomeraten und Leiten durch eine mehrstufige Filtervorrichtung unter Erhalt einer Siliziumdioxidsuspension; Bilden eines Siliziumdioxidgranulats aus der Siliziumdioxidsuspension durch Granulieren; Bilden einer Glasschmelze in einem Ofen und eines Quarzglaskörpers aus der Glasschmelze; wobei der Ofen einen Gasauslass aufweist, dem ein Gas entnommen wird, wobei der Taupunkt des Gases unmittelbar nach Entnahme weniger als 0°C beträgt; wobei die mehrstufige Filtervorrichtung mindestens drei Filterstufen aufweist, die jeweils mindestens einen Filter beinhalten, wobei die erste Filterstufe eine Filterfeinheit von mindestens 5 µm, die zweite Filterstufe eine Filterfeinheit von 0,5 bis 5 µm, und die dritte Filterstufe eine Filterfeinheit von höchstens 1 µm aufweist, wobei die Abscheiderate für die erste Filterstufe mindestens 50 %, für die zweite Filterstufe mindestens 95%, und für die dritte Filterstufe mindestens 99,5 % beträgt.

6. 发明申请

WO2017103171A1 AMMONIAKBEHANDLUNG VON SILIZIUMDIOXIDPULVER BEI DER HERSTELLUNG VON QUARZGLAS 审中-公开
公开(公告)号：WO2017103171A1
公开(公告)日：2017-06-22
申请号：PCT/EP2016/081525
申请日：2016-12-16
申请人： HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG
发明人： OTTER, Matthias , LEHMANN, Walter , HÜNERMANN, Michael , NIELSEN, Nils Christian , WHIPPEY, Nigel Robert , GROMANN, Boris , KPEBANE, Abdoul-Gafar , KAYSER, Thomas
IPC分类号： C03B20/00 , C03C12/00 , C03B19/10 , C03B37/012 , C03C3/06 , C03B19/06
CPC分类号： C03B19/106 , C03B17/04 , C03B19/066 , C03B19/108 , C03B19/1095 , C03B2201/07 , C03B2201/23 , C03C3/06 , C03C13/045 , C03C2201/11 , C03C2201/23 , C03C2201/26 , C03C2201/32 , C03C2203/44 , C03C2203/54
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines Quarzglaskörpers beinhaltend die Verfahrensschritte i.) Bereitstellen eines Siliziumdioxidgranulats, ii.) Bilden einer Glasschmelze aus dem Siliziumdioxidgranulat und iii.) Bilden eines Quarzglaskörpers aus zumindest einem Teil der Glasschmelze, wobei das Bereitstellen die Schritte I. Erzeugen eines Siliziumdioxidpulvers mit mindestens zwei Teilchen hergestellt aus einer Silizium-Chlor-Verbindung, II. Kontaktieren des Siliziumdioxidpulvers mit Ammoniak unter Erhalt eines behandelten Siliziumdioxidpulvers und III. Granulieren des behandelten Siliziumdioxidpulvers zu einem Siliziumdioxidgranulat beinhaltet, und wobei der Chlorgehalt des Siliziumdioxidpulvers höher ist als der Chlorgehalt des Siliziumdioxidgranulats. Die Erfindung betrifft weiterhin einen Quarzglaskörper, der durch dieses Verfahren erhältlich ist. Die Erfindung betrifft auch ein Verfahren zum Herstellen eines Siliziumdioxidgranulats. Weiterhin betrifft die Erfindung einen Lichtleiter, ein Leuchtmittel und einen Formkörper, die jeweils durch Weiterverarbeiten des Quarzglaskörpers erhältlich sind.

7. 发明申请

WO2017103155A9 QUARZGLAS AUS PYROGENEM SILIZIUMDIOXIDGRANULAT MIT GERINGEM OH-, CL- UND AL-GEHALT 审中-公开
公开(公告)号：WO2017103155A9
公开(公告)日：2017-06-22
申请号：PCT/EP2016/081505
申请日：2016-12-16
申请人： HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG
发明人： HEINZ FABIAN, Heinz , HOFMANN, Achim , HÜNERMANN, Michael , OTTER, Matthias , KAYSER, Thomas
IPC分类号： C03B19/06 , C03B20/00 , C03B19/10
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines Quarzglaskörpers beinhaltend die Verfahrensschritte i) Bereitstellen eines Siliziumdioxidgranulats aus einem pyrogenen Siliziumdioxidpulver, ii) Bilden einer Glasschmelze aus dem Siliziumdioxidgranulat und iii) Bilden eines Quarzglaskörpers aus zumindest einem Teil der Glasschmelze, wobei der Quarzglasköper einen OH-Gehalt von weniger als 10 ppm, einen Chlorgehalt von weniger als 60 ppm und einen Aluminiumgehalt von weniger als 200 ppb aufweist. Die Erfindung betrifft weiterhin einen Quarzglaskörper, der durch dieses Verfahren erhältlich ist. Weiterhin betrifft die Erfindung einen Formkörper und ein Gebilde, die jeweils durch Weiterverarbeiten des Quarzglaskörpers erhältlich sind.

8. 发明申请

WO2017103155A1 QUARZGLAS AUS PYROGENEM SILIZIUMDIOXIDGRANULAT MIT GERINGEM OH-, CL- UND AL-GEHALT 审中-公开
标题翻译：具有低OH，CL和AL含量的热解二氧化硅颗粒的石英玻璃
公开(公告)号：WO2017103155A1
公开(公告)日：2017-06-22
申请号：PCT/EP2016/081505
申请日：2016-12-16
申请人： HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG
发明人： HEINZ FABIAN, Heinz , HOFMANN, Achim , HÜNERMANN, Michael , OTTER, Matthias , KAYSER, Thomas
IPC分类号： C03B19/06 , C03B20/00 , C03B19/10
CPC分类号： C03B19/066 , C03B19/108 , C03B19/1095 , C03B2201/03 , C03B2201/04 , C03C1/02 , C03C3/06 , C03C2201/11 , C03C2201/23 , C03C2201/32
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines Quarzglaskörpers beinhaltend die Verfahrensschritte i.) Bereitstellen eines Siliziumdioxidgranulats aus einem pyrogenen Siliziumdioxidpulver, ii.) Bilden einer Glasschmelze aus dem Siliziumdioxidgranulat und iii.) Bilden eines Quarzglaskörpers aus zumindest einem Teil der Glasschmelze, wobei der Quarzglasköper einen OH-Gehalt von weniger als 10 ppm, einen Chlorgehalt von weniger als 60 ppm und einen Aluminiumgehalt von weniger als 200 ppb aufweist. Die Erfindung betrifft weiterhin einen Quarzglaskörper, der durch dieses Verfahren erhältlich ist. Weiterhin betrifft die Erfindung einen Formkörper und ein Gebilde, die jeweils durch Weiterverarbeiten des Quarzglaskörpers erhältlich sind.
摘要翻译：
本发明涉及一种用于制造石英玻璃＆OUML; ...包括如下工艺步骤i）提供热解二氧化硅粉末的Siliziumdioxidgranulats Rpers，ii）形成在玻璃从Siliziumdioxidgranulat熔化和iii）形成的石英玻璃＆ouml; 从熔融玻璃，石英玻璃及oUML的至少一部分rpers;包括由小于10ppm，小于60ppm的氯含量和小于200ppb的铝含量的OH含量。本发明还涉及一种石英玻璃＆OUML;主体，可以通过此方法获得BEAR是ltlich。此外，本发明涉及一种模制体和结构，每个模制体和结构均可通过进一步处理石英玻璃体获得，

9. 发明申请

WO2011147906A1 VERFAHREN FÜR DIE HERSTELLUNG EINES QUARZGLASTIEGELS MIT TRANSPARENTER INNENSCHICHT AUS SYNTHETISCH ERZEUGTEM QUARZGLAS 审中-公开
标题翻译：用于生产石英玻璃坩埚用合成石英玻璃制成的透明内层生产
公开(公告)号：WO2011147906A1
公开(公告)日：2011-12-01
申请号：PCT/EP2011/058624
申请日：2011-05-26
申请人： HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG , LEHMANN, Walter , KAYSER, Thomas , TROMMER, Martin , NASAROW, Christian
发明人： LEHMANN, Walter , KAYSER, Thomas , TROMMER, Martin , NASAROW, Christian
IPC分类号： C03B19/09 , C03B19/14 , C03C17/02
CPC分类号： C03B19/1492 , C03C17/004 , C03C17/02 , C03C21/003 , C03C23/0025 , C03C2217/213 , C03C2218/1525
摘要： Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zur Herstellung eines Quarzglastiegels mit einer Innenschicht aus transparentem, blasenarmem und reinem Quarzglas mit langer Standzeit anzugeben. Diese Aufgabe gemäß der Erfindung durch ein Verfahren gelöst, das folgende Verfahrensschritte umfasst: (a) Bereitstellen eines eine Innenseite aufweisenden Tiegelbasiskörpers aus Quarzglas, (b) Erzeugen einer porösen SiO 2 -Sootschicht auf mindestens einer Teilfläche der Innenseite des Tiegelbasiskörpers durch Gasphasenabscheidung, Trocknen der porösen SiO 2 -Sootschicht zur Reduzierung des Hydroxylgruppengehalts und Sintern der Sootschicht zu der Innenschicht aus transparentem Quarzglas in einer wasserstoffarmen Atmosphäre, so dass sich in dem Quarzglas der Innenschicht ein Hydroxylgruppengehalt von weniger als 100 Gew.-ppm einstellt.
摘要翻译：本发明的基本目的是提供一种具有透明石英玻璃blasenarmem的内层和纯具有使用寿命长制造石英玻璃坩埚的方法。根据本发明通过包括以下步骤的方法解决了这个问题：（a）提供具有石英玻璃坩埚基体上的内侧，（b）关于坩埚基体的通过气相沉积在内部的至少一个部分区域产生多孔的SiO 2烟灰层，干燥多孔二氧化硅烟灰层，以减少羟基和烧结煤烟层，以透明石英玻璃的内侧层中的贫氢气氛中，使得在内层的石英玻璃小于100重量ppm的羟基含量。

10. 发明申请

WO2009146992A1 METHOD AND APPARATUS FOR PRODUCING A CRUCIBLE OF QUARTZ GLASS 审中-公开
标题翻译：用于生产QUARTZ玻璃的可溶性的方法和装置
公开(公告)号：WO2009146992A1
公开(公告)日：2009-12-10
申请号：PCT/EP2009/055451
申请日：2009-05-06
申请人： HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG , SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD. , KAYSER, Thomas , LEHMANN, Walter , LAUDAHN, Hilmar
发明人： KAYSER, Thomas , LEHMANN, Walter , LAUDAHN, Hilmar
IPC分类号： C03B19/09
CPC分类号： C30B15/10 , C03B19/095 , C30B35/002
摘要： The invention starts from a method for producing a crucible of quartz glass in that SiO 2 inner layer granules are vitrified in a rotating melting mold (1), which is covered at least in part by a heat shield (2), in a light gas-containing atmosphere under the action of a plasma to obtain a transparent inner layer, at least part of the light gas being supplied to the melting mold (1) through a gas inlet (8,9) of the heat shield. In order to form an inner layer with a particularly low bubble content and with minimal efforts in terms of energy and material, it is proposed that in a layer-forming step preceding the vitrifying step, a granule layer (14) of the SiO 2 inner layer granules is formed on the inner wall, and wherein the plasma zone (13) and the heat shield (2) together with the gas inlet (8,9) are movable at least in a direction perpendicular to the rotation axis and are moved laterally in the direction of the granule layer (14) during the vitrifying step so as to vitrify the granule layer (14).
摘要翻译：本发明从石英玻璃坩埚的制造方法开始，其中SiO 2内层颗粒在至少部分由隔热罩（2）覆盖的旋转熔融模具（1）中进行玻璃化，在等离子体的作用下形成含气氛，以获得透明的内层，至少部分轻质气体通过隔热罩的气体入口（8,9）供应到熔化模具（1）。为了形成具有特别低的气泡含量并且在能量和材料方面的最小努力的内层，提出在玻璃化步骤之前的层形成步骤中，SiO 2内层的颗粒层（14）颗粒形成在内壁上，并且其中等离子体区域（13）和隔热罩（2）与气体入口（8,9）一起可以至少在垂直于旋转轴线的方向上移动并且横向移动在玻璃化步骤期间颗粒层（14）的方向以使颗粒层（14）玻璃化。

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