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1. 发明申请

WO2011039159A1 ROHLING AUS TITAN-DOTIERTEM, HOCHKIESELSÄUREHALTIGEM GLAS FÜR EIN SPIEGELSUBSTRAT FÜR DEN EINSATZ IN DER EUV-LITHOGRAPHIE UND VERFAHREN FÜR SEINE HERSTELLUNG 审中-公开
标题翻译： BRUTE钛掺杂的，高二氧化硅玻璃镜基底FOR USE IN EUV光刻AND METHOD FOR PRODUCTION
公开(公告)号：WO2011039159A1
公开(公告)日：2011-04-07
申请号：PCT/EP2010/064317
申请日：2010-09-28
申请人： HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG , SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD. , KUEHN, Bodo
发明人： KUEHN, Bodo
IPC分类号： C03B19/14 , C03B20/00 , C03C3/06
CPC分类号： C03B23/20 , C03B19/1453 , C03B32/00 , C03B2201/42 , C03C3/06 , C03C2201/42 , G02B5/10 , G03F7/708 , Y10T428/22 , Y10T428/24612
摘要： Um ausgehend von einem bekannten Verfahren zur Herstellung eines Rohlings aus Titan-dotiertem, hochkieselsäurehaltigem Glas (Glas) für ein Spiegelsubstrat für den Einsatz in der EUV-Lithographie, das einen zu verspiegelnden und beim bestimmungsgemäßen Einsatz des Spiegelsubstrats als hochbelastete Zone spezifizierten Oberflächenbereich aufweist, der eine Außenkontur hat, einen Rohling bereit zu stellen, der kostengünstig herstellbar ist und der dennoch hohen Anforderungen bezüglich Homogenität, Blasen- und Schlierenfreiheit genügt, wird eine Verfahrensweise vorgeschlagen, die folgende Verfahrensschritte umfasst: (a) Erzeugen eines Frontkörpers aus Titan-dotiertem Glas hoher Qualität und mit Abmessungen, die die Außenkontur mit Übermaß umschließen, (b) Erzeugen eines zylinderförmigen Stützkörpers aus Titan-dotiertem Glas, (c) Verbinden von Frontkörper und Stützkörper unter Bildung eines Verbundkörpers, und (d) Bearbeitung des Verbundkörpers zum Spiegelsubstrat-Rohling, wobei das Erzeugen des Frontkörpers einen Homogenisierungsprozess umfasst, der ein Verdrillen eines durch Flammenhydrolyse einer siliziumhaltigen Verbindung erhaltenen stangenförmigen Ausgangskörpers zu einem Frontkörperrohling umfasst, und dass der Stützkörper als monolithischer Glasblock mit geringerer Homogenität als der Frontkörper ausgebildet ist.
摘要翻译：为了从用于制造由掺杂钛的高硅玻璃（玻璃），用于在EUV光刻中，它具有利用一个镜基板的空白公知的方法开始被mirrorized和打算使用的镜基板的指定为高负载区的表面积的外轮廓具有提供一种可以经济地和关于满足从条纹仍要求高的均匀性，膀胱和自由地制造，过程中提出，下面的处理步骤的空白：（a）形成的高掺杂钛的玻璃的前体质量和其与筛上，（b）中包围的外轮廓成形接合前体和支撑体上以形成复合体，而复合体的（d）中处理，以将镜基板ř钛掺杂玻璃的圆筒状支承体，（C）的尺寸 Ohling，其中所述前体的所述生成包括均质化处理，其包括加捻由含硅化合物棒状起始体的火焰水解反应前体坯而获得的信号，并且所述支撑体被形成为具有比前体的下部均匀性的单片玻璃块。

2. 发明申请

WO2014128148A2 OPTISCHES BAUTEIL AUS QUARZGLAS ZUR VERWENDUNG IN DER ArF-EXCIMERLASER-LITHOGRAPHIE SOWIE VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG DES BAUTEILS 审中-公开
标题翻译：光学部件QUARZGLAS FOR USE IN ArF准分子激光光刻法和制造方法COMPONENT
公开(公告)号：WO2014128148A2
公开(公告)日：2014-08-28
申请号：PCT/EP2014/053199
申请日：2014-02-19
申请人： HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG , SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD.
发明人： KUEHN, Bodo
CPC分类号： C03C3/06 , C03B19/1453 , C03B32/00 , C03B32/02 , C03B2201/07 , C03B2201/075 , C03B2201/21 , C03B2201/23 , C03B2201/24 , C03C4/04 , C03C2201/11 , C03C2201/12 , C03C2201/21 , C03C2201/23 , C03C2201/24 , C03C2203/54 , C03C2204/00 , G02B1/00 , G02B1/02 , Y02P40/57
摘要： Die Erfindung geht von einem optischen Bauteil aus synthetischem Quarzglas zur Verwendung in der ArF-Excimerlaser-Lithographie mit einer Einsatzwellenlänge von 193 nm aus, mit einer Glasstruktur im Wesentlichen ohne Sauerstoffdefektstellen, einem Wasserstoffgehalt im Bereich von 0,1 x 10 16 Molekülen/cm 3 bis 1,0 x 10 18 Molekülen/cm 3 und einem Gehalt an SiH-Gruppen von weniger als 2 x 10 17 Molekülen/cm 3 und mit einem Gehalt an Hydroxylgruppen im Bereich zwischen 0,1 und 100 Gew.-ppm, wobei die Glasstruktur eine fiktive Temperatur von weniger 1070 °C aufweist. Um ausgehend von einer Messung des Kompaktierungsverhaltens bei einer Messwellenlänge von 633 nm eine verlässliche Prädiktion zum Kompaktierungsverhalten beim Einsatz mit UV-Laserstrahlung der Einsatzwellenlänge ermöglicht, wird eine Ausgestaltung des optischen Bauteil vorgeschlagen, bei der es auf Bestrahlung mit Strahlung einer Wellenlänge von 193 nm mit 5x10 9 Pulsen mit einer Pulsbreite von 125 ns und einer Energiedichte von jeweils 500µJ/cm 2 sowie einer Pulswiederholfrequenz von 2000 Hz mit einer laserinduzierten Brechzahländerung reagiert, deren Betrag bei Vermessung mit der Einsatzwellenlänge von 193 nm einen ersten Messwert M 193nm und bei Vermessung mit einer Messwellenlänge von 633 nm einen zweiten Messwert M 633nm ergibt, wobei gilt: M 193nm /M 633nm
摘要翻译：
本发明涉及一种用于在ArF准分子激光光刻法使用与Einsatzwellenl＆AUML光学合成石英玻璃构件; 193纳米的长度，具有玻璃结构基本没有氧缺陷，在的范围内的氢含量 0.1×10 ^{16 分子导航用途LEN /厘米^{3 至1.0×10 ^{18 分子导航用途LEN /厘米^{3 < / SUP>和小于2×10 ^{17 分子导航用途的SiH基团的含量LEN /厘米^{3 和与羟基基团的0.1°范围内的内容和 100重量ppm，玻璃结构的概念温度低于1070℃ 为了从Kompaktierungsverhaltens的测量在一个Messwellenl＆AUML开始; 633nm的长度的VERL＆AUML; ssliche镨＆AUML;用语与Einsatzwellenl BEAR长度ERM＆ouml的紫外激光辐射使用时压实行为; glicht，该光学装置的结构，提出了，这是对照射具有波长＆AUML辐射;焦耳/厘米^{2 ，和脉冲重复的2000频率; 193nm下用5×10 ^{9 脉冲与125毫微秒的脉冲宽度和500微的能量密度的长度用激光诱导的折射率＆AUML赫兹反应的变化，与所述Einsatzwellenl＆AUML测量时的量; 193nm的第一测量值M长度<子> 193nm的和测量与Messwellenl＆AUML; 633nm的第二测量值M长度<子 > 633nm，其中：M193nm / M633nm}}}}}}}}

3. 发明申请

WO2008104485A1 OPTICAL COMPONENT MADE FROM SYNTHETIC QUARTZ GLASS WITH ENHANCED RADIATION RESISTANCE, AND METHOD FOR PRODUCING THE COMPONENT 审中-公开
标题翻译：具有增强耐辐射性的合成石英玻璃制成的光学元件及其制造方法
公开(公告)号：WO2008104485A1
公开(公告)日：2008-09-04
申请号：PCT/EP2008/052045
申请日：2008-02-20
申请人： HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG , SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD. , KUEHN, Bodo , OCHS, Stefan , WEBER, Juergen
发明人： KUEHN, Bodo , OCHS, Stefan , WEBER, Juergen
IPC分类号： C03B19/14
CPC分类号： C03B19/1453 , C03B2201/075 , C03B2201/10 , C03B2201/21 , C03B2201/23 , C03B2201/24 , C03B2201/32 , C03B2201/34 , C03B2201/40 , C03C3/06 , C03C2201/10 , C03C2201/21 , C03C2201/23 , C03C2201/24 , C03C2201/32 , C03C2201/3411 , C03C2201/3441 , C03C2201/40 , G03F7/70958
摘要： To provide an optical component of quartz glass for use in a projection objective for immersion lithography at an operating wavelength below 250 nm, which component is optimized for use with linearly polarized UV laser radiation and particularly with respect to compaction and birefringence induced by anisotropic density change, it is suggested according to the invention that the quartz glass should contain hydroxyl groups in the range of from 1 wtppm to 60 wtppm and chemically bound nitrogen, and that the mean hydrogen content of the quartz glass should be in the range of 5 x 10 15 molecules/cm 3 to 1 x 10 17 molecules/cm 3 .
摘要翻译：为了提供石英玻璃的光学部件，用于在250nm以下的工作波长下用于浸没式光刻的投影物镜，该成分被优化用于线偏振UV激光辐射，特别是关于由各向异性密度变化引起的压实和双折射根据本发明，建议石英玻璃应含有1wt％至60wtppm的羟基和化学键合的氮，并且石英玻璃的平均氢含量应在5×10 分子/ cm 3至1×10 17分子/ cm 3以上。

4. 发明申请

WO2013087678A1 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON SYNTHETISCHEM QUARZGLAS SOWIE QUARZGLAS FÜR DEN EINSATZ ALS MANTELMATERIAL EINER OPTISCHEN FASER 审中-公开
标题翻译：工艺生产合成石英玻璃和石英玻璃用作表面材料光纤ONE
公开(公告)号：WO2013087678A1
公开(公告)日：2013-06-20
申请号：PCT/EP2012/075197
申请日：2012-12-12
申请人： HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG , SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD.
发明人： TROMMER, Martin , ZWARG, Steffen , SATTMANN, Ralph , KUEHN, Bodo
IPC分类号： C03B37/014
CPC分类号： C03B37/014 , C03B37/01406 , C03B37/01413 , C03B2201/20 , C03B2201/84 , C03B2207/32 , C03B2207/36 , C03C13/008 , C03C2213/00
摘要： Es ist ein Verfahren zur Herstellung von synthetischem Quarzglas bekannt, umfassend die Verfahrensschritte: (a) Umsetzen eines eine kohlenstoffhaltige Siliziumverbindung enthaltenden Einsatzmaterials mit Sauerstoff in einer Reaktionszone zu SiO 2 -Partikeln, (b) Abscheiden der SiO 2 -Partikel auf einer Ablagerungsfläche unter Bildung eines Kohlenstoff und Hydroxylgruppen enthaltenden, porösen SiO 2 -Sootkörpers, (c) Trocknen des porösen SiO 2 -Sootkörpers, und (d) Verglasen zu dem synthetischen Quarzglas durch Erhitzen des Sootkorpers auf eine Verglasungstemperatur. Um hiervon ausgehend ein Verfahren anzugeben, das eine kostengünstige Herstellung von Quarzglas durch Pyrolyse oder Hydrolyse einer kohlenstoffhaltigen Siliziumverbindung unter Einsatz eines kohlenstoffhaltigen Einsatzmaterials ermöglicht, wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, dass ein Sootkörper mit einem Kohlenstoffgehalt im Bereich von 1 Gew.-ppm bis 50 Gew.-ppm erzeugt wird.
摘要翻译：它是用于制造合成石英玻璃的方法是已知的，包括以下步骤：（a）沉积表面2个颗粒上的SiO的含碳硅与氧的原料在反应区中，以SiO 2颗粒，含化合物的（b）中沉积反应以形成碳和含羟基的，多孔的SiO 2烟灰体，（c）干燥所述多孔的SiO 2烟灰体，和（d）玻璃化由Sootkorpers加热到玻璃化温度的合成石英玻璃。要指定此基础上的方法，其允许通过热解或水解廉价生产的石英玻璃的硅化合物，使用将碳质原料含碳，本发明提出了具有以重量计在1个重量ppm的范围内的碳含量，以50份微粉体 ppm的被生成。

5. 发明申请

WO2006108766A1 HALTER AUS QUARZGLAS FÜR DIE PROZESSIERUNG VON HALBLEITERWAFERN UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG DES HALTERS 审中-公开
标题翻译： HOLDER QUARZGLAS用于加工半导体晶片和制造方法的持有者
公开(公告)号：WO2006108766A1
公开(公告)日：2006-10-19
申请号：PCT/EP2006/061192
申请日：2006-03-30
申请人： HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG , SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD. , WEBER, Juergen , POGGE, Tobias , TROMMER, Martin , KUEHN, Bodo , KIRST, Ulrich , WERDECKER, Waltraud
发明人： WEBER, Juergen , POGGE, Tobias , TROMMER, Martin , KUEHN, Bodo , KIRST, Ulrich , WERDECKER, Waltraud
IPC分类号： C03C3/06 , C03B19/14 , H01L21/00
CPC分类号： C03C3/06 , C03B19/06 , C03B19/09 , C03B32/00 , C03B2201/07 , C03B2201/075 , C03B2201/24 , C03B2201/32 , C03C15/00 , C03C19/00 , C03C23/0025 , C03C23/006 , C03C2201/11 , C03C2201/12 , C03C2201/23 , C03C2201/24 , C03C2201/32 , C03C2201/50 , C03C2203/54 , C30B25/12 , C30B31/14 , C30B35/00 , Y02P40/57
摘要： Ein ideales Quarzglas für einen Wafer-Halter zum Einsatz in ätzend wirkender Umgebung zeichnet sich sowohl durch hohe Reinheit als auch durch eine hohe Trockenätzbeständigkeit aus. Um ein Quarzglas anzugeben, das diese Anforde rungen weitgehend erfüllt, wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, dass das Quarz glas mindestens in einem oberflächennahen Bereich mit Stickstoff dotiert ist, einen mittleren Gehalt an metastabilen Hydroxylgruppen von weniger als 30 Gew.-ppm aufweist, und dass seine fiktive Temperatur unterhalb von 1250 °C und seine Vis kosität bei einer Temperatur von 1200°C mindestens 1013 dPas betragen. Ein wirtschaftliches Verfahren zur Herstellung eines derartigen Quarzglases umfasst folgende Verfahrensschritte: Erschmelzen eines SiO2-Rohstoffs zu einem Quarz- glas-Rohling, wobei der SiO2-Rohstoff oder der Quarzglas-Rohling einer Entwäs serungsmaßnahme unterzogen werden, ein Erhitzen des SiO2-Rohstoffs oder des Quarzglas-Rohlings auf eine Nitridierungstemperatur im Bereich zwischen 1050°C und 1850 °C unter einer Ammoniak enthaltenden Atmosphäre, eine Temperatur behandlung, mittels der das Quarzglas des Quarzglas-Rohlings auf eine fiktive Temperatur von 1250 °C oder weniger eingestellt wird, und eine Oberflächenbe handlung des Quarzglas-Rohlings unter Bildung des Quarzglas-Halters.
摘要翻译：用于在腐蚀性环境中使用的晶片保持器的理想的石英玻璃的演技由两个高纯度和高耐干蚀性区分。为了提供一个石英玻璃，其支柱很大程度上满足这些Anforde，本发明提出的是，石英玻璃至少与氮的近表面区域掺杂，具有按重量计小于30ppm的亚稳定羟基的平均含量，且其虚拟以下1250℃，粘度温度由显示是在1200℃的温度下为至少1013 dPa·s相当。用于制造这样的石英玻璃的经济的方法包括下列步骤：形成SiO 2原料的熔融，以获得石英玻璃坯料中，SiO 2原材料或石英玻璃坯料的Entwässerungsmaßnahme进行SiO 2的原料的加热或石英玻璃 Döhring添加包含在氨气氛下1050℃和1850℃之间的范围内的氮化温度下，通过该石英玻璃坯料中石英玻璃被设置为1250℃或更低的温度处理的假想温度的装置，和一个治疗Oberflächenbe 该石英玻璃坯料与形成在石英玻璃夹具的。

6. 发明申请

WO2011104257A1 ROHLING AUS TITAN-DOTIERTEM, HOCHKIESELSÄUREHALTIGEM GLAS FÜR EIN SPIEGELSUBSTRAT FÜR DEN EINSATZ IN DER EUV-LITHOGRAPHIE UND VERFAHREN FÜR SEINE HERSTELLUNG 审中-公开
标题翻译： BRUTE钛掺杂的，高二氧化硅玻璃镜基底FOR USE IN EUV光刻AND METHOD FOR PRODUCTION
公开(公告)号：WO2011104257A1
公开(公告)日：2011-09-01
申请号：PCT/EP2011/052650
申请日：2011-02-23
申请人： HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG , KUEHN, Bodo , OCHS, Stefan
发明人： KUEHN, Bodo , OCHS, Stefan
IPC分类号： C03B19/14 , C03C3/06
CPC分类号： C03B19/1453 , C03B19/1469 , C03B2201/075 , C03B2201/21 , C03B2201/23 , C03B2201/42 , C03C3/06 , C03C2201/23 , G02B5/0891
摘要： Es ist bekannt zur Herstellung eines Rohlings aus Titan-dotiertem, hochkieselsäurehaltigem Glas für ein Spiegelsubstrat für den Einsatz in der EUV-Lithographie, das Ti-dotierte Kieselglas mittels Flammenhydrolyse von Silizium und Titan enthaltenden Ausgangssubstanzen zu erzeugen und anschließend in dem Ti-dotierten Kieselglas einen vorgegebenen Wasserstoffgehalt einzustellen. Um hiervon ausgehend eine möglichst weitgehende Unempfindlichkeit der Oberfläche gegenüber Verwerfungen und Verformungen bei Bestrahlung mit EUV- Laserstrahlung zu erreichen, wird erfindungsgemäß ein Verfahrensweise vorgeschlagen, bei dem durch Flammenhydrolyse ein Sootkörper aus mit Titan dotiertem SiO 2 erzeugt wird, der Sootkörper durch Erhitzen auf eine Temperatur von mindestens 1150 °C unter Vakuum getrocknet wird, so dass sich ein mittlerer Hydroxylgruppengehalt von weniger als 150 Gew.-ppm einstellt, der getrocknete Sootkörper unter Bildung einer Vorform aus Ti-dotiertem Kieselglas gesintert wird, und das Ti-dotierte Kieselglas mit Wasserstoff beladen wird, so dass sich ein mittlerer Wasserstoffgehalt von mindestens 1 x 10 16 Molekülen/cm 3 einstellt.
摘要翻译：它是在将Ti掺杂的二氧化硅玻璃已知的用于生产含钛原料和用于在EUV光刻中使用的镜基板以产生由硅和火焰水解的Ti掺杂的石英玻璃制成的掺杂钛的高二氧化硅玻璃的坯料然后一个调整预定的氢含量。向该基础实现表面相反在用EUV激光辐射照射失真和变形的最大可能的免疫力，提出一种方法，与其中通过加热由掺杂钛的SiO 2，烟灰体的微粉体的火焰水解产生的的温度下，本发明至少1150℃在真空下干燥，从而使小于150质量ppm的平均羟基含量，将干燥的烟炱体烧结以形成钛 - 掺杂的二氧化硅玻璃的预成型体，并在Ti掺杂的二氧化硅玻璃中装入氢使得至少1×10 16的平均氢含量调整分子/立方厘米。

7. 发明授权

EP2483212B1 ROHLING AUS TITAN-DOTIERTEM, HOCHKIESELSÄUREHALTIGEM GLAS FÜR EIN SPIEGELSUBSTRAT FÜR DEN EINSATZ IN DER EUV-LITHOGRAPHIE UND VERFAHREN FÜR SEINE HERSTELLUNG 有权
标题翻译： BRUTE钛掺杂的，高二氧化硅玻璃镜基底FOR USE IN EUV光刻AND METHOD FOR PRODUCTION
公开(公告)号：EP2483212B1
公开(公告)日：2013-11-20
申请号：EP10759886.4
申请日：2010-09-28
申请人： Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG
发明人： KUEHN, Bodo
IPC分类号： C03B23/20 , C03B32/00 , C03C3/06 , C03B19/14
CPC分类号： C03B23/20 , C03B19/1453 , C03B32/00 , C03B2201/42 , C03C3/06 , C03C2201/42 , G02B5/10 , G03F7/708 , Y10T428/22 , Y10T428/24612
摘要： On the basis of a known method for producing a blank of titanium-doped glass with a high silica content (glass) for a mirror substrate for use in EUV lithography which has a surface region that has an outer contour, is intended to be provided with a reflective coating and is specified as a highly loaded zone when the mirror substrate is used as intended, in order to provide a blank which can be produced at low cost and nevertheless meets high requirements with respect to homogeneity and freedom from blisters and striae, a procedure which comprises the following method steps is proposed: (a) producing a front body of titanium-doped high-quality glass with dimensions more than large enough to enclose the outer contour, (b) producing a cylindrical supporting body from titanium-doped glass, (c) bonding the front body and the supporting body to form a composite body, and (d) working the composite body to form the mirror substrate blank, wherein the step of producing the front body comprises a homogenizing process involving twisting a starting body obtained in the form of a strand by flame hydrolysis of a silicon-containing compound to form a front body blank, and the supporting body is formed as a monolithic glass block with less homogeneity than the front body.

8. 发明授权

EP1868951B1 HALTER AUS QUARZGLAS FÜR DIE PROZESSIERUNG VON HALBLEITERWAFERN UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG DES HALTERS 有权
标题翻译： HOLDER QUARZGLAS用于加工半导体晶片和制造方法的持有者
公开(公告)号：EP1868951B1
公开(公告)日：2011-03-30
申请号：EP06743228.6
申请日：2006-03-30
申请人： Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG
发明人： KUEHN, Bodo , POGGE, Tobias , TROMMER, Martin , WEBER, Jürgen , KIRST, Ulrich , WERDECKER, Waltraud
IPC分类号： C03C3/06 , C03B19/14 , H01L21/00
CPC分类号： C03C3/06 , C03B19/06 , C03B19/09 , C03B32/00 , C03B2201/07 , C03B2201/075 , C03B2201/24 , C03B2201/32 , C03C15/00 , C03C19/00 , C03C23/0025 , C03C23/006 , C03C2201/11 , C03C2201/12 , C03C2201/23 , C03C2201/24 , C03C2201/32 , C03C2201/50 , C03C2203/54 , C30B25/12 , C30B31/14 , C30B35/00 , Y02P40/57
摘要： An ideal quartz glass for a wafer holder for application in an etching environment is characterised both by high purity and also a high dry etching resistance. According to the invention, such a quartz glass may be achieved, whereby the quartz glass is doped with nitrogen, at least in a region near the surface, has an average content of metastable hydroxy groups of less than 30 wt. ppm, the fictive temperature is less than 1250 °C and the viscosity at a temperature of 1200 °C is at least 1013 dPas. A commercial method for production of such a quartz glass comprises the following method steps: fusion of a SiO2 raw material to give a quartz glass blank, whereby the SiO2 raw material or the quartz glass blank is subjected to a dehydration process, heating of the SiO2 raw material or the quartz glass blank to a nitriding temperature in the range between 1050 °C and 1850 °C under an atmosphere containing ammonia, a temperature treatment, by means of which the quartz glass of the quartz glass blank is brought to a fictive temperature of 1250 °C or less and a surface treatment of the quartz glass blank to give the quartz glass holder.

9. 发明授权

EP2791070B8 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON SYNTHETISCHEM QUARZGLAS SOWIE QUARZGLAS FÜR DEN EINSATZ ALS MANTELMATERIAL EINER OPTISCHEN FASER 有权
公开(公告)号：EP2791070B8
公开(公告)日：2017-08-23
申请号：EP12808313.6
申请日：2012-12-12
申请人： Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG
发明人： TROMMER, Martin , ZWARG, Steffen , SATTMANN, Ralph , KUEHN, Bodo
IPC分类号： C03B37/014
CPC分类号： C03B37/014 , C03B37/01406 , C03B37/01413 , C03B2201/20 , C03B2201/84 , C03B2207/32 , C03B2207/36 , C03C13/008 , C03C2213/00

10. 发明公开

EP2791070A1 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON SYNTHETISCHEM QUARZGLAS SOWIE QUARZGLAS FÜR DEN EINSATZ ALS MANTELMATERIAL EINER OPTISCHEN FASER 有权
标题翻译：工艺生产合成石英玻璃和石英玻璃用作表面材料光纤ONE
公开(公告)号：EP2791070A1
公开(公告)日：2014-10-22
申请号：EP12808313.6
申请日：2012-12-12
申请人： Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG
发明人： TROMMER, Martin , ZWARG, Steffen , SATTMANN, Ralph , KUEHN, Bodo
IPC分类号： C03B37/014
CPC分类号： C03B37/014 , C03B37/01406 , C03B37/01413 , C03B2201/20 , C03B2201/84 , C03B2207/32 , C03B2207/36 , C03C13/008 , C03C2213/00
摘要： Known is a method for producing synthetic quartz glass comprising the following method steps: (a) reacting a carbonic silicon compound-containing raw material with oxygen in a reaction zone into SiO
2 particles, (b) precipitating the SiO2 particles on a sedimentation area by forming a porous SiO2 soot body containing hydrogen and hydroxyl groups, (c) drying the porous SiO2 soot body, and (d) glazing to the synthetic quartz glass by heating the soot body up to a glazing temperature. In order to indicate a method proceeding therefrom which facilitates a cost-efficient production of quartz glass by means of pyrolysing or hydrolysing a carbon-containing silicon compound using a carbon-containing raw material, the invention describes the production of a soot body with a carbon content within the range of 1 ppm by weight to 50 ppm by weight.
摘要翻译：用于制造合成石英玻璃的已知方法包括：（a）将含化合物的碳酸硅原料与氧在反应区中进SiO 2颗粒，（b）以形成多孔的SiO 2烟灰体沉淀在沉淀区中的SiO 2颗粒包含氢和羟基基团，（c）干燥所述多孔二氧化硅烟灰体，和（d）通过加热所述烟灰体至温度玻璃窗窗玻璃的合成石英玻璃。为了便于通过热解或水解使用含碳原料的含羧酸基的硅化合物的手段具有成本效益的生产的石英玻璃的，本发明描述了生产微粉体与1个ppm的范围内的碳含量重量按重量计至50ppm。

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