专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明申请

WO2008010882A3 ION SOURCE WITH RECESS IN ELECTRODE 审中-公开
标题翻译：离子源在电极中回收
公开(公告)号：WO2008010882A3
公开(公告)日：2008-10-30
申请号：PCT/US2007013717
申请日：2007-06-12
申请人： GUARDIAN INDUSTRIES , MURPHY NESTOR P , ROCK DAVID
发明人： MURPHY NESTOR P , ROCK DAVID
IPC分类号： H01J7/24
CPC分类号： H01J37/08 , H01J27/024 , H01J27/143 , H01J2237/31
摘要： An ion source capable of generating and/or emitting an ion beam which may be used to deposit a layer on a substrate or to perform other functions is provided. The ion source includes at least one anode and at least one cathode. In certain example embodiments, the anode may. have a recess formed therein in which ions to be included in the ion beam may accelerate. Walls of the recess optionally may be insulated using, for example, ceramic. One or more holes may be provided to allow a supply of gas to flow into the recess, and those holes optionally may be tapered such that they narrow towards the recess. Thus, certain example embodiments produce an ion source having a higher energy efficiency (e.g., having increasing ion energy).
摘要翻译：提供了能够产生和/或发射离子束的离子源，该离子束可以用于在衬底上沉积层或执行其他功能。离子源包括至少一个阳极和至少一个阴极。在某些示例实施例中，阳极可以。具有在其中形成的凹部，离子束中包含的离子可以加速。可选地，凹槽的壁可以使用例如陶瓷来绝缘。可以提供一个或多个孔以允许气体供应流入凹槽中，并且这些孔任选地可以是锥形的，使得它们朝向凹槽变窄。因此，某些示例实施例产生具有较高能量效率（例如，具有增加的离子能量）的离子源。

2. 发明专利

ES2424764T3 Fuente de iones con hueco en el electrodo 未知
公开(公告)号：ES2424764T3
公开(公告)日：2013-10-08
申请号：ES07835800
申请日：2007-06-12
申请人： GUARDIAN INDUSTRIES
发明人： MURPHY NESTOR P , ROCK DAVID
IPC分类号： H01J37/08 , H01J27/02 , H01J27/14
摘要： Una fuente de iones capaz de emitir un haz de iones, comprendiendo: un ánodo (25) y un cátodo (5), teniendo uno del ánodo (25) y cátodo (5) una brecha dedescarga (15) definida en el mismo y teniendo el otro del ánodo (25) y cátodo (5) un hueco(40) definido en el mismo en una ubicación cercana a la brecha de descarga (15), teniendo elhueco (40) una pared de base (25a) y primera y segunda pared lateral (25b);al menos un imán (23) capaz de generar un campo magnético cerca de la brecha dedescarga (15); y un suministro de energía (29) en comunicación eléctrica con el ánodo (25) y/o el cátodo (5),caracterizado porque el hueco (40) tiene una profundidad de 2,5 a 10 mm y una anchura de2,5 a 10 mm y donde la profundidad y la anchura del hueco (40) no difieren el uno del otro enmás de 1 mm.

3. 发明专利

PL2057300T3 Źródło jonów z wnęką w elektrodzie 未知
公开(公告)号：PL2057300T3
公开(公告)日：2013-10-31
申请号：PL07835800
申请日：2007-06-12
申请人： GUARDIAN INDUSTRIES
发明人： MURPHY NESTOR P , ROCK DAVID
IPC分类号： H01J37/08 , H01J27/02 , H01J27/14

4. 发明专利

BRPI0714331A2 未知
公开(公告)号：BRPI0714331A2
公开(公告)日：2012-12-25
申请号：BRPI0714331
申请日：2007-06-12
申请人： GUARDIAN INDUSTRIES
发明人： MURPHY NESTOR P , ROCK DAVID
IPC分类号： H01J7/24

5. 发明公开

EP2057300A4 ION SOURCE WITH RECESS IN ELECTRODE 有权
标题翻译：具有良好离子源铅
公开(公告)号：EP2057300A4
公开(公告)日：2010-10-27
申请号：EP07835800
申请日：2007-06-12
申请人： GUARDIAN INDUSTRIES
发明人： MURPHY NESTOR P , ROCK DAVID
IPC分类号： H01J7/24
CPC分类号： H01J37/08 , H01J27/024 , H01J27/143 , H01J2237/31
摘要： An ion source capable of generating and/or emitting an ion beam which may be used to deposit a layer on a substrate or to perform other functions is provided. The ion source includes at least one anode and at least one cathode. In certain example embodiments, the anode may have a recess formed therein in which ions to be included in the ion beam may accelerate. Walls of the recess optionally may be insulated using, for example, ceramic. One or more holes may be provided to allow a supply of gas to flow into the recess, and those holes optionally may be tapered such that they narrow towards the recess. Thus, certain example embodiments produce an ion source having a higher energy efficiency (e.g., having increasing ion energy).

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式