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    • 5. 发明专利
    • Система формирования электрических импульсов с использованием емкостной связи
    • RU2709822C2
    • 2019-12-23
    • RU2016127559
    • 2014-11-20
    • GEN ELECTRIC
    • CAIAFA ANTONIONECULAES VASILE BOGDANGARNER ALLEN LAWRENCETORRES ANDREW SOLIZ
    • G01N33/49A61B18/12H03K3/00
    • Изобретениеотноситсяк электрическимвоздействиямв импульснойформе, такимкакклеточнаятерапия. Системадляобработкиобразцаэлектрическимиимпульсамисодержитпамять; дисплей; пользовательскоеустройствоввода; держательобразца, содержащийпервыйэлектроди второйэлектрод, размещенныенапротивоположныхсторонахдержателяобразца, сконфигурированногодляприемаконтейнерадляобразца; схемуформированияимпульсовдляподачиимпульсанапервыйи второйэлектроды; емкостнойэлемент, внешнийпоотношениюк держателюобразцаи включенныйпоследовательномеждусхемойформированияимпульсови держателемобразца; ипроцессордлявыполненияхранящихсяв памятиинструкцийдляуправлениясхемойформированияимпульсов, котораясконфигурированадляемкостнойсвязис контейнеромдляобразца. Приэтомсхемаформированияимпульсовсодержитсхему, подключеннуюк первомуи второмуэлектродами позволяющуюимпульсуобходитьемкостнойэлемент, ипроцессорсконфигурировандляприемавводимойинформацииотпользовательскогоустройствавводадляуправлениясхемойформированияимпульсовтак, чтобыпозволитьимпульсулибообойтиемкостнойэлемент, либопройтичереземкостнойэлемент. Изобретениеобеспечиваетвозможностьбыстроговыбораоператоромиспользуемоготипаподключения, прииспользованииразныхтиповконтейнеров. 8 з.п. ф-лы, 8 ил.
    • 10. 发明专利
    • Elektronenquelle auf der Basis von Feldemittern mit minimierten Strahl-Emittanzwachstum
    • DE102009003673B4
    • 2014-02-20
    • DE102009003673
    • 2009-03-25
    • GEN ELECTRIC
    • ZOU YUNCAO YANGINZINNA LOUIS PAULNECULAES VASILE BOGDAN
    • H01J1/304H01J35/06H01J35/30
    • Elektronenkanone (10), die aufweist: ein Emitterelement (26), das dazu eingerichtet ist, einen Elektronenstrahl (28) zu erzeugen; eine Extraktionselektrode (20), die zu dem Emitterelement (26) benachbart angeordnet ist, um den Elektronenstrahl (28) von diesem zu extrahieren, wobei die Extraktionselektrode (20) eine Öffnung (24) enthält; ein Gitter (32), das in der Öffnung (24) angeordnet ist, um die Feldstärke eines elektrischen Feldes an einer Oberfläche des Emitterelementes (26) zu steuern und die Homogenität des elektrischen Feldes an der Oberfläche des Emitterelements zu verbessern; und eine Emittanz-Kompensations-Elektrode (ECE, 34), die zu dem Gitter (32) benachbart auf der Seite des Gitters (32) und dem Emitterelement (26) gegenüberliegend angeordnet ist, und die dazu eingerichtet ist, ein Emittanzwachstum des Elektronenstrahls (28), das dadurch verursacht wird, dass der Strahl (28) das Gitter (32) durchquert, durch Angleichen der elektrischen Felder, die auf beiden Seiten des Gitters (32) auftreten, zu steuern; und einen Controller (21, 54), der dazu eingerichtet ist, eine Extraktionsspannung an die Extraktionselektrode (20) und das Gitter (32) anzulegen, um eine gewünschte Stromdichte in dem Elektronenstrahl zu erzeugen und eine an die ECE (34) anzulegende Spannung zu bestimmen, wobei die Spannung zu der Extraktionsspannung korrespondiert, damit das Emittanzwachstum des Elektronenstrahls im Ort- und Impuls-Phasenraum, das dadurch verursacht wird, dass der Strahl (28) das Gitter (32) durchquert, minimiert wird; wobei aufgrund der an die ECE (34) angelegten Spannung, die elektrischen Felder, die auf beiden Seiten des Gitters (32) auftreten, gleich sind.