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1. 发明授权

US5223449A Method of making an integrated circuit composed of group III-V compound field effect and bipolar semiconductors 失效
标题翻译：制备由III-V族化合物场效应和双极半导体组成的集成电路的方法
公开(公告)号：US5223449A
公开(公告)日：1993-06-29
申请号：US692326
申请日：1991-04-26
申请人： Francis J. Morris , Donald L. Plumton , Jau-Yuann Yang , Han-Tzong Yuan
发明人： Francis J. Morris , Donald L. Plumton , Jau-Yuann Yang , Han-Tzong Yuan
IPC分类号： H01L27/06 , H01L27/082
CPC分类号： H01L27/0623 , H01L27/0605 , H01L27/0826 , Y10S148/009 , Y10S148/072
摘要： Integrated circuits and fabrication methods incorporating both NPN (192, 194, 210) and PNP (196, 121, 124) heterojunction bipolar transistors together with N channel (198, 200, 216, 218) and P channel (202, 204, 220, 222) JFETs on a single substrate as illustrated in FIG. 10. MESFETs may be also be integrated on the substrate.
摘要翻译：集成电路和制造方法将NPN（192,194,210）和PNP（196,121,124）异构双极晶体管与N沟道（198,200,216,218）和P沟道（202,204,220） 222）如图1所示的单个衬底上的JFET。 MESFET也可以集成在衬底上。

2. 发明授权

US5548141A Bipolar transistor having a self emitter contact aligned 失效
标题翻译：具有自发射体触点对准的双极晶体管
公开(公告)号：US5548141A
公开(公告)日：1996-08-20
申请号：US441847
申请日：1995-05-16
申请人： Francis J. Morris , Jau-Yuann Yang , Donald L. Plumton , Han-Tzong Yuan
发明人： Francis J. Morris , Jau-Yuann Yang , Donald L. Plumton , Han-Tzong Yuan
IPC分类号： H01L29/73 , H01L21/331 , H01L29/205 , H01L29/737 , H01L29/161
CPC分类号： H01L29/66318 , H01L29/7371 , Y10S148/011 , Y10S148/072
摘要： A method of self aligning an emitter contact includes forming a base layer (18) on a portion of a collector layer (16). An interface layer (22) is formed on the base layer (18) such that a portion of the base layer (18) remains exposed. An emitter layer (24) is formed on the collector layer (16), the interface layer (22), and the exposed portion of the base layer (18). An emitter cap layer (26) is formed on the emitter layer (24) over the previously exposed area of the base layer (18). An insulating layer (28) is formed on the interface layer (22). An emitter contact (36) is formed on the emitter cap layer (26) at the previously exposed area of the base layer (18). The insulating layer (28) isolates the emitter contact (36) from the base layer (18) and a subsequently formed base contact (38). The insulating layer (28) ensures isolation between the emitter contact (36) and the base contact (38) despite misalignment of the emitter contact (36) during formation.
摘要翻译：自发对准发射极接触的方法包括在集电极层（16）的一部分上形成基极层（18）。界面层（22）形成在基底层（18）上，使得基底层（18）的一部分保持暴露。发射极层（24）形成在集电层（16），界面层（22）和基层（18）的露出部分上。在基底层（18）的预先暴露的区域上的发射极层（24）上形成发射极覆盖层（26）。绝缘层（28）形成在界面层（22）上。在基底层（18）的预先暴露的区域处，在发射极盖层（26）上形成发射极触点（36）。绝缘层（28）将发射极触点（36）与基底层（18）和随后形成的基部触点（38）隔离开来。绝缘层（28）确保发射极触点（36）和基极触点（38）之间的隔离，尽管发射极触点（36）在形成期间未对准。

3. 发明授权

US5420052A Method of fabricating a semiplanar heterojunction bipolar transistor 失效
标题翻译：制造半平面异质结双极晶体管的方法
公开(公告)号：US5420052A
公开(公告)日：1995-05-30
申请号：US230357
申请日：1994-04-19
申请人： Francis J. Morris , Jau-Yuann Yang , Donald L. Plumton , Han-Tzong Yuan
发明人： Francis J. Morris , Jau-Yuann Yang , Donald L. Plumton , Han-Tzong Yuan
IPC分类号： H01L29/73 , H01L21/331 , H01L29/205 , H01L29/737 , H01L21/265
CPC分类号： H01L29/66318 , H01L29/7371 , Y10S148/072
摘要： A method of fabricating a semiplanar heterojunction bipolar transistor (10) includes forming a subcollector layer (12) and a collector layer (16) onto a substrate layer (14). A collector implant plug (18) is selectively implanted to connect the subcollector layer (12) to the surface of the heterojunction bipolar transistor (10). A second epitaxial growth process causes a base layer (22), an emitter layer (24), and an emitter cap layer (26) to form on the collector layer (16) and the collector implant plug (18). By this process, the base layer (22) is not exposed to subsequent harmful fabrication steps. A base plug region (28) is selectively implanted to connect the base layer (22) to the surface of the heterojunction bipolar transistor (10). A base contact (32) and an emitter contact (30) are selectively formed within the heterojunction region on the base plug region (28) and the emitter cap layer (26), respectively. Lateral parasitic diodes between the base contact (32) and the emitter contact (30) are etched away to isolate the base contact (32) from the emitter contact (30). The emitter cap layer (26), the emitter layer (24), and the base layer (22) are removed from the vicinity of the collector implant plug (18) to allow formation of the collector contact (34).
摘要翻译：制造半平面异质结双极晶体管（10）的方法包括在衬底层（14）上形成子集电极层（12）和集电极层（16）。选择性地注入集电极注入插头（18）以将子集电极层（12）连接到异质结双极晶体管（10）的表面。第二外延生长工艺使得在集电极层（16）和集电极植入插头（18）上形成基极层（22），发射极层（24）和发射极盖层（26）。通过该过程，基层（22）不暴露于随后的有害制造步骤。选择性地注入基座区域（28）以将基极层（22）连接到异质结双极晶体管（10）的表面。基极触点（32）和发射极触点（30）分别选择性地形成在基插塞区域（28）和发射极盖层（26）上的异质结区域内。基极触点（32）和发射极触点（30）之间的侧向寄生二极管被蚀刻掉以将基极触点（32）与发射极触点（30）隔离。发射极帽层（26），发射极层（24）和基底层（22）从集电极植入插头（18）的附近被去除，以形成集电极触点（34）。

4. 发明授权

US5407842A Enhanced performance bipolar transistor process 失效
标题翻译：增强性能双极晶体管工艺
公开(公告)号：US5407842A
公开(公告)日：1995-04-18
申请号：US255502
申请日：1994-06-08
申请人： Francis J. Morris , Jau-Yuann Yang , Donald L. Plumton , Han-Tzong Yuan
发明人： Francis J. Morris , Jau-Yuann Yang , Donald L. Plumton , Han-Tzong Yuan
IPC分类号： H01L21/331 , H01L27/06 , H01L29/737 , H01L21/265
CPC分类号： H01L29/66318 , H01L27/0605 , H01L29/7371 , Y10S148/01 , Y10S148/072
摘要： This is a method of forming a bipolar transistor comprising: forming a subcollector layer, having a doping type and a doping level, on a substrate; forming a first layer, of the same doping type and a lower doping level than the subcollector layer, over the subcollector layer; increasing the doping level of first and second regions of the first layer; forming a second layer, of the same doping type and a lower doping level than the subcollector layer, over the first layer; increasing the doping level of a first region of the second layer which is over the first region of the first layer, whereby the subcollector layer, the first region of the first layer and the first region of the second layer are the collector of the transistor; forming a base layer over the second layer of an opposite doping type than the subcollector layer; and forming an emitter layer of the same doping type as the subcollector layer over the base layer. Other devices and methods are also disclosed.
摘要翻译：这是一种形成双极晶体管的方法，包括：在衬底上形成具有掺杂类型和掺杂水平的子集电极层; 在子集电极层上形成与子集电极层相同的掺杂类型和较低掺杂水平的第一层; 增加第一层的第一和第二区域的掺杂水平; 在第一层上形成与子集电极层相同的掺杂类型和较低掺杂水平的第二层; 增加在第一层的第一区域之上的第二层的第一区域的掺杂水平，由此子集电极层，第一层的第一区域和第二层的第一区域是晶体管的集电极; 在与所述子集电极层相反的掺杂类型的第二层上形成基底层; 并且在基底层上形成与子集电极层相同的掺杂类型的发射极层。还公开了其它装置和方法。

5. 发明授权

US5369042A Enhanced performance bipolar transistor process 失效
标题翻译：增强性能双极晶体管工艺
公开(公告)号：US5369042A
公开(公告)日：1994-11-29
申请号：US26886
申请日：1993-03-05
申请人： Francis J. Morris , Jau-Yuann Yang , Donald L. Plumton , Han-Tzong Yuan
发明人： Francis J. Morris , Jau-Yuann Yang , Donald L. Plumton , Han-Tzong Yuan
IPC分类号： H01L21/331 , H01L27/06 , H01L29/737 , H01L21/265
CPC分类号： H01L29/66318 , H01L27/0605 , H01L29/7371 , Y10S148/01 , Y10S148/072
摘要： This is a method of forming a bipolar transistor comprising: forming a subcollector layer, having a doping type and a doping level, on a substrate; forming a first layer, of the same doping type and a lower doping level than the subcollector layer, over the subcollector layer; increasing the doping level of first and second regions of the first layer; forming a second layer, of the same doping type and a lower doping level than the subcollector layer, over the first layer; increasing the doping level of a first region of the second layer which is over the first region of the first layer, whereby the subcollector layer, the first region of the first layer and the first region of the second layer are the collector of the transistor; forming a base layer over the second layer of an opposite doping type than the subcollector layer; and forming an emitter layer of the same doping type as the subcollector layer over the base layer. Other devices and methods are also disclosed.
摘要翻译：这是一种形成双极晶体管的方法，包括：在衬底上形成具有掺杂类型和掺杂水平的子集电极层; 在子集电极层上形成与子集电极层相同的掺杂类型和较低掺杂水平的第一层; 增加第一层的第一和第二区域的掺杂水平; 在第一层上形成与子集电极层相同的掺杂类型和较低掺杂水平的第二层; 增加在第一层的第一区域之上的第二层的第一区域的掺杂水平，由此子集电极层，第一层的第一区域和第二层的第一区域是晶体管的集电极; 在与所述子集电极层相反的掺杂类型的第二层上形成基底层; 并且在基底层上形成与子集电极层相同的掺杂类型的发射极层。还公开了其它装置和方法。

6. 发明授权

US5436181A Method of self aligning an emitter contact in a heterojunction bipolar transistor 失效
标题翻译：在异质结双极晶体管中自发对准发射极接触的方法
公开(公告)号：US5436181A
公开(公告)日：1995-07-25
申请号：US229044
申请日：1994-04-18
申请人： Francis J. Morris , Jau-Yuann Yang , Donald L. Plumton , Han-Tzong Yuan
发明人： Francis J. Morris , Jau-Yuann Yang , Donald L. Plumton , Han-Tzong Yuan
IPC分类号： H01L29/73 , H01L21/331 , H01L29/205 , H01L29/737
CPC分类号： H01L29/66318 , H01L29/7371 , Y10S148/011 , Y10S148/072
摘要： A method of self aligning an emitter contact includes forming a base layer (18) on a portion of a collector layer (16). An interface layer (22) is formed on the base layer (18) such that a portion of the base layer (18) remains exposed. An emitter layer (24) is formed on the collector layer (16), the interface layer (22), and the exposed portion of the base layer (18). An emitter cap layer (26) is formed on the emitter layer (24) over the previously exposed area of the base layer (18). An insulating layer (28) is formed on the interface layer (22). An emitter contact (36) is formed on the emitter cap layer (26) at the previously exposed area of the base layer (18). The insulating layer (28) isolates the emitter contact (36) from the base layer (18) and a subsequently formed base contact (38). The insulating layer (28) ensures isolation between the emitter contact ( 36) and the base contact (38) despite misalignment of the emitter contact (36) during formation.
摘要翻译：自发对准发射极接触的方法包括在集电极层（16）的一部分上形成基极层（18）。界面层（22）形成在基底层（18）上，使得基底层（18）的一部分保持暴露。发射极层（24）形成在集电层（16），界面层（22）和基层（18）的露出部分上。在基底层（18）的预先暴露的区域上的发射极层（24）上形成发射极覆盖层（26）。绝缘层（28）形成在界面层（22）上。在基底层（18）的预先暴露的区域处，在发射极盖层（26）上形成发射极触点（36）。绝缘层（28）将发射极触点（36）与基底层（18）和随后形成的基部触点（38）隔离开来。绝缘层（28）确保发射极触点（36）和基极触点（38）之间的隔离，尽管发射极触点（36）在形成期间未对准。

7. 发明授权

US5068756A Integrated circuit composed of group III-V compound field effect and bipolar semiconductors 失效
标题翻译：由III-V族复合场效应和双极半导体组成的集成电路
公开(公告)号：US5068756A
公开(公告)日：1991-11-26
申请号：US554116
申请日：1990-07-18
申请人： Francis J. Morris , Donald L. Plumton , Jau-Yuann Yang , Han-Tzong Yuan
发明人： Francis J. Morris , Donald L. Plumton , Jau-Yuann Yang , Han-Tzong Yuan
IPC分类号： H01L27/06 , H01L27/082
CPC分类号： H01L27/0623 , H01L27/0605 , H01L27/0826
摘要： Integrated circuits and fabrication methods incorporating both NPN (192, 194, 210) and PNP (196, 121, 124) heterojunction bipolar transistors together with N channel (198, 200, 216, 218) and P channel (202, 204, 220, 222) JFETs on a single substrate as illustrated in FIG. 10. MESFETs may also be integrated on the substrate.
摘要翻译：集成电路和制造方法将NPN（192,194,210）和PNP（196,121,124）异构双极晶体管与N沟道（198,200,216,218）和P沟道（202,204,220） 222）如图1所示的单个衬底上的JFET。 MESFET也可以集成在衬底上。

8. 发明授权

US5342795A Method of fabricating power VFET gate-refill 失效
标题翻译：制造功率VFET栅极补充的方法
公开(公告)号：US5342795A
公开(公告)日：1994-08-30
申请号：US153121
申请日：1993-11-15
申请人： Han-Tzong Yuan , Donald L. Plumton , Tae S. Kim , Jau-Yuann Yang
发明人： Han-Tzong Yuan , Donald L. Plumton , Tae S. Kim , Jau-Yuann Yang
IPC分类号： H01L21/335 , H01L21/337 , H01L29/207 , H01L29/772 , H01L21/44
CPC分类号： H01L29/66454 , H01L29/207 , H01L29/66924 , H01L29/7722 , Y10S148/04
摘要： This is a method of forming a vertical transistor device comprising: forming an n-type first drain/source layer 42; patterning a portion of the first drain/source layer 42 to form a channel 44 and a trench; forming a p-type gate structure 46 in the trench; and forming a n-type second drain/source layer 48 over the gate structure 46 and the channel 44; contacting the gate structure 54; forming p-ohmic contact to the gate structure 56; forming n-ohmic source contact 54; and forming n-ohmic drain contact 58. Other devices and methods are also disclosed.
摘要翻译：这是形成垂直晶体管器件的方法，包括：形成n型第一漏极/源极层42; 图案化第一漏极/源极层42的一部分以形成沟道44和沟槽; 在沟槽中形成p型栅极结构46; 以及在栅极结构46和沟道44上形成n型第二漏极/源极层48; 接触门结构54; 与门结构56形成p欧姆接触; 形成n-欧姆源触点54; 并形成n欧姆漏极触点58.还公开了其它装置和方法。

9. 发明授权

US5468661A Method of making power VFET device 失效
标题翻译：制造电源VFET器件的方法
公开(公告)号：US5468661A
公开(公告)日：1995-11-21
申请号：US78388
申请日：1993-06-17
申请人： Han-Tzong Yuan , Donald L. Plumton , Tae S. Kim , Jau-Yuann Yang
发明人： Han-Tzong Yuan , Donald L. Plumton , Tae S. Kim , Jau-Yuann Yang
IPC分类号： H01L21/335 , H01L21/337 , H01L29/808 , H01L21/8258
CPC分类号： H01L29/66454 , H01L29/66924 , H01L29/8083
摘要： This is a method of forming a vertical transistor device comprising: forming an n-type first drain/source layer 42; patterning a portion of the first drain/source layer 42 to form a channel 44 and a trench; forming a p-type gate structure 46 in the trench; and forming a n-type second drain/source layer 48 over the gate structure 46 and the channel 44. Other devices and methods are also disclosed.
摘要翻译：这是形成垂直晶体管器件的方法，包括：形成n型第一漏极/源极层42; 图案化第一漏极/源极层42的一部分以形成沟道44和沟槽; 在沟槽中形成p型栅极结构46; 以及在栅极结构46和沟道44上形成n型第二漏极/源极层48.还公开了其它器件和方法。

10. 发明授权

US5909110A Integrated voltage regulator circuit with vertical transistor 失效
标题翻译：具有垂直晶体管的集成稳压电路
公开(公告)号：US5909110A
公开(公告)日：1999-06-01
申请号：US989840
申请日：1997-12-12
申请人： Han-Tzong Yuan , Albert H. Taddiken , Donald L. Plumton , Jau-Yuann Yang
发明人： Han-Tzong Yuan , Albert H. Taddiken , Donald L. Plumton , Jau-Yuann Yang
IPC分类号： G05F1/56 , G05F1/40
CPC分类号： G05F1/56
摘要： A voltage regulator (10) comprising a vertical channel transistor (12). The vertical channel transistor (12) may have a gate (16), a voltage input terminal (18), and a voltage output terminal (20). A reference voltage supply (14) may be coupled to the gate (16).
摘要翻译：一种包括垂直沟道晶体管（12）的电压调节器（10）。垂直沟道晶体管（12）可以具有栅极（16），电压输入端子（18）和电压输出端子（20）。参考电压源（14）可以耦合到栅极（16）。

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