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1. 发明申请

WO2011042459A1 ATMOSPHÄRENDRUCKPLASMAVERFAHREN ZUR HERSTELLUNG OBERFLÄCHENMODIFIZIERTER PARTIKEL UND VON BESCHICHTUNGEN 审中-公开
标题翻译：常压等离子体工艺用于生产表面改性的颗粒和涂料的
公开(公告)号：WO2011042459A1
公开(公告)日：2011-04-14
申请号：PCT/EP2010/064906
申请日：2010-10-06
申请人： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. , PLASMATREAT GMBH , IHDE, Jörg , WILKEN, Ralph , DEGENHARDT, Jost , KNOSPE, Alexander , BUSKE, Christian
发明人： IHDE, Jörg , WILKEN, Ralph , DEGENHARDT, Jost , KNOSPE, Alexander , BUSKE, Christian
IPC分类号： C23C14/32 , B22F1/02 , H05H1/34
CPC分类号： C23C14/325 , B22F1/02 , H05H1/2406 , H05H1/42 , H05H1/48
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung oberflächenmodifizierter Partikel in einem Atmosphärendruckplasma, sowie ein Verfahren zur Herstellung einer Beschichtung mit darin dispergierten Partikeln unter Verwendung eines Atmosphärendruckplasmas. In beiden Verfahren wird das Plasma durch eine Entladung zwischen Elektroden in einem Prozessgas erzeugt. Ferner sind beide Verfahren dadurch gekennzeichnet, dass mindestens eine der Elektroden eine Sputterelektrode ist, von der durch die Entladung Partikel abgesputtert werden. Die vorliegende Erfindung betrifft darüber hinaus Verfahren zur Herstellung von Verbundmaterialien, bei denen mit einem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellte oberflächenmodifizierte Partikel in eine Matrix eingebaut werden, sowie die Verbundmaterialien als solche. Schließlich schlägt die Erfindung auch Plasmadüsen, sowie diese enthaltende Vorrichtungen vor, mit denen die erfindungsgemäßen Verfahren zur Herstellung oberflächenmodifizierter Partikel und zur Herstellung von Beschichtungen mit darin dispergierten Partikeln vorteilhaft durchgeführt werden können. Mit den erfindungsgemäßen Verfahren können auf leichte Weise oberflächenmodifizierte Partikel und Beschichtungen mit darin dispergierten Partikeln erzeugt werden, wobei auch bei Mikro- und Nanopartikeln Agglomerationsprobleme weitgehend vermieden werden können.
摘要翻译：本发明涉及到一种用于在大气压等离子体的制备表面改性的颗粒的方法，并使用大气压等离子体具有分散在其中的颗粒用于制备涂层的方法。在这两种方法中，通过将处理气体在电极之间的放电产生的等离子体。此外，这两种方法的特征在于，所述电极的至少一个是溅射电极由通过颗粒排出溅射。本发明还涉及用于制造复合材料，其中通过本发明的方法生产的，表面改性的颗粒在并入基质，以及复合材料本身。最后，本发明还等离子体射流，以及含有这些装置提出，与根据本发明的方法可有利地用于表面改性的颗粒的制备和生产涂料的情况下进行，其中分散有颗粒。利用本发明的方法中，表面改性的颗粒，并含有分散的颗粒能够容易地形成，并且甚至可以在微米和纳米粒子凝聚的问题在很大程度上避免涂层。

2. 发明申请

WO2018141802A1 ATMOSPHÄRENDRUCKPLASMAVERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON PLASMAPOLYMEREN BESCHICHTUNGEN 审中-公开
公开(公告)号：WO2018141802A1
公开(公告)日：2018-08-09
申请号：PCT/EP2018/052421
申请日：2018-01-31
申请人： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. , PLASMATREAT GMBH
发明人： REGULA, Christoph , IHDE, Jörg , WILKEN, Ralph , DEGENHARDT, Jost , KNOSPE, Alexander , ASAD, Syed Salman , BUSKE, Christian
IPC分类号： B05D1/00 , H01M4/66 , H01M4/02
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Abscheidung einer plasmapolymeren Schicht in einem Atmosphärendruckplasma auf einem metallischen Substrat, wobei das Plasma durch eine Entladung zwischen Elektroden erzeugt wird, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens eine organische Beschichtungsvorläuferverbindung in den Bereich des relaxierenden Plasmas eingespeist und als plasmapolymere Schicht auf dem metallischen Substrat abgeschieden wird, wobei Stickstoff oder Formiergas als Prozessgas verwendet wird und die mindestens eine organische Beschichtungsvorläuferverbindung ausgewählt ist aus der Gruppe, bestehend aus heterozyklischen Verbindungen, zyklischen nicht-funktionalisierten Kohlenwasserstoffen und Kohlenwasserstoffen mit mindestens einer funktionellen Gruppe. Die Erfindung betriff überdies einen Artikel, eine Elektrode und einen Kondensator, die jeweils ein metallisches Substrat mit einer Oberfläche und einer plasmapolymeren Schicht auf der Oberfläche umfassen, ein Verfahren zur Herstellung der Elektrode, ein Verfahren zur Herstellung des Kondensators sowie eine Batteriezelle und einen Lithium-Ionen-Akkumulator die die Elektrode umfassen.

3. 发明申请

WO2015055716A1 VERFAHREN ZUR VORBEHANDLUNG EINER SUBSTRATOBERFLÄCHE UND VERFAHREN ZUR BESCHICHTUNG DER SUBSTRATOBERFLÄCHE 审中-公开
标题翻译：处理对基材表面的涂料基材表面的制备及方法
公开(公告)号：WO2015055716A1
公开(公告)日：2015-04-23
申请号：PCT/EP2014/072115
申请日：2014-10-15
申请人： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. , PLASMATREAT GMBH
发明人： IHDE, Jörg , WILKEN, Ralph , DEGENHARDT, Jost , KNOSPE, Alexander , BUSKE, Christian
IPC分类号： C25D5/56 , C23C18/20 , C23C14/22
CPC分类号： C25D5/56 , C23C4/08 , C23C4/131 , C23C18/2006
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Vorbehandlung einer Oberfläche eines Substrats (50), insbesondere für einen nachfolgenden Galvanisierungsprozess oder einen nachfolgenden elektrostatischen Beschichtungsprozess, wobei bei dem Verfahren durch eine Entladung zwischen Elektroden (16; 5, 32) in einem Prozessgas (18) ein Atmosphärendruckplasma erzeugt wird, mindestens eine der Elektroden eine Opferelektrode (16) ist, von der durch die Entladung Material abgetragen wird, es sich bei dem abgetragenen Material um leitfähige, insbesondere metallische, Partikel (30) handelt und/oder aus dem abgetragenen Material leitfähige, insbesondere metallische, Partikel (30) entstehen, und die Partikel so auf der Oberfläche des Substrats abgeschieden werden, dass die elektrische Leitfähigkeit der Oberfläche des Substrats erhöht wird. Ferner betrifft die Erfindung Verfahren zur Beschichtung einer Oberfläche eines Substrats, bei denen eine Schicht auf eine vorbehandelte Oberfläche des Substrats aufgebracht wird. Die Erfindung betrifft überdies ein durch das Vorbehandiungsverfahren erhältliches Vorbehandlungsprodukt und ein durch die Beschichtungsverfahren erhältliches Produkt.
摘要翻译：本发明涉及一种通过电极之间的放电预处理的基材（50）的表面，特别是用于后续的电镀工艺或后续的静电涂装方法，其中在所述方法（16; 5，32）的工艺气体（18），大气压等离子体中形成所述电极中的至少一个是牺牲电极（16）从通过排出材料，它是在烧蚀的材料去除是导电的，尤其是金属，颗粒物（30）和/或从所移除的材料导电，并且特别是金属颗粒（30）形成，并且所述颗粒沉积在基底的表面上，该衬底的表面的导电性提高。此外，本发明提供用于涂布，其中层被施加到所述衬底的预处理表面是关心的基板的表面的方法。本发明还涉及由该Vorbehandiungsverfahren预处理产物获得的，并且通过涂覆工艺产品的获得。

4. 发明授权

EP1230414B1 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR PLASMABESCHICHTUNG VON OBERFLÄCHEN 有权
标题翻译：方法和设备等离子表面涂覆
公开(公告)号：EP1230414B1
公开(公告)日：2004-10-06
申请号：EP00926739.4
申请日：2000-03-17
申请人： PlasmaTreat GmbH , Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V.
发明人： FÖRNSEL, Peter , BUSKE, Christian , HARTMANN, Uwe , BAALMANN, Alfred , ELLINGHORST, Guido , VISSING, Klaus-D.
IPC分类号： C23C4/12 , C23C16/513 , B05D1/08
CPC分类号： H05H1/42 , C23C4/134 , C23C8/36 , H05H1/34

5. 发明授权

EP1965833B1 VERFAHREN ZUR DESINFEKTION VON GEGENSTÄNDEN 有权转让
标题翻译：方法进行消毒物体的
公开(公告)号：EP1965833B1
公开(公告)日：2013-08-28
申请号：EP06841499.4
申请日：2006-12-20
申请人： PlasmaTreat GmbH , Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V.
发明人： BUSKE, Christian , FÖRNSEL, Peter , WUNDERLICH, Joachim
IPC分类号： A61L2/14 , H05H1/24 , H05H1/48
CPC分类号： H05H1/48 , A61L2/14

7. 发明授权

EP2486163B8 ATMOSPHÄRENDRUCKPLASMAVERFAHREN ZUR HERSTELLUNG OBERFLÄCHENMODIFIZIERTER PARTIKEL UND VON BESCHICHTUNGEN 有权转让
标题翻译： ATMOSPHÄRENDRUCKPLASMAVERFAHRENZUR HERSTELLUNGOBERFLÄCHENMODIFIZIERTERPARTIKEL UND VON BESCHICHTUNGEN
公开(公告)号：EP2486163B8
公开(公告)日：2017-03-15
申请号：EP10771052.7
申请日：2010-10-06
申请人： Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. , Plasmatreat GmbH
发明人： IHDE, Jörg , WILKEN, Ralph , DEGENHARDT, Jost , KNOSPE, Alexander , BUSKE, Christian
IPC分类号： C23C14/32 , B22F1/02 , H05H1/34
CPC分类号： C23C14/325 , B22F1/02 , H05H1/2406 , H05H1/42 , H05H1/48

8. 发明授权

EP2486163B1 ATMOSPHÄRENDRUCKPLASMAVERFAHREN ZUR HERSTELLUNG OBERFLÄCHENMODIFIZIERTER PARTIKEL UND VON BESCHICHTUNGEN 有权转让
标题翻译：大自然大自然
公开(公告)号：EP2486163B1
公开(公告)日：2017-01-11
申请号：EP10771052.7
申请日：2010-10-06
申请人： Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. , PlasmaTreat GmbH
发明人： IHDE, Jörg , WILKEN, Ralph , DEGENHARDT, Jost , KNOSPE, Alexander , BUSKE, Christian
IPC分类号： C23C14/32 , B22F1/02 , H05H1/34
CPC分类号： C23C14/325 , B22F1/02 , H05H1/2406 , H05H1/42 , H05H1/48

9. 发明申请

WO2006136467A1 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR CHARAKTERISIERUNG EINER OBERFLÄCHE EINES WERKSTÜCKES 审中-公开
标题翻译：方法和装置结构表征工件表面的
公开(公告)号：WO2006136467A1
公开(公告)日：2006-12-28
申请号：PCT/EP2006/061749
申请日：2006-04-21
申请人： PLASMATREAT GMBH , BUSKE, Christian , KNOSPE, Alexander
发明人： BUSKE, Christian , KNOSPE, Alexander
IPC分类号： G01N21/73
CPC分类号： G01N21/73
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Charakterisierung einer Oberfläche (54) eines Werkstückes (56), bei dem ein atmosphärischer Plasmastrahl (36) erzeugt wird und auf die Oberfläche gerichtet wird, bei dem das in dem Plasmastrahl im Bereich der beaufschlagten Oberfläche entstehende Licht analysiert wird (50) und bei dem die Lichtintensität in mindestens einem Spektralbereich als Maß für die Konzentration mindestens eines von der Oberfläche des Werkstückes durch Beaufschlagung mit dem atmosphärischen Plasmastrahl abgelösten Stoffes bestimmt wird. Das Verfahren kann zur Analyse der Oberfläche selbst oder die Qualität der Behandlung der Oberfläche durch den Plasmastrahl angewendet werden. Des Weiteren betrifft die Erfindung auch eine Vorrichtung zur Charakterisierung einer Oberfläche eines Werkstückes mittels eines atmosphärischen Plasmastrahls sowie eine Plasmadüse mit einer zuvor genannten Vorrichtung.
摘要翻译：本发明涉及一种用于在工件（56），其中，大气等离子体射流（36）被产生，并且被引导到表面上的表征表面（54），其中，在所施加的表面的光的区域的等离子流形成被分析（50），并且其中光强度在至少一个光谱范围确定为至少一个的由大气等离子体射流物质的施用从工件的表面分离的浓度的量度。该方法可以被施加到表面本身或由等离子体射流处理的表面的质量的分析。此外，本发明还提供了通过大气压等离子体射流和与先前提到的设备而言的等离子体的手段表征工件的表面的装置。

10. 发明申请

WO2009156390A1 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUM AUFBRINGEN EINER SCHICHT, INSBESONDERE EINER SELBSTREINIGEND UND/ODER ANTIMIKROBIELL WIRKENDEN PHOTOKATALYTISCHEN SCHICHT, AUF EINE OBERFLÄCHE 审中-公开
标题翻译：方法和装置应用层中，尤其是自清洁和/或抗菌署理光催化层的表面
公开(公告)号：WO2009156390A1
公开(公告)日：2009-12-30
申请号：PCT/EP2009/057799
申请日：2009-06-23
申请人： PlasmaTreat GmbH , BUSKE, Christian , KNOSPE, Alexander , BEER, Thomas , FEHLING, Kay
发明人： BUSKE, Christian , KNOSPE, Alexander , BEER, Thomas , FEHLING, Kay
IPC分类号： H05H1/42
CPC分类号： H05H1/42
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Aufbringen einer selbstreinigend Schicht, insbesondere einer selbstreinigend und/oder antimikrobiell wirkenden photokatalytischen, Schicht, auf eine Oberfläche, bei dem ein atmosphärischer Plasmastrahl durch elektrische Entladung in einem Arbeitsgas erzeugt wird und bei dem ein Precursormaterial getrennt vom Arbeitsgas eingebracht wird, wobei das Precursormaterial als Aerosol direkt in den Plasmastrahl eingebracht wird. Die Erfindung betrifft auch eine Vorrichtung zum atmosphärischen Plasmaauftrag einer Schicht auf eine Oberfläche, mit einer Plasmaquelle (2) zum Erzeugen eines Plasmastrahls (26) und mit einer Mischvorrichtung (3, 3', 3''), die das Einbringen eines Precursormaterials als Aerosol (34) direkt in den Plasmastrahl vorsieht.
摘要翻译：本发明涉及应用自清洁层，特别是一种自清洁和/或抗菌的光催化，涂层，被引入到在其中由放电的工作气体中产生的大气压等离子体射流的表面，并且其中的一个方法从工作气体中分离的前体材料其中所述前体材料被引入作为气溶胶直接进入等离子体射流。本发明还涉及一种用于层的大气等离子体沉积的设备上的等离子体源（2），用于产生等离子束（26）的表面，并用混合装置（3，3“ 3' ”），前体材料的掺入作为气溶胶（34）直接提供到等离子体射流。

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