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    • 2. 发明专利
    • Scratch-resistant rear projection screen and method for producing the same
    • AU2004269461B2
    • 2009-09-10
    • AU2004269461
    • 2004-03-12
    • EVONIK ROEHM GMBH
    • SCHMIDT JANNKROHMER CHRISTOPHGROOTHUES HERBERTPARUSEL MARKUSDICKHAUT-BAYER GUNTHER
    • G02B5/02
    • A back projection screen comprises at least one light scattering polymethylmethacrylate layer comprising a polymethylmethacrylate matrix and spherical particles (A) and spherical particles (B) having different average particle sizes with at least one particle type having a refractive index that is different to that of polymethylmethacrylate matrix. A back projection screen (I) comprises at least one light scattering polymethylmethacrylate layer comprising a polymethylmethacrylate matrix and spherical particles (A) and spherical particles (B) having different average particle sizes whereby (A) have an average particle size of 0.1-40 mu m and a refractive index that is different to that of polymethylmethacrylate matrix by 0.02-2 and (B) have an average particle size of 10-150 mu m and a refractive index that is different to that of polymethylmethacrylate matrix by 0-0.2 and the total concentration of (A) and (B) is 1-60 wt. % (with respect to the light scattering polymethylmethacrylate layer) such that the ratio of the concentration of particles (A) CPA , thickness of the light scattering layer d s and particle size of (A) DPA as defined by CPA.ds/DPA3 is 0.001-0.015 wt.%.mm/mu m 3> and the corresponding ratio for particles (B), CPB.ds /DPB3 is 0.000005-0.002 wt.%.mm/mu m 3> and the ratio of the square of the average surface roughness of the polymethylmethacrylate layer R z to the cube of the particle size of (B) R 2> z/DPB3 is 0.0002-0.1300 mu m -> 1>. An independent claim is included for a process for the production of the screen (I) by extrusion of a composition comprising polymethylmethacrylate, particles (A) and particles (B).
    • 3. 发明专利
    • PANTALLA DE RETROPROYECCION Y PROCESO PARA SU PRODUCCION.
    • ES2290494T3
    • 2008-02-16
    • ES03755565
    • 2003-09-27
    • EVONIK ROEHM GMBH
    • SCHMIDT JANNGROOTHUES HERBERTSCHARNKE WOLFGANGLORENZ HANSHARING HELMUTDICKHAUT-BAYER GUNTHER
    • G03B1/00G03B21/62B32B27/20
    • Pantalla de retroproyección que comprende al menos una capa de poli(metacrilato de metilo) dispersante de la luz que tiene un espesor comprendido en el intervalo de 0, 05 a 4 mm que comprende partículas esféricas de material plástico con un tamaño de grano que tiene un diámetro medio (valor medio ponderal) comprendido en el intervalo de 5 a 35 µm en una concentración comprendida en el intervalo de 2 a 60% peso, referida al peso total de la capa de poli(metacrilato de metilo) dispersante de la luz, donde las partículas esféricas de material plástico tienen un valor de refringencia medido para la línea D del sodio (589 nm) y a 20ºC, que exhibe una diferencia de índice de refracción referida a la matriz de poli(metacrilato de metilo) comprendida en el intervalo de 0, 02 a 0, 2, caracterizada porque la concentración de las partículas esféricas de material plástico cp, el espesor de la capa de poli(metacrilato de metilo) dispersante de la luz ds y el tamaño de grano de las partículas esféricas de plástico Dp se seleccionan de tal manera que la relación cp*ds/Dp 3 está comprendida en el intervalo de 0, 0015 a 0, 015% peso*mm/µm 3 y la relación de la rugosidad superficial media de la capa de poli(metacrilato de metilo) Ra según DIN 4768 al tamaño de grano de las partículas esféricas de material plástico Dp está comprendida en el intervalo de 0, 05 a 0, 4.