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1. 发明授权

US08111921B2 Method and apparatus for performing model-based OPC for pattern decomposed features 有权
标题翻译：用于模式分解特征执行基于模型的OPC的方法和装置
公开(公告)号：US08111921B2
公开(公告)日：2012-02-07
申请号：US11898646
申请日：2007-09-13
申请人： Duan-Fu Stephen Hsu , Jung Chul Park , Douglas Van Den Broeke , Jang Fung Chen
发明人： Duan-Fu Stephen Hsu , Jung Chul Park , Douglas Van Den Broeke , Jang Fung Chen
IPC分类号： G06K9/00 , G06F17/50 , H04N7/16
CPC分类号： G06T7/0004 , G03F1/36 , G03F1/70 , G03F7/70466 , G03F7/70475
摘要： A method for decomposing a target circuit pattern containing features to be imaged into multiple patterns. The process includes the steps of separating the features to be printed into a first pattern and a second pattern; performing a first optical proximity correction process on the first pattern and the second pattern; determining an imaging performance of the first pattern and the second pattern; determining a first error between the first pattern and the imaging performance of the first pattern, and a second error between the second pattern and the imaging performance of said second pattern; utilizing the first error to adjust the first pattern to generate a modified first pattern; utilizing the second error to adjust the second pattern to generate a modified second pattern; and applying a second optical proximity correction process to the modified first pattern and the modified second pattern.
摘要翻译：一种用于将包含要成像的特征的目标电路图案分解为多个图案的方法。该方法包括将待印刷的特征分离成第一图案和第二图案的步骤; 对所述第一图案和所述第二图案执行第一光学邻近校正处理; 确定所述第一图案和所述第二图案的成像性能; 确定所述第一图案和所述第一图案的成像性能之间的第一误差，以及所述第二图案和所述第二图案的成像性能之间的第二误差; 利用第一误差来调整第一图案以产生修改的第一图案; 利用第二误差来调整第二图案以产生修改的第二图案; 以及对修改的第一图案和修改的第二图案应用第二光学邻近校正处理。

2. 发明申请

US20130182940A1 Method and Apparatus for Performing Model-Based OPC for Pattern Decomposed Features 失效
标题翻译：用于对模式分解特征执行基于模型的OPC的方法和装置
公开(公告)号：US20130182940A1
公开(公告)日：2013-07-18
申请号：US13786249
申请日：2013-03-05
申请人： Duan-Fu Stephen Hsu , Jung Chul Park , Douglas Van Den Broeke , Jang Fung Chen
发明人： Duan-Fu Stephen Hsu , Jung Chul Park , Douglas Van Den Broeke , Jang Fung Chen
IPC分类号： G06T7/00
CPC分类号： G06T7/0004 , G03F1/36 , G03F1/70 , G03F7/70466 , G03F7/70475
摘要： A method for decomposing a target circuit pattern containing features to be imaged into multiple patterns. The process includes the steps of separating the features to be printed into a first pattern and a second pattern; performing a first optical proximity correction process on the first pattern and the second pattern; determining an imaging performance of the first pattern and the second pattern; determining a first error between the first pattern and the imaging performance of the first pattern, and a second error between the second pattern and the imaging performance of said second pattern; utilizing the first error to adjust the first pattern to generate a modified first pattern; utilizing the second error to adjust the second pattern to generate a modified second pattern; and applying a second optical proximity correction process to the modified first pattern and the modified second pattern.
摘要翻译：一种用于将包含要成像的特征的目标电路图案分解为多个图案的方法。该方法包括将待印刷的特征分离成第一图案和第二图案的步骤; 对所述第一图案和所述第二图案执行第一光学邻近校正处理; 确定所述第一图案和所述第二图案的成像性能; 确定所述第一图案和所述第一图案的成像性能之间的第一误差，以及所述第二图案和所述第二图案的成像性能之间的第二误差; 利用第一误差来调整第一图案以产生修改的第一图案; 利用第二误差来调整第二图案以产生修改的第二图案; 以及对修改的第一图案和修改的第二图案应用第二光学邻近校正处理。

3. 发明授权

US08391605B2 Method and apparatus for performing model-based OPC for pattern decomposed features 失效
标题翻译：用于模式分解特征执行基于模型的OPC的方法和装置
公开(公告)号：US08391605B2
公开(公告)日：2013-03-05
申请号：US13358497
申请日：2012-01-25
申请人： Duan-Fu Stephen Hsu , Jung Chul Park , Douglas Van Den Broeke , Jang Fung Chen
发明人： Duan-Fu Stephen Hsu , Jung Chul Park , Douglas Van Den Broeke , Jang Fung Chen
IPC分类号： G06K9/00 , G06F17/50
CPC分类号： G06T7/0004 , G03F1/36 , G03F1/70 , G03F7/70466 , G03F7/70475
摘要： A method for decomposing a target circuit pattern containing features to be imaged into multiple patterns. The process includes the steps of separating the features to be printed into a first pattern and a second pattern; performing a first optical proximity correction process on the first pattern and the second pattern; determining an imaging performance of the first pattern and the second pattern; determining a first error between the first pattern and the imaging performance of the first pattern, and a second error between the second pattern and the imaging performance of said second pattern; utilizing the first error to adjust the first pattern to generate a modified first pattern; utilizing the second error to adjust the second pattern to generate a modified second pattern; and applying a second optical proximity correction process to the modified first pattern and the modified second pattern.
摘要翻译：一种用于将包含要成像的特征的目标电路图案分解为多个图案的方法。该方法包括将待印刷的特征分离成第一图案和第二图案的步骤; 对所述第一图案和所述第二图案执行第一光学邻近校正处理; 确定所述第一图案和所述第二图案的成像性能; 确定所述第一图案和所述第一图案的成像性能之间的第一误差，以及所述第二图案和所述第二图案的成像性能之间的第二误差; 利用第一误差来调整第一图案以产生修改的第一图案; 利用第二误差来调整第二图案以产生修改的第二图案; 以及对修改的第一图案和修改的第二图案应用第二光学邻近校正处理。

4. 发明授权

US07892703B2 CPL mask and a method and program product for generating the same 有权
标题翻译： CPL掩码和用于生成CPL掩码的方法和程序产品
公开(公告)号：US07892703B2
公开(公告)日：2011-02-22
申请号：US11501916
申请日：2006-08-10
申请人： Jang Fung Chen , Duan-Fu Stephen Hsu , Douglas Van Den Broeke , Jung Chul Park , Thomas Laidig
发明人： Jang Fung Chen , Duan-Fu Stephen Hsu , Douglas Van Den Broeke , Jung Chul Park , Thomas Laidig
IPC分类号： G03F1/00 , G03F7/00
CPC分类号： G03F1/34 , G03F1/32
摘要： A method of generating a mask for printing a pattern including a plurality of features. The method includes the steps of obtaining data representing the plurality of features; and forming at least one of the plurality of features by etching a substrate to form a mesa and depositing a chrome layer over the entire upper surface of the mesa, where said mesa has a predetermined height.
摘要翻译：一种生成用于打印包括多个特征的图案的掩模的方法。该方法包括获取表示多个特征的数据的步骤; 以及通过蚀刻基底以形成台面并在所述台面的整个上表面上沉积铬层，形成所述多个特征中的至少一个，其中所述台面具有预定高度。

5. 发明申请

US20120122023A1 Method and Apparatus for Performing Model-Based OPC for Pattern Decomposed Features 失效
标题翻译：用于对模式分解特征执行基于模型的OPC的方法和装置
公开(公告)号：US20120122023A1
公开(公告)日：2012-05-17
申请号：US13358497
申请日：2012-01-25
申请人： Duan-Fu Stephen Hsu , Jung Chul Park , Douglas Van Den Broeke , Jang Fung Chen
发明人： Duan-Fu Stephen Hsu , Jung Chul Park , Douglas Van Den Broeke , Jang Fung Chen
IPC分类号： G03F1/36 , G06F17/50
CPC分类号： G06T7/0004 , G03F1/36 , G03F1/70 , G03F7/70466 , G03F7/70475
摘要： A method for decomposing a target circuit pattern containing features to be imaged into multiple patterns. The process includes the steps of separating the features to be printed into a first pattern and a second pattern; performing a first optical proximity correction process on the first pattern and the second pattern; determining an imaging performance of the first pattern and the second pattern; determining a first error between the first pattern and the imaging performance of the first pattern, and a second error between the second pattern and the imaging performance of said second pattern; utilizing the first error to adjust the first pattern to generate a modified first pattern; utilizing the second error to adjust the second pattern to generate a modified second pattern; and applying a second optical proximity correction process to the modified first pattern and the modified second pattern.
摘要翻译：一种用于将包含要成像的特征的目标电路图案分解为多个图案的方法。该方法包括将待印刷的特征分离成第一图案和第二图案的步骤; 对所述第一图案和所述第二图案执行第一光学邻近校正处理; 确定所述第一图案和所述第二图案的成像性能; 确定所述第一图案和所述第一图案的成像性能之间的第一误差，以及所述第二图案和所述第二图案的成像性能之间的第二误差; 利用第一误差来调整第一图案以产生修改的第一图案; 利用第二误差来调整第二图案以产生修改的第二图案; 以及对修改的第一图案和修改的第二图案应用第二光学邻近校正处理。

6. 发明授权

US07100672B2 Device for cooling die casting metallic pattern 有权
标题翻译：用于冷却压铸金属图案的装置
公开(公告)号：US07100672B2
公开(公告)日：2006-09-05
申请号：US10983224
申请日：2004-11-04
申请人： Jung Chul Park
发明人： Jung Chul Park
IPC分类号： B22D27/04
CPC分类号： B22D17/2218 , B22D27/04
摘要： While a die cast product is produced by a die casting method, an overheated portion of a low pressure die casting metallic pattern is effectively cooled by circulating a cool air and/or a coolant. Therefore, a solidification period of a molten metal in a cavity is minimized, and a quality of products and a durability of the metallic pattern are improved.
摘要翻译：虽然通过压铸方法制造压铸产品，但是通过使冷空气和/或冷却剂循环来有效地冷却低压压铸金属图案的过热部分。因此，空腔中的熔融金属的凝固时间被最小化，并且提高了产品的质量和金属图案的耐久性。

7. 发明申请

US20080144969A1 Method for performing pattern decomposition based on feature pitch 有权
标题翻译：基于特征间距进行图案分解的方法
公开(公告)号：US20080144969A1
公开(公告)日：2008-06-19
申请号：US11898648
申请日：2007-09-13
申请人： Jung Chul Park
发明人： Jung Chul Park
IPC分类号： G06K9/36
CPC分类号： G03F1/70
摘要： A method for decomposing a target pattern containing features to be printed on a wafer. The method includes the steps of: (a) defining a kernel representing a function having positive values within an inner radius and negative values in an outer radius; (b) defining the features utilizing a plurality of pixels; (c) disposing the kernel over a first pixel of the plurality of pixels; (d) determining the value of the kernel at location of each of the plurality of pixels, storing the value for each of the plurality of pixels so as to define a pixel value for each of the plurality of pixels; (e) adding a previously stored value associated with a given pixel of the plurality of pixels with the pixel value of the given pixel determined in step (d); (f) disposing the kernel over another pixel of the plurality of pixels, and repeating steps (d)-(f) until each of the plurality of pixels has been processed; and (g) determining placement of the pixel in a first pattern or a second pattern based on the pixel value of the given pixel.
摘要翻译：一种用于分解包含要印刷在晶片上的特征的目标图案的方法。该方法包括以下步骤：（a）定义表示在内半径内具有正值的函数的内核和外半径的负值; （b）利用多个像素定义特征; （c）将所述核放置在所述多个像素的第一像素上; （d）确定所述多个像素中的每一个的位置处的所述核的值，存储所述多个像素中的每一个的所述值，以便为所述多个像素中的每一个定义像素值; （e）将与所述多个像素的给定像素相关联的先前存储的值与步骤（d）中确定的给定像素的像素值相加; （f）将所述核设置在所述多个像素中的另一像素上，并且重复步骤（d） - （f），直到所述多个像素中的每一个已被处理为止; 以及（g）基于给定像素的像素值确定第一图案或第二图案中的像素的位置。

8. 发明授权

US08615126B2 Method for performing pattern decomposition based on feature pitch 失效
标题翻译：基于特征间距进行图案分解的方法
公开(公告)号：US08615126B2
公开(公告)日：2013-12-24
申请号：US13170126
申请日：2011-06-27
申请人： Jung Chul Park
发明人： Jung Chul Park
IPC分类号： G06K9/00
CPC分类号： G03F1/70
摘要： The present invention discloses a method for decomposing a target pattern containing features to be printed on a wafer, into multiple patterns, the features having a plurality of patterns within a minimum pitch for processes utilized to image the target pattern. The method includes superposing a predefined kernel over a pixel, and moving the kernel from one pixel to another, the pixels representing the sub-patterns of the target pattern. Polarity of the kernel may be reversed when the pixel has a stored intensity value that is negative.
摘要翻译：本发明公开了一种用于将包含待印刷的特征的目标图案分解成多个图案的方法，所述特征具有用于对目标图案成像的处理的最小间距内的多个图案。该方法包括在像素上叠加预定义的内核，并将内核从一个像素移动到另一个像素，像素表示目标图案的子图案。当像素具有存储的负值的强度值时，内核的极性可能会反转。

9. 发明申请

US20110317908A1 Method for Performing Pattern Decomposition Based on Feature Pitch 失效
标题翻译：基于特征间距执行图案分解的方法
公开(公告)号：US20110317908A1
公开(公告)日：2011-12-29
申请号：US13170126
申请日：2011-06-27
申请人： Jung Chul Park
发明人： Jung Chul Park
IPC分类号： G06K9/00
CPC分类号： G03F1/70
摘要： The present invention discloses a method for decomposing a target pattern containing features to be printed on a wafer, into multiple patterns, the features having a plurality of patterns within a minimum pitch for processes utilized to image the target pattern. The method includes superposing a predefined kernel over a pixel, and moving the kernel from one pixel to another, the pixels representing the sub-patterns of the target pattern. Polarity of the kernel may be reversed when the pixel has a stored intensity value that is negative.
摘要翻译：本发明公开了一种用于将包含待印刷的特征的目标图案分解成多个图案的方法，所述特征具有用于对目标图案成像的处理的最小间距内的多个图案。该方法包括在像素上叠加预定义的内核，并将内核从一个像素移动到另一个像素，像素表示目标图案的子图案。当像素具有存储的负值的强度值时，内核的极性可能会反转。

10. 发明授权

US07970198B2 Method for performing pattern decomposition based on feature pitch 有权
标题翻译：基于特征间距进行图案分解的方法
公开(公告)号：US07970198B2
公开(公告)日：2011-06-28
申请号：US11898648
申请日：2007-09-13
申请人： Jung Chul Park
发明人： Jung Chul Park
IPC分类号： G06K9/00 , G06K9/46
CPC分类号： G03F1/70
摘要： A method for decomposing a target pattern containing features to be printed on a wafer. The method includes the steps of: (a) defining a kernel representing a function having positive values within an inner radius and negative values in an outer radius; (b) defining the features utilizing a plurality of pixels; (c) disposing the kernel over a first pixel of the plurality of pixels; (d) determining the value of the kernel at location of each of the plurality of pixels, storing the value for each of the plurality of pixels so as to define a pixel value for each of the plurality of pixels; (e) adding a previously stored value associated with a given pixel of the plurality of pixels with the pixel value of the given pixel determined in step (d); (f) disposing the kernel over another pixel of the plurality of pixels, and repeating steps (d)-(f) until each of the plurality of pixels has been processed; and (g) determining placement of the pixel in a first pattern or a second pattern based on the pixel value of the given pixel.
摘要翻译：一种用于分解包含要印刷在晶片上的特征的目标图案的方法。该方法包括以下步骤：（a）定义表示在内半径内具有正值的函数的内核和外半径的负值; （b）利用多个像素定义特征; （c）将所述核放置在所述多个像素的第一像素上; （d）确定所述多个像素中的每一个的位置处的所述核的值，存储所述多个像素中的每一个的所述值，以便为所述多个像素中的每一个定义像素值; （e）将与所述多个像素的给定像素相关联的先前存储的值与步骤（d）中确定的给定像素的像素值相加; （f）将所述核设置在所述多个像素中的另一像素上，并且重复步骤（d） - （f），直到所述多个像素中的每一个已被处理为止; 以及（g）基于给定像素的像素值确定第一图案或第二图案中的像素的位置。

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