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1. 发明专利

JP6321566B2 銀ナノワイヤの製造方法並びに銀ナノワイヤおよびそれを用いたインク有权
公开(公告)号：JP6321566B2
公开(公告)日：2018-05-09
申请号：JP2015041062
申请日：2015-03-03
申请人： DOWAホールディングス株式会社
发明人：齋藤宏敏 , 兒玉大輔 , 佐藤王高
IPC分类号： B22F9/24
CPC分类号： B22F1/0025 , B22F1/0022 , B22F1/02 , B22F9/24 , B22F2009/245 , B22F2301/255 , B22F2302/45 , B22F2304/054 , B22F2998/10 , C09D11/52 , H01B1/02 , H01B1/023 , H01B1/22

2. 发明专利

JP2017054255A 紙基材を用いたRFIDタグ基材およびRFIDタグ审中-公开
公开(公告)号：JP2017054255A
公开(公告)日：2017-03-16
申请号：JP2015176871
申请日：2015-09-08
申请人： DOWAホールディングス株式会社
发明人：吉原大貴 , 齋藤宏敏 , 山下修次 , 伊東大輔
IPC分类号： G06K19/077 , G06K19/02
摘要：【課題】紙基材表面にアンテナ回路を形成したRFIDタグの耐候性を改善する。【解決手段】表面にUVメジウム層を有する紙基材1のUVメジウム層上に銀導電膜からなる導電回路2を設けたRFIDタグ基材3と、貴金属めっき被覆層8を設けた金属製バンプ4を持つICチップ5とを有し、導電回路2と金属製バンプ4が電気的に接続している。【選択図】図2

3. 发明专利

JP2015180772A 銀ナノワイヤの製造方法並びに銀ナノワイヤおよびそれを用いたインク有权
标题翻译：银纳米线，银纳米线和使用其的墨水的生产方法
公开(公告)号：JP2015180772A
公开(公告)日：2015-10-15
申请号：JP2015041062
申请日：2015-03-03
申请人： DOWAホールディングス株式会社
发明人：齋藤宏敏 , 兒玉大輔 , 佐藤王高
IPC分类号： C22C5/06 , B22F1/00 , B22F1/02 , H01B13/00 , H01B5/00 , H01B1/22 , H01B1/02 , H01B1/00 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , B22F9/24
CPC分类号： B22F1/0025 , B22F1/00 , B22F1/0022 , B22F1/02 , B22F9/00 , B22F9/24 , C09D11/52 , H01B1/02 , H01B1/023 , B22F2009/245 , B22F2301/255 , B22F2302/45 , B22F2304/054 , B22F2998/10
摘要：【課題】透明導電体の製造に適した、細く、長い銀ナノワイヤの安定した製造方法、及び液状媒体中での分散安定性の改善された有効な銀ナノワイヤの提供。【解決手段】銀化合物を溶解させたアルコール溶媒中で銀をワイヤ状に還元析出させる銀ナノワイヤの製造方法。塩化物、臭化物、アルカリ金属水酸化物、アルミニウム塩及び有機保護剤が溶解しているアルコール溶媒中で析出を進行させること、溶媒に溶解させるアルミニウム塩のAl総量とアルカリ金属水酸化物の水酸化物イオン総量とのモル比Al/OHを0.01〜0.40とし、溶媒に溶解させるアルカリ金属水酸化物の水酸化物イオン総量と銀化合物のAg総量とのモル比OH/Agを0.005〜0.50とする、銀ナノワイヤの製造方法。前記銀ナノワイヤは平均直径で50nm以下、平均長さ10μm以上であり、平均アスペクト比が250以上である。前記有機保護剤はポリビニルピロドン系重合体である。【選択図】図5
摘要翻译：要解决的问题：提供一种薄且长且适于制造透明导体的银纳米线的稳定制造方法，以及在液体介质中具有改善的分散稳定性的有效的银纳米线。溶液：银纳米线的制造方法包括在其中溶解有银化合物的醇溶剂中还原和沉淀出线形式的银。在银纳米线的制造方法中，在氯化物，溴化物，碱金属氢氧化物，铝盐和有机保护剂溶解的醇溶剂中进行沉淀，溶解在溶剂中的铝盐的总Al量与溶解在溶剂中的碱金属氢氧化物中的氢氧化物离子总量的摩尔比Al / OH为0.01〜0.40; 将溶解在溶剂中的碱金属氢氧化物中的氢氧根离子的总量的OH / Ag与溶解在溶剂中的银化合物的总Ag量的摩尔比OH / Ag设定为0.005〜0.50。银纳米线的平均直径为50nm以下，平均长度为10μm以上，平均长径比为250以上。有机保护剂是聚乙烯吡咯烷酮类聚合物。

4. 发明专利

JP2019115905A 長さ分布の均一性が改善された銀ナノワイヤの製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2019115905A
公开(公告)日：2019-07-18
申请号：JP2019016425
申请日：2019-01-31
申请人： DOWAホールディングス株式会社
发明人：佐藤王高 , 齋藤宏敏 , 兒玉大輔
IPC分类号： B01D39/20 , B01D29/11 , B07B1/00 , B82Y40/00 , B22F1/00 , B03B5/00
摘要：【課題】短いナノワイヤの存在率が少ない、長さ分布の均一性が改善された銀ナノワイヤを製造する。【解決手段】水銀圧入法による平均細孔直径が1.0μm以上である多孔質SiCで形成された管を用いた管状流路内に、液状媒体の流れに随伴して銀ナノワイヤを流し、流れている一部の銀ナノワイヤを一部の液状媒体とともに前記多孔質SiCの多孔体構造の空隙を通して前記管状流路の外に排出させ、前記管状流路の外に排出されずに当該流路を流れ進んだ銀ナノワイヤを回収することによって、銀ナノワイヤの長さ分布において長いワイヤの存在割合を増大させる、精製された銀ナノワイヤの製造方法。【選択図】図2

5. 发明专利

JP2016055283A 長さ分布の均一性が改善された金属ナノワイヤの製造方法审中-公开
标题翻译：生产长度分布改善均匀性的金属纳米管的方法
公开(公告)号：JP2016055283A
公开(公告)日：2016-04-21
申请号：JP2015173734
申请日：2015-09-03
申请人： DOWAホールディングス株式会社
发明人：佐藤王高 , 齋藤宏敏 , 兒玉大輔
IPC分类号： B22F1/00 , H01B13/00 , B01D29/11 , B01D24/42 , B01D29/92 , B01D29/90 , B03B5/00 , B82Y40/00 , B01J19/00
CPC分类号： B01D29/17 , B01D29/25 , B01J19/00 , B22F1/00 , B82Y40/00
摘要：【課題】短いナノワイヤの存在率が少ない、長さ分布の均一性が改善された金属ナノワイヤを製造する。【解決手段】水銀圧入法による平均細孔直径が1.0μm以上である多孔質セラミックフィルタを流路壁面に有する管状流路内に、液状媒体の流れに随伴して金属ナノワイヤを流し、流れている一部の金属ナノワイヤを一部の液状媒体とともに前記多孔質セラミックフィルタを通して前記管状流路の外に排出させ、前記管状流路の外に排出されずに当該流路を流れ進んだ金属ナノワイヤを回収する、長さ分布の均一性に優れる金属ナノワイヤの製造方法。【選択図】図2
摘要翻译：要解决的问题：制备具有短的纳米线的小存在比的具有改善的长度分布均匀性的金属纳米线。解决方案：提供一种具有优异的长度分布均匀性的金属纳米线的制造方法，其包括：使金属纳米线流动伴随流动管状流动通道中的液体介质，其在流动通道的壁表面上具有多孔陶瓷过滤器，所述过滤器通过汞压入法测量的平均孔径为1.0μm以上; 将一部分流动的纳米线与管状流动通道一起通过多孔陶瓷过滤器与液体介质的一部分一起排出; 并且回收流过流动通道而不被排出管状流动通道的金属纳米线。选择的图示：图2

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