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热词
    • 1. 发明专利
    • Method of treating surface to protect the same
    • 处理表面以保护相同方法
    • JP2014111846A
    • 2014-06-19
    • JP2014024742
    • 2014-02-12
    • Chevron Phillips Chemical Co Lpシェブロン フィリップス ケミカル カンパニー エルピー
    • ROBERT L HISEGEOFFREY E SCANLONJOSEPH BERGMEISTER IIIDANIEL B KNORR
    • C23C24/08
    • C10G35/04C10G75/00C23C4/18C23C26/00C23C28/021C23C28/023
    • PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of increasing the resistance of reactor systems to degradative processes such as carburization, halide stress corrosion cracking, metal dusting (a corrosive phenomenon by carburization) and/or coking.SOLUTION: There are provided: a method of treating a substrate by applying a layer of at least one metal to the substrate to form an applied metal layer on the substrate and followed by curing of the applied metal layer at sub-atmospheric pressure to form a metal protective layer; a method of treating a substrate by applying a layer of at least one metal to a substrate of an unassembled component of a reactor system to form an applied metal layer on the substrate of the unassembled component; and a method of treating a substrate by applying a layer of at least one metal to the substrate to form an applied metal layer, curing the applied metal layer at a first temperature and pressure for a first period of time, and curing the applied metal layer at a second temperature and pressure for a second period of time, wherein the curing forms a metal protective layer.
    • 要解决的问题:提供一种提高反应器系统对渗碳,卤化物应力腐蚀开裂,金属粉尘(渗碳腐蚀现象)和/或焦化等降解过程的阻力的方法。解决方案:提供一种方法 通过将至少一种金属层施加到所述基板上以在所述基板上形成施加的金属层并随后在亚大气压下固化所施加的金属层以形成金属保护层来处理基板; 通过将至少一种金属层施加到反应器系统的未组装组分的衬底上来处理衬底以在未组装组件的衬底上形成施加的金属层的方法; 以及通过将至少一种金属层施加到所述基板以形成施加的金属层来处理基板的方法,在第一温度和压力下固化所施加的金属层第一时间段,并且将所施加的金属层固化 在第二温度和压力下持续第二时间段,其中所述固化形成金属保护层。
    • 2. 发明专利
    • CATALIZADOR DE HIDROGENACION SELECTIVA Y METODOS DE ELABORACION Y USO DEL MISMO
    • AR092477A1
    • 2015-04-22
    • ARP130103188
    • 2013-09-06
    • CHEVRON PHILLIPS CHEMICAL CO LPBASF CORP
    • TIN CHEUNGSTEPHEN L TACK PETER - KELLYJOSEPH BERGMEISTER IIIMICHAEL JOSEPH BREENJOSEPH C DELLAMORTEDANA REHMS MOONEY
    • B01J21/04B01J23/44B01J23/56B01J35/10B01J37/00
    • Una composición que comprende un soporte que se forma a partir de una alúmina de gran área superficial y con una forma de partícula poco angulosa; y por lo menos un metal catalíticamente activo, donde el soporte tiene poros, un volumen total de poro, y una distribución de tamaños de poro determinados; donde la distribución de tamaños de poro muestra por lo menos dos picos de los diámetros de poro, donde cada pico tiene un máximo; de los cuales un primer pico tiene un primer máximo del diámetro de poro que es mayor o igual a aproximadamente 200 nm y un segundo pico tiene un segundo máximo del diámetro de poro que es menor que aproximadamente 200 nm; y donde una fracción mayor o igual a aproximadamente 5% del total del volumen de poro del soporte está contenido dentro del primer pico de los diámetros de poro. Reivindicación 21: Un método para preparar un catalizador de hidrogenación caracterizado porque comprende: dar forma a una mezcla que comprende una alúmina de gran área superficial, un formador de poros, y agua para crear un soporte con forma, donde el soporte con forma comprende una forma de partícula poco angulosa; secar el soporte con forma para obtener un soporte seco calcinar el soporte seco para formar y un soporte calcinado poner en contacto al soporte calcinado con un compuesto que contiene cloro para formar un soporte clorado; reducir la cantidad de cloruro presente en el soporte clorado para formar un soporte limpio; y poner en contacto al soporte limpio con un metal del grupo 10 y un metal del grupo 1B para formar un catalizador de hidrogenación, donde la distribución de tamaño de poro del catalizador de hidrogenación muestra por lo menos dos picos de los diámetros de poro, donde cada pico tiene un máximo, de los cuales un primer pico tiene un primer máximo del diámetro de poro que es mayor igual a aproximadamente 200 nm y un segundo pico tiene un segundo máximo del diámetro de poro que es menor de aproximadamente 200 nm.