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1. 发明公开

EP2466613A2 Korrektor 有权
公开(公告)号：EP2466613A2
公开(公告)日：2012-06-20
申请号：EP11009523.9
申请日：2011-12-02
申请人： Ceos Corrected Electron Optical Systems GmbH
发明人： Zach, Joachim, Dr. , Uhlemann, Stephan, Dr.
IPC分类号： H01J37/153 , H01J37/28
CPC分类号： H01J37/153 , H01J2237/1534 , H01J2237/28 , H01J2237/2802
摘要： Die Erfindung betrifft einen Korrektor (10) für die Farb- und Öffnungsfehlerkorrektur bei einem Elektronenmikroskop mit im Strahlengang (7) nacheinander symmetrisch zu einer Symmetrieebene (8) angeordneten sechs Multipolelementen (1, 2, 3, 4, 5, 6), von denen alle zur Erzeugung von Quadrupolfeldern (1', 2', 3', 4', 5', 6') und das dritte (3) und vierte (4) auch zur Erzeugung von Oktupolfeldern (3", 4") dienen, wobei letztere gleichgerichtet und die Quadrupolfelder (1', 2', 3', 4', 5', 6') aller sechs Multipolelemente (1, 2, 3, 4, 5, 6) von einem zum nächsten um 90° gedreht und bezüglich Ihrer Feldstärken punktsymmetrisch zum Schnittpunkt der optischen Achse (11) mit der Symmetrieebene (8) sind, wobei durch das Zusammenwirken der als magnetische und elektrische Felder (3', 4') ausgebildeten Quadrupolfelder (3', 4') des dritten (3) und vierten (4) Multipolelements eine Farbfehlerkorrektur sowie mittels der Quadrupolfelder (1', 2', 3', 4', 5', 6') und der Oktupolfelder (3", 4") eine Öffnungsfehlerkorrektur möglich ist.
Ein solcher Korrektor (10) wird erfindungsgemäß dadurch gegenüber Schwankungen der elektrischen Energieversorgung unempfindlicher, daß im Quadrupolfeld (1') des ersten Quadrupolelements (1) ein stigmatisches Zwischenbild (9) der axialen Fundamentalbahnen (x α , y β ) entsteht und dieses Quadrupolfeld (1') derart eingestellt ist, daß astigmatische Zwischenbilder (12, 13) der außeraxialen Fundamentalbahnen (x γ , y δ ) im Bereich der Mitte der Quadrupolfelder (3', 4') des dritten (3) und vierten Multipolelements (4) entstehen und dort auch durch die Einstellung des Quadrupolfeldes (2') des zweiten Quadrupolelements (2) die axialen Fundamentalbahnen (x α , y β ) des gleichen Schnitts (x, y), in dem die Zwischenbilder (12, 13) der außeraxialen Fundamentalbahnen (x γ , y δ ) liegen, jeweils ein Maximum aufweisen.
摘要翻译：校正器（10）设置有布置在与对称平面（8）相邻对称的光束路径（7）中的六个多极元件（1,2,3,4,5,6）。所有的多极元件用于产生四极场。在前四极元件的前四极场中存在轴向基本路径的一个耻骨中间图像。

2. 发明公开

EP1995758A3 Monochromator und Teilchenstrahlquelle mit Monochromator 有权
标题翻译：单色仪和粒子与单色束源
公开(公告)号：EP1995758A3
公开(公告)日：2010-06-30
申请号：EP08008712.5
申请日：2008-05-09
申请人： Ceos Corrected Electron Optical Systems GmbH
发明人： Uhlemann, Stephan, Dr.
IPC分类号： H01J37/05 , H01J37/153 , H01J37/26 , H01J49/48
CPC分类号： H01J37/153 , H01J37/05 , H01J37/26 , H01J49/48 , H01J2237/057 , H01J2237/1534 , H01J2237/1538
摘要： Die Erfindung betrifft einen Monochromator (1) für eine Ladungsteilchenoptik, insbesondere für die Elektronenmikroskopie, mit mindestens einem ersten Ablenkelement (2, 3) mit einem elektrostatischen Ablenkfeld (2', 3') zur Erzeugung einer Dispersion (4) in der Ebene (5) einer Selektionsblende (6) zur Selektion der Ladungsteilchen des gewünschten Energieintervalls (7) und mindestens einem zweiten Ablenkelement (8, 9) mit einem elektrostatischen Ablenkfeld (8', 9'), das die Dispersion (4) des mindestens einen ersten Ablenkfeldes (2', 3') eliminiert. Sie betrifft auch eine Strahlenquelle (17) mit einem derartigen Monochromator (1).
Eine möglichst hohe Monochromasie ohne fehlerbedingte Intensitätskontraste wird dabei dadurch erzielt, daß die Ablenkelemente (2, 3, 8, 9) derart von einer sphärischen Form abweichend ausgebildet und ihre Elektroden (24, 25) mit einem derartigen Potential (ϕ+, ϕ-) beaufschlagt sind, daß Ladungsteilchen (x α , y β ), die in verschiedenen Schnitten (x, y) jeweils unter einem Winkel (α, β) virtuell in das Bild der Strahlquelle (17) einlaufen, derart unterschiedlich fokussiert werden, daß es ausschließlich in der Ebene (5) der Selektionsblende (6) zu einer Punktfokussierung (10, 10', 10") von Ladungsteilchen (x α , y β ) einer Energie kommt, da nur dort Nulldurchgänge (11, 12) der Auslenkungen (A) der Ladungsteilchen (x α , y β ) der verschiedenen Schnitte (x, y) bei der gleichen Achsposition (z, E) aufeinandertreffen.

3. 发明授权

EP1995758B1 Monochromator und Teilchenstrahlquelle mit Monochromator 有权
标题翻译：单色仪和粒子与单色束源
公开(公告)号：EP1995758B1
公开(公告)日：2012-06-20
申请号：EP08008712.5
申请日：2008-05-09
申请人： Ceos Corrected Electron Optical Systems GmbH
发明人： Uhlemann, Stephan, Dr.
IPC分类号： H01J37/05 , H01J37/153 , H01J37/26 , H01J49/48
CPC分类号： H01J37/153 , H01J37/05 , H01J37/26 , H01J49/48 , H01J2237/057 , H01J2237/1534 , H01J2237/1538

4. 发明授权

EP2466613B1 Korrektor 有权
公开(公告)号：EP2466613B1
公开(公告)日：2017-08-02
申请号：EP11009523.9
申请日：2011-12-02
申请人： Ceos Corrected Electron Optical Systems GmbH
发明人： Zach, Joachim, Dr. , Uhlemann, Stephan, Dr.
IPC分类号： H01J37/153 , H01J37/28
CPC分类号： H01J37/153 , H01J2237/1534 , H01J2237/28 , H01J2237/2802

5. 发明公开

EP2466613A3 Korrektor 有权
标题翻译：校对
公开(公告)号：EP2466613A3
公开(公告)日：2014-12-31
申请号：EP11009523.9
申请日：2011-12-02
申请人： Ceos Corrected Electron Optical Systems GmbH
发明人： Zach, Joachim, Dr. , Uhlemann, Stephan, Dr.
IPC分类号： H01J37/153 , H01J37/28
CPC分类号： H01J37/153 , H01J2237/1534 , H01J2237/28 , H01J2237/2802
摘要： Die Erfindung betrifft einen Korrektor (10) für die Farb- und Öffnungsfehlerkorrektur bei einem Elektronenmikroskop mit im Strahlengang (7) nacheinander symmetrisch zu einer Symmetrieebene (8) angeordneten sechs Multipolelementen (1, 2, 3, 4, 5, 6), von denen alle zur Erzeugung von Quadrupolfeldern (1', 2', 3', 4', 5', 6') und das dritte (3) und vierte (4) auch zur Erzeugung von Oktupolfeldern (3", 4") dienen, wobei letztere gleichgerichtet und die Quadrupolfelder (1', 2', 3', 4', 5', 6') aller sechs Multipolelemente (1, 2, 3, 4, 5, 6) von einem zum nächsten um 90° gedreht und bezüglich Ihrer Feldstärken punktsymmetrisch zum Schnittpunkt der optischen Achse (11) mit der Symmetrieebene (8) sind, wobei durch das Zusammenwirken der als magnetische und elektrische Felder (3', 4') ausgebildeten Quadrupolfelder (3', 4') des dritten (3) und vierten (4) Multipolelements eine Farbfehlerkorrektur sowie mittels der Quadrupolfelder (1', 2', 3', 4', 5', 6') und der Oktupolfelder (3", 4") eine Öffnungsfehlerkorrektur möglich ist.
Ein solcher Korrektor (10) wird erfindungsgemäß dadurch gegenüber Schwankungen der elektrischen Energieversorgung unempfindlicher, daß im Quadrupolfeld (1') des ersten Quadrupolelements (1) ein stigmatisches Zwischenbild (9) der axialen Fundamentalbahnen (x α , y β ) entsteht und dieses Quadrupolfeld (1') derart eingestellt ist, daß astigmatische Zwischenbilder (12, 13) der außeraxialen Fundamentalbahnen (x γ , y δ ) im Bereich der Mitte der Quadrupolfelder (3', 4') des dritten (3) und vierten Multipolelements (4) entstehen und dort auch durch die Einstellung des Quadrupolfeldes (2') des zweiten Quadrupolelements (2) die axialen Fundamentalbahnen (x α , y β ) des gleichen Schnitts (x, y), in dem die Zwischenbilder (12, 13) der außeraxialen Fundamentalbahnen (x γ , y δ ) liegen, jeweils ein Maximum aufweisen.

6. 发明公开

EP1995758A2 Monochromator und Teilchenstrahlquelle mit Monochromator 有权
标题翻译： Monochromator和Teilchenstrahlquelle mit Monochromator
公开(公告)号：EP1995758A2
公开(公告)日：2008-11-26
申请号：EP08008712.5
申请日：2008-05-09
申请人： Ceos Corrected Electron Optical Systems GmbH
发明人： Uhlemann, Stephan, Dr.
IPC分类号： H01J37/05 , H01J37/153 , H01J37/26
CPC分类号： H01J37/153 , H01J37/05 , H01J37/26 , H01J49/48 , H01J2237/057 , H01J2237/1534 , H01J2237/1538
摘要： Die Erfindung betrifft einen Monochromator (1) für eine Ladungsteilchenoptik, insbesondere für die Elektronenmikroskopie, mit mindestens einem ersten Ablenkelement (2, 3) mit einem elektrostatischen Ablenkfeld (2', 3') zur Erzeugung einer Dispersion (4) in der Ebene (5) einer Selektionsblende (6) zur Selektion der Ladungsteilchen des gewünschten Energieintervalls (7) und mindestens einem zweiten Ablenkelement (8, 9) mit einem elektrostatischen Ablenkfeld (8', 9'), das die Dispersion (4) des mindestens einen ersten Ablenkfeldes (2', 3') eliminiert. Sie betrifft auch eine Strahlenquelle (17) mit einem derartigen Monochromator (1).
Eine möglichst hohe Monochromasie ohne fehlerbedingte Intensitätskontraste wird dabei dadurch erzielt, daß die Ablenkelemente (2, 3, 8, 9) derart von einer sphärischen Form abweichend ausgebildet und ihre Elektroden (24, 25) mit einem derartigen Potential (ϕ+, ϕ-) beaufschlagt sind, daß Ladungsteilchen (x α , y β ), die in verschiedenen Schnitten (x, y) jeweils unter einem Winkel (α, β) virtuell in das Bild der Strahlquelle (17) einlaufen, derart unterschiedlich fokussiert werden, daß es ausschließlich in der Ebene (5) der Selektionsblende (6) zu einer Punktfokussierung (10, 10', 10") von Ladungsteilchen (x α , y β ) einer Energie kommt, da nur dort Nulldurchgänge (11, 12) der Auslenkungen (A) der Ladungsteilchen (x α , y β ) der verschiedenen Schnitte (x, y) bei der gleichen Achsposition (z, E) aufeinandertreffen.
摘要翻译：单色器（1）具有偏转元件（2,8），使其偏离球形。负载颗粒以不同的部分在某种角度上实际上进入辐射源（17）的图像的方式不同地聚焦。负载粒子的能量聚焦点达到选择屏幕（6）的水平（5）。

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