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1. 发明申请

WO2023079148A1 OPTICAL SYSTEM, LITHOGRAPHY APPARATUS AND METHOD 审中-公开
公开(公告)号：WO2023079148A1
公开(公告)日：2023-05-11
申请号：PCT/EP2022/081002
申请日：2022-11-07
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： KRONE, Stefan , KUNZE, Kai , URBAN, Sven , TORRES DA SILVA, Philipp
IPC分类号： B81B7/00 , G03F7/20
摘要： An optical system for a lithography apparatus (1), in particular a micromirror arrangement, comprises:a plurality of actuatable individual mirrors (101-106), a vacuum-tight housing (150), and an electronics arrangement (110) which is integrated in the vacuum-tight housing (150) and configured for individual actuation of each individual mirror (101-106), wherein the electronics arrangement (110) has a plurality of electronics modules (120, 130, 200, 300), which are releasably installed in the vacuum-tight housing (150) and which each have a plurality of interconnected electronic and/or electrical components (201-206), and wherein at least one specific electronics module (120, 130, 200, 300) of the plurality thereof has a printed circuit board (PCB), on which the electronic and/or electrical components (201-206) of the specific electronics module (120, 130, 200, 300) are arranged, and wherein the printed circuit board (PCB) is arranged on a frame (330) of the specific electronics module (120, 130, 200, 300), wherein the frame (330) has at least one fastening section (134, 210, 310), which is provided to releasably install the specific electronics module (120, 130, 200, 300) in the vacuum-tight housing (150) and/or to connect the said specific electronics module to a further electronics module of the electronics arrangement (110), wherein the at least one fastening section (134, 210, 310) of the specific electronics module (120, 130, 200, 300), in the state where it is installed in the vacuum-tight housing (150), is in contact with a corresponding fastening section (152, 132) of the vacuum-tight housing (150) and/or of the further electronics module (120, 130, 200, 300).

2. 发明申请

WO2022053237A1 BAUGRUPPE EINES OPTISCHEN SYSTEMS FÜR DIE MIKROLITHOGRAPHIE 审中-公开
公开(公告)号：WO2022053237A1
公开(公告)日：2022-03-17
申请号：PCT/EP2021/072125
申请日：2021-08-09
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , BUETTNER, Paul , KRONE, Stefan , WOLFSTEINER, Thomas , LANGE, Waldemar , STUEBLER, Thomas , GISZAS, Klaus
发明人： BUETTNER, Paul , KRONE, Stefan , WOLFSTEINER, Thomas , LANGE, Waldemar , STUEBLER, Thomas , GISZAS, Klaus
IPC分类号： G03F7/20
摘要： Die Erfindung betrifft eine Baugruppe eines optischen Systems für die Mikrolithographie, mit einer ersten Komponente (130) und einer zweiten Komponente (160), wobei die erste Komponente (130) und die zweite Komponente (160) im Betrieb des optischen Systems voneinander unabhängige Funktionalitäten besitzen, welche jeweils mit einer Abgabe parasitärer Wärme einhergehen, und einer Kühleinheit mit wenigstens einem von einem Kühlfluid durchströmbaren Kanalsystem (150), wobei dieses Kanalsystem (150) derart konfiguriert ist, dass das im Kanalsystem (150) strömende Kühlfluid im Betrieb des optischen Systems parasitäre Wärme sowohl von der ersten Komponente (130) als auch von der zweiten Komponente (160) abführt, wobei das Kanalsystem (150) weiter derart konfiguriert ist, dass das im Kanalsystem (150) strömende Kühlfluid nacheinander an der ersten Komponente (130) und an der zweiten Komponente (160) entlangströmt, wobei das Entlangströmen an der ersten Komponente (130) und das Entlangströmen an der zweiten Komponente (160) in entgegengesetz- ten Richtungen erfolgt.

3. 发明申请

WO2015162092A1 VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR REGELUNG DER POSITIONIERUNG EINER VIELZAHL VON VERSTELLBAREN SPIEGEL-ELEMENTEN EINER VIELSPIEGEL-ANORDNUNG 审中-公开
标题翻译： DEVICE AND METHOD FOR控制定位后视镜装置的大量的可调节反射镜元件的各种
公开(公告)号：WO2015162092A1
公开(公告)日：2015-10-29
申请号：PCT/EP2015/058516
申请日：2015-04-20
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： HORN, Jan , HOLZ, Markus , SPECHT, Jörg , EISENMENGER, Johannes , KRONE, Stefan
IPC分类号： G02B26/08 , G03F7/20
CPC分类号： G02B7/1827 , G02B17/008 , G02B26/0841 , G03F7/70075 , G03F7/70116 , G03F7/702 , G03F7/7085
摘要： Zur Regelung der Positionierung einer Vielzahl von verlagerbaren Spiegel-Elementen ist eine externe Steuereinrichtung (64) vorgesehen, welche über einen Datenkanal mit einer Bandbreite von mindestens 1 kHz pro geregeltem Verlagerungs-Freiheitsgrad mit der Vielspiegel-Anordnung (22) verbunden ist.
摘要翻译：来控制多个被设置的外部控制装置（64）可动反射镜元件，其经由具有每与多镜阵列（22）的自由的控制翻译度至少1kHz的带宽的数据信道连接的的定位。

4. 发明申请

WO2018134130A1 COMPONENT FOR A PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
公开(公告)号：WO2018134130A1
公开(公告)日：2018-07-26
申请号：PCT/EP2018/050735
申请日：2018-01-12
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： WOLFSTEINER, Thomas , KRONE, Stefan , WIECZOREK, Volker , BERGER, Lars
IPC分类号： G03F7/20 , G02B26/08
摘要： A component (40) for a projection exposure apparatus (1) comprises a printed circuit board (63) arranged in an encapsulated housing (60) and having electronic component parts (61), and a heat conducting structure (68) for dissipating heat from the electronic component parts (61) to an outer side of the housing (60).

5. 发明申请

WO2016184670A1 SENSORANORDNUNG UND VERFAHREN ZUR ERMITTLUNG EINER JEWEILIGEN POSITION EINER ANZAHL VON SPIEGELN EINER LITHOGRAPHIEANLAGE 审中-公开
标题翻译：传感器装置和方法用于确定反射镜的数字的光刻系统的相应位置
公开(公告)号：WO2016184670A1
公开(公告)日：2016-11-24
申请号：PCT/EP2016/059766
申请日：2016-05-02
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： HORN, Jan , KRONE, Stefan , BERGER, Lars
IPC分类号： G03F7/20 , G01B11/14
CPC分类号： G03F7/70258 , G01B11/002 , G01B11/026 , G03F7/70825 , G03F7/7085
摘要： Es wird eine Sensoranordnung zur Ermittlung einer jeweiligen Position einer Anzahl von Spiegeln (M1-M6) einer Lithographieanlage (100) bereitgestellt, mit: einer Anzahl von Positionssensorvorrichtungen (140), wobei die jeweilige Positionssensorvorrichtung (140) eine Messeinheit (201) zur Bereitstellung eines optischen Positionssignals einer Position eines Spiegels (M1-M6) bei Belichtung durch einen Lichtstrahl, eine Lichtquelle (203) zur Belichtung der Messeinheit (201) mit dem Lichtstrahl, eine Detektionseinheit (204) mit einer Mehrzahl von Photodetektoren (205) zur Ausgabe eines analogen elektrischen Positionssignals durch Detektion des bereitgestellten optischen Positionssignals und eine Signalverarbeitungseinheit (207) umfasst, welche zumindest einen A/D-Wandler (208) zum Wandeln des analogen elektrischen Positionssignals in ein digitales elektrisches Positionssignals aufweist, wobei zumindest die Lichtquelle (203) und die Signalverarbeitungseinheit (207) in einer in einem Vakuum- Gehäuse (137) angeordneten integrierten Baugruppe (200) vorgesehen sind, und einer Auswertevorrichtung (304) zur Ermittlung der Position des Spiegels (M1-M6) mittels des digitalen elektrischen Positionssignals.
摘要翻译：提供了一种用于确定在一个光刻系统（100）的反射镜（M1-M6）中的相应的位置，其包括一个传感器装置：多个位置传感器装置（140），其中，所述各自的位置传感器装置（140）的测量单元（201），用于提供一个通过光束，光源（203），用于测量单元（201）与光束曝光，具有多个光电检测器（205）的检测单元（204），用于输出一模拟用于曝光的反射镜（M1-M6）的位置的光学位置信号包括由检测所提供的光学位置信号和包括至少一个A / D转换器（208），用于将模拟电位置信号转换成数字电位置信号的信号处理单元（207）的信号处理单元的电位置信号，其中至少所述光源（203）和（207）在一个在真空提供布置壳体（137）集成封装（200），和评估装置（304），用于通过将数字电位置信号的装置确定所述反射镜（M1-M6）的位置。

6. 发明申请

WO2016131758A1 BAUGRUPPE EINES OPTISCHEN SYSTEMS, INSBESONDERE EINER MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译：组件中的光学系统的，尤其是微光刻投射曝光设备
公开(公告)号：WO2016131758A1
公开(公告)日：2016-08-25
申请号：PCT/EP2016/053139
申请日：2016-02-15
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , HORN, Jan , SIGEL, Benjamin , KNAUF, Benedikt , KRONE, Stefan , SPECHT, Jörg , HOLZ, Markus , LINDNER, Ralf , BLEIDISTEL, Sascha , BART, Florian
发明人： HORN, Jan , SIGEL, Benjamin , KNAUF, Benedikt , KRONE, Stefan , SPECHT, Jörg , HOLZ, Markus , LINDNER, Ralf , BLEIDISTEL, Sascha , BART, Florian
IPC分类号： G03F7/20 , H04B5/00
CPC分类号： G03F7/70075 , G03F7/70116 , H04B5/0081
摘要： Die Erfindung betrifft eine Baugruppe eines optischen Systems, insbesondere einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, mit einer Spiegelanordnung (1 10, 210, 310, 410), welche eine Mehrzahl unabhängig voneinander verstellbarer Spiegelelemente (1 10a, 1 10b, 210a, 210b, 310a, 310b, 410a, 410b) aufweist, und einer Daten- und Spannungserzeugungseinheit (120, 220, 320, 420), welche Ansteuerungsdaten sowie eine Versorgungsspannung zur Ansteuerung einer Verstellung der jeweiligen Spiegelelemente erzeugt, wobei die Baugruppe zur galvanisch getrennten Übertragung der Ansteuerungsdaten und/oder der Versorgungsspannung von der Daten- und Spannungserzeugungseinheit (120, 220, 320, 420) an die Spiegelelemente (110a, 1 10b, 210a, 210b, 310a, 310b, 410a, 410b) ausgelegt ist.
摘要翻译：本发明涉及一种光学系统的组件，尤其是微光刻投射曝光系统的，具有包括多个独立地可调节的反射镜元件（1 110A，110B，210A，210B，310A，310B的反射镜组件（110，210，310，410）， 410A，410B），并且其产生驱动数据的数据和电压生成部（120，220，320，420），以及用于驱动各个反射镜元件的调整的电源电压，用于驱动数据的电隔离发送和/或电源电压的组件数据和电压生成部（120，220，320，420）到反射镜元件（110A，1 10B，210A，210B，310A，310B，410A，410B）的适于。

7. 发明申请

WO2023078781A1 OPTISCHES SYSTEM, LITHOGRAPHIEANLAGE UND VERFAHREN 审中-公开
公开(公告)号：WO2023078781A1
公开(公告)日：2023-05-11
申请号：PCT/EP2022/080108
申请日：2022-10-27
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： KRONE, Stefan , KUNZE, Kai , URBAN, Sven , TORRES DA SILVA, Philipp
IPC分类号： G03F7/20 , G02B26/08
摘要： Ein optisches System, mit:einer Mehrzahl von optischen Bauelementen (101) zur Führung von Strahlung (16) in dem optischen System (100),einer Mehrzahl N1 von Anordnungen (111 – 114), mit N1 ≥ 2, wobei jede der N1 Anordnungen (111 – 114) zumindest eine Aktor-/Sensor-Einrichtung (102) umfasst, welche einem der optischen Bauelemente (101) zugeordnet ist, und einer Anzahl N2 von Ansteuereinheiten (130, 130A, 130B) zum Ansteuern der Mehrzahl N1 von Anordnungen (111 – 114), mit N2 ≥ 1, wobei jeder der N2 Ansteuereinheiten (130, 130A, 130B) zumindest zwei der N1 Anordnungen (111– 114) zugeordnet sind, und wobei eine Schnittstelle (140) zum elektrischen Koppeln der jeweiligen Ansteuereinheit (130, 130A, 130B) mit den der Ansteuereinheit (130, 130A, 130B) zugeordneten Anordnungen (111 – 114) zum Übertragen jeweiliger elektrischer Signale zwischen der Ansteuereinheit (130, 130A,130B) und den jeweiligen der Ansteuereinheit (130, 130A, 130B) zugeordneten Anordnungen (111 – 114) vorgesehen ist, wobei die jeweiligen elektrischen Signale ein Datensignal und/oder elektrische Energie zum Betrieb der jeweiligen Anordnung (111 – 114) umfassen, und wobei die Schnittstelle (140) für jede der der Ansteuereinheit (130, 130A, 130B) zugeordneten Anordnungen (111 – 114) ein jeweiliges Bündel (B1 – B6) von elektrischen Leitungen aufweist.

8. 发明申请

WO2018114966A1 STEUERUNGSVORRICHTUNG ZUM ANSTEUERN EINER AKTUATOREINHEIT EINER LITHOGRAPHIEANLAGE, LITHOGRAPHIEANLAGE MIT EINER STEUERUNGSVORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUM BETREIBEN DER STEUERUNGSVORRICHTUNG 审中-公开
公开(公告)号：WO2018114966A1
公开(公告)日：2018-06-28
申请号：PCT/EP2017/083569
申请日：2017-12-19
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： KRONE, Stefan , BERGER, Lars , KIESEL, Ralf , WIJLAARS, Paul
IPC分类号： G03F7/20 , H03K7/08 , G02B7/182
摘要： Steuerungs Vorrichtung (10) zum Ansteuern einer Aktuator-Einheit (11) zum Einstellen einer Position (P) eines optischen Elements (20) einer Lithographieanläge (100A, 100B), mit einer Verstärker-Einheit (30) zum Bereitstellen eines Steuersignals (40) für die Aktuator-Einheit (11) mittels eines Spannungssignals (41) und eines PWM-Signals (42), wobei das PWM-Signal (42) ein Tastverhältnis (43) und eine Taktfrequenz (51) aufweist, und einer Modulator-Einheit (50), welche dazu eingerichtet ist, das PWM-Signal (42) mit dem Tastverhältnis (43) mit einer bestimmten Taktfrequenz (51) aus einer Mehrzahl an bestimmten Taktfrequenzen (52) bereitzustellen, wobei die jeweilige bestimmte Taktfrequenz (51) der Mehrzahl an bestimmten Taktfrequenzen (52) ein ganzzahliges Vielfaches einer Grundtaktfrequenz (f 0 ) ist, wobei die Grundtaktfrequenz (f 0 ) im Bereich von 10 kHz - 1 MHz liegt und das ganzzahlige Vielfache durch Multiplikation mit einem Faktor n bestimmt ist.

9. 发明申请

WO2016184836A1 SENSORANORDNUNG UND VERFAHREN ZUR ERMITTLUNG EINER JEWEILIGEN POSITION EINER ANZAHL VON SPIEGELN EINER LITHOGRAPHIEANLAGE 审中-公开
标题翻译：传感器装置和方法用于确定反射镜的数字的光刻系统的相应位置
公开(公告)号：WO2016184836A1
公开(公告)日：2016-11-24
申请号：PCT/EP2016/060978
申请日：2016-05-17
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： HORN, Jan , KRONE, Stefan , BERGER, Lars
IPC分类号： G03F7/20 , G01B11/14 , G01D5/26
CPC分类号： G03F7/70258 , G01B11/002 , G01B11/026 , G01B11/26 , G01D5/347 , G03F7/70825 , G03F7/7085
摘要： Es wird eine Sensoranordnung zur Ermittlung einer jeweiligen Position einer Anzahl von Spiegeln (M1 –M6) einer Lithographieanlage (100) bereitgestellt, mit einer Anzahl von Positionssensorvorrichtungen (140), wobei die jeweilige Positionssensorvorrichtung (140) eine Lichtquelle (203) zur Belichtung einer Messeinheit (201) mit einem modulierten Lichtstrahl, die Messeinheit (201) zur Bereitstellung eines optischen Positionssignals einer Position eines Spiegels (M –M6) bei Belichtung durch den modulierten Lichtstrahl, und eine Detektionseinheit (204) mit einer Mehrzahl von Photodetektoren (205) zur Ausgabe eines elektrischen Positionssignals durch Detektion des bereitgestellten optischen Positionssignals umfasst, undeiner Auswertevorrichtung (304) zur Ermittlung der Position des Spiegels (M1 –M6) mittels des elektrischen Positionssignals. Durch die Verwendung der modulierten Belichtung kann die Verlustleistung reduziert werden, und es können die Rauscheigenschaften der Positionssignale verbessert werden. Die modulierte Belichtung erlaubt damiteine gute Signalqualität bei geringer mittlerer Verlustleistung. Ferner werden ein Verfahren zur Ermittlung einer jeweiligen Position einer Anzahl von Spiegeln einer Lithographieanlage, ein Projektionssystem einer Lithographieanlage und eine Lithographieanlage bereitgestellt.
摘要翻译：本发明提供一种传感器装置，用于确定多个具有多个位置传感器装置（140），其中，所述各自的位置传感器装置（140）包括用于测量单元的曝光光源（203）光刻系统（100）的反射镜（M1 -m6）中的相应的位置（201）与一调制光束，用于在暴露于调制光束提供的反射镜（M -m6）的位置的光学位置信号的测量单元（201），和检测单元（204），其具有多个光电检测器（205），用于输出包括由所述检测光学位置信号，安达评估装置（304），用于通过所述电位置信号的装置确定所述反射镜（M1 -m6）的位置的提供了一种电动位置信号。通过使用经调制的曝光，功率损耗可以降低，并且可以提高位置信号的噪声特性。调制光曝光允许维持低平均功耗良好的信号质量。此外，用于确定在一个光刻设备的反射镜中的相应的位置的方法中，提供了光刻设备和光刻系统的投影系统。

10. 发明申请

WO2015121242A1 METHOD FOR DISPLACING AT LEAST ONE OPTICAL COMPONENT 审中-公开
标题翻译：用于移动至少一个光学元件的方法
公开(公告)号：WO2015121242A1
公开(公告)日：2015-08-20
申请号：PCT/EP2015/052733
申请日：2015-02-10
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： KRONE, Stefan , BERGER, Lars
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G02B26/0816 , G02B7/1828 , G02B27/0012 , G03F7/70075 , G03F7/70116 , G03F7/702
摘要： Method for displacing an optical component, in which the electrical power maximally required when displacing the component is less than the sum of the maximum electrical powers of the at least two actuators used for the displacement.
摘要翻译：用于移动光学部件的方法，其中当移动部件时最大限度地需要的电功率小于用于位移的至少两个致动器的最大电功率的总和。

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